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101.
硅基红外信平面阵列技术的新进展(Ⅱ) 总被引:2,自引:0,他引:2
主要介绍以硅为衬底的PbS,PbSe,PbTe,PbSnSe,HgCdTe,InSb等红外探测器焦平面阵列的新进展。 相似文献
102.
103.
国外硅单晶质量研究进展(续Ⅰ)王旗(高工),陈振,浦树德,杨晴初(西南技术物理所,成都610041)3硅金属及其它杂质3.1过渡元素的一般概况过渡元素在硅中的污染起决定作用。由于其高的固熔度,高的可动性和两性电活性而难于控制,所以,对于过渡元素的研究... 相似文献
104.
105.
新型结构的1.3μmGexSi1—x/SiMQW波导探测器的优化设计 总被引:1,自引:1,他引:0
本首次提出了一种新型的环形GexSi1-x/Si波导探测器结构,器件的主体由3μm宽的环形波导构成,器件的输入端是8μm宽的波导,这两部分通过劈形波导过渡连接,各部分经过优化设计,可以同时实现高的耦合效率和高内量子效率,对于器件的材料结构,电学和光学特性进行了仔细的分析与设计,结果表明,优化设计的器件其外量子效率可达28%,比已经报道的直波导探测器的外量子效率提高2-3倍,而上升下降时间仍然保持 相似文献
106.
107.
本文在讨论硅微电子技术发展限制基础上,提出了一个在今后30年内应该引起高度重视的“复合功能电子学”的概念,内容及其实例。 相似文献
108.
纳米科学技术将成为21世纪最重要的高技术之一。纳米技术的最终目标是直接操纵单个原子和分子,制造量子功能器件,从而开拓人类崭新的生产生活模式。文章评述利用电子束、离子束的精细技术和STM原子操纵技术的研究现状,介绍原子层蚀刻,单层抗蚀剂自形成蚀刻,纳米自然蚀刻和电子束全息纳米蚀刻等高技术前沿动态,展望纳米技术的发展前景。 相似文献
109.
简述了单昌硅压阻式传声器的结构参数设计和工艺制造技术,采用pn结自终止电化学腐蚀技术得薄且平整性较好的振膜。测试结果表明:1kHz时灵敏度为-58.4dB/Pa。 相似文献
110.