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21.
Nowhare 《数字通信》2006,(11):109-111
现在手机的“面子”越来越大,屏幕被硬物划伤的可能性也随着增大。尤其是一些触摸屏手机,就算不发生意外,每天的手写、触控也会让屏幕上积累出诸多划痕。于是,手机屏幕贴开始流行起来,小小一张贴纸,就能最大限度地保护手机屏幕不受损伤。对那些大屏幕、触控操作的PDA手机来说,还能凭借完好无损的屏幕在以后出手时卖个好价钱! 硅胶套则是随着iPod的流行而兴起的一种保护用具,强调时尚的用户能更喜欢花样百出的手机皮套,布套。硅胶套则是另一个极端——所有的硅胶套都是半透明的,没有什么花样,但这是手机的另一个外壳,一旦套上就无须取下,也基本上不会对正常使用造成不利影响。 硅胶套与屏幕贴,内外相济,为手机提供最妥帖的呵护。希望自己的手机用上一年半载之后还完整如新吗?那就快去选择合适的屏幕贴与硅胶套吧![编者按]  相似文献   
22.
《今日电子》2004,(6):96-96
保持电流为550mA的保护器新的LVR系列PolySwitch可复位器件的最大保持电流额定值从400mA提高到了550mA,保护电子器件免受过电流和过热故障状态所引起的损坏。电压额定值为240VAC,最高允许电压可达265VAC,能够在电源和变压器的初级端同时提供对过流和过热故障的保护。分为直脚引线和弯脚引线结构,采用卷带式包装,通过了UL、TUV和CSA认证。Tycohttp://www.tycoelectronics.com具备高阻断电压特性的扩散二极管额定电压为600V的60APU06和60EPU06铂扩散超快恢复外延二极管的铂扩散工艺精确地控制了载流子寿命;设定或调整二极管恢复速…  相似文献   
23.
硅微机械梳齿静电谐振器的建模与分析   总被引:5,自引:2,他引:3  
李宏生 《压电与声光》2002,24(5):421-424
基于参数化的计算机辅助设计(CAD)软件,对硅微机械梳齿静电谐振器进行了实体建模,以有限元分析软件为工具,进行了谐振器的模态分析,静态分析和谐响应分析,初步揭示了谐振器的静、动态特性,有助于改善设计效率和质量,展示了计算机辅助工程(CAE)技术在微机电系统(MEMS)研究中的重要作用。  相似文献   
24.
中子辐照区熔(氢)硅片经退火后在近表面形成洁净区,在硅片内部形成体内微缺陷.微缺陷的形成与中子辐照造成的损伤及单晶硅内氢杂质的催化加速有关,还与后续退火条件有关.第一步退火的温度对微缺陷的尺度有很大的影响,中低温要比高温所形成的微缺陷小.在退火过程中微缺陷有一个生长过程,1100℃退火2h微缺陷已达最大.硅片表面的粗糙度影响表面洁净区的形成,洁净区出现在未抛光面,双面抛光硅片不会形成表面洁净区.  相似文献   
25.
本文报道采用液相外延(LPE)生长和传统光刻制管工艺研制出引入多层(三层或三层以上)中间能带隙过渡的吸收区、倍增区分离的InGaAs(P)/InP雪崩光电二极管(简称InGaAs(P)/InPSAGMAPD),其技术指标为:击穿电压VB=40~90V;0.9VB时的暗电流Id最小可小于10nA;1.3μm时光响应度Re=0.6~0.8A/W,倍增因子M≥20(Mmax>40),过剩噪声因子F≌5和较宽频带响应特性。  相似文献   
26.
纳米硅薄膜界面结构的微观特征   总被引:6,自引:1,他引:5  
对使用等离子体增强化学汽相沉积法(PECVD)制备的纳米硅薄膜(nc-Si:H),使用HREM及STM技术观测了其显微结构,给出大量的界面结构图象.首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况.使我们认识到nc-Si:H膜中界面区内的硅原子仍然是具有短程有序性并不是完全无序的.  相似文献   
27.
采用静电喷雾高温分解工艺制备SnO2气敏膜,并与Si3N4-SiO2集成多层介质膜,用催化金属Pt作栅电极,制成新型的MSIS结构气敏电容。通过检测平带电压的变化,研究对H2和O2的气敏特性,分析其气敏机理并提出了检测的物理模型.  相似文献   
28.
张明  于文  张君  张远仪  王文魁 《物理学报》1996,45(10):1724-1728
利用原位X射线衍射技术得到非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散系数与退火温度的关系,调制周期L=3.2nm的非晶调制多层膜是用粒子溅射方法制备的.温度范围为423—523K的有效互扩散系数通过原位测量多层膜的一级调制峰强度与退火温度之间的关系而得到.利用缺陷陷阱延迟扩散机制解释了所得到的扩散系数与退火温度的关系.建立了可以解释较小前置系数的模型 关键词:  相似文献   
29.
30.
纹膜结构用于电容式硅微麦克风的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文提出的一种纹膜结构单硅片微麦克风,采用了硅微机械技术,且实现了麦克风电容两电极之间的自对准,大大提高了麦克风的生产效率,降低了成本.纹膜结构有降低和消除膜内应力的作用,而纹膜的三维结构使麦克风电容的有效面积有所增加,这些都显著地提高了麦克风的灵敏度,是该项新结构的关键.本文从理论和实验上对纹膜结构机械性能与结构尺寸参数之间的关系,及结构的优化进行了研究.通过对制作出的不同结构参数q值的麦克风的测试,得到了与初步理论分析基本相符的实验结果.实验证明,纹膜结构具有比相应的平膜结构高得多的机械灵敏度和麦克风  相似文献   
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