串联双环光微谐振器的滤波特性

详细研究了串联双环光微谐振器的光带通滤波特性，给出了其通带带宽的公式，分析了出／入环光耦合系数和环间光耦合系数对通带特性的影响，计算并特别强调了滤波通带的结构特点，也分析了微环中存在的光损耗对串联双环光微谐振器的滤波特性的影响。     

德科学院发明激光器可诊断早期皮肤癌

这种激光器是由柏林的马科斯-尔恩非线性光学和高速光谱研究所研制成功的。使用了一种名为“毫微微秒激光”,可用超短脉冲的形式发射出红外线。红外线刺激皮肤上的黑色素使其发出一种微弱的有色荧光。通过这种荧光医生就可判断患者皮肤癌发展到什么程度。这一项目的负责人迪特·罗伊波特说:“通过这个仪器,我们还可以准确判断某处皮肤组织从健康发展到癌的转变过程。”该仪器的样机目前正处于临床试用阶段,估计到2007年将会广泛用于临床。(No.11)德科学院发明激光器可诊断早期皮肤癌     

微电子机械系统技术与蓬勃发展的光纤通信

硅微机械技术是一种新兴技术，它几乎影响着每一个科学技术领域，如汽车、移动通信、航天、化学以及光波系统。目前许多工业领域期待选用微／纳电子机械系统来解决技术上的问题。概括地说，是用标准的集成电路技术实现的。用硅晶片作基底沉积多层膜系，如氮化物、多晶硅、氧化物和各种金属膜系，用制造集成电路的方法可以制造复杂的三维结构。然而，这种结构并不是集成电路，还要通过蚀刻去氧化物释放器件以生产出能运动的结构。在制作工艺上做细微的改变就能生产可运动的器件，诸如旋转齿轮、铰链、平台和柔性梁以及各种类型的电机。在光纤通信应用方面，微电子机械系统(MEMS)技术可制作各种组件，如数据调制器，可变襄减器、光开关、主动均衡器、插／分复用器、光学连接器、色散补偿器、全光开关、可调谐激光光源，有源元件和自适应光学元件。本文描述了用现有的标准制造设备制作出的光通信用的各种微电子机械光学元件。     

最快晶体管的频率接近太赫兹

Robert J.Mears是用于宽带互联网的铒掺杂光纤放大器(EDFA)的发明者。他在寻找将光器件和波导结合到硅中的方法时,发现了一个有趣的结果:一种特殊的硅超晶格结构可以加速某一个     

用于机械振动实时监测的光纤光栅有源传感装置

把一对中心反射波长分别为1562.11nm和1562.71nm的光纤光栅粘贴在均质、等厚、等腰三角形悬臂梁上下表面作为环形腔光纤激光器端镜，当机械振动激励自由端时，通过观测激光输出脉冲，地施加于自由端的机械振动的频率进行了实时监测；观察两光栅波长漂移量差值的变化，可在0～6.1mm的范围内判断所测振动的振幅。低于100Hz时，实验结果与实际值基本吻合。     

广义Sierpinski集

本文考察了包括平面上的各种广义 Cantor集 ,Sierpinski集和包括某些连续不可微曲线在内的广义 Sierpinski集 .由相似变换 ,导出了它们的级数表达式 ,并利用它和字符串空间的对应关系 ,计算出它们的Hausdorff维数     

Deposition of Hydrogen-Free Silicon Nitride Thin Films by Microwave ECR plasma Enhanced Magnetron Sputtering at Room Temperature

Hydrogen-free silicon nitride （SiNx） films were deposited at room temperature by microwave electron cyclotron resonance （MW-ECR） plasma enhanced unbalance magnetron sputtering system. Both Fourier-transform infrared spectroscopy and x-ray photoelectron spectroscopy are used to study the bonding type and the change of bonding structures of the silicon nitride films. The results indicate that the chemical structure and composition of SiNx films deposited by this technique depend strongly on the N2 flow rates, the stoichiometric SiNx film, which has the highest hardness of 22.9 GPa, could be obtained at lower N2 flow rate of 4 sccm.     

纳米压印光刻技术

为了避免纳米压印光刻技术与光刻技术混淆，纳米压印光刻技术严谨的专业术语定义是：不使用光线或者辐射使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或者其他衬底上利用物理学机理构造纳米级别的图形。这种纳米成像技术真正地实现了纳米级别的图形印制。     

SPME-GC-MS快速分析炼油厂废水中痕量VOCs

采用固相微萃取-气相色谱-质谱联用(SPME-GC-MS)对炼油厂废水中痕量挥发性有机化合物(VOCs)进行了定性分析,简化了预处理过程,总分析时间为1h左右.对比处理前后的废水样品的MS定性结果,为废水处理工艺的评价以及有机物降解机理提供了依据.