化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。     

Cu2+离子注入的石英光波导的特性研究

利用Cu2+离子注入的方式在熔融石英和石英晶体上分别制备了平面光波导结构.通过棱镜耦合实验测试了两种光波导的导模特性,结果表明:在同样的注入条件下熔融石英上形成了增加型的光波导结构,而石英晶体上形成了位垒型的光波导结构.研究了退火温度对两种光波导导模折射率的影响,熔融石英光波导中导模的折射率随着退火温度的升高而降低,而石英晶体光波导中导模的折射率随着退火温度的升高先增加后降低.为了进一步分析离子注入两种材料形成光波导的微观机理,利用SRIM模拟了Cu2+离子注入两种材料的电子能量损失和核能量损失,并且模拟了两种光波导结构的折射率分布.模拟结果表明:熔融石英光波导的主要形成原因是离子注入表面的折射率大于其体材料的折射率,而石英晶体光波导的主要形成原因是离子射程末端的折射率小于其体材料的折射率.因此,在熔融石英光波导的形成中电子能量损失起主要作用,而在石英晶体光波导的形成中核能量损失起主要作用.     

胶原在聚乳酸旋涂膜表面的吸附研究

采用石英晶体微天平(QCM)、原子力显微镜(AFM)研究了胶原在聚乳酸旋涂膜表面的吸附,考察了溶液浓度(0～9.25μg/mL)和温度(10～50℃)对胶原吸附的影响.实验结果表明,随着胶原浓度的增加,胶原在聚乳酸表面的吸附量和吸附初速率都相应增加.采用Langmuir模型和Freundlich模型拟合实验数据得到吸附等温线方程,分别为q=11690.99c1+0.99c和q=610c3.179.实验结果显示,Langmuir模型拟合效果要好于Freundlich模型.采用Lagergren拟一阶吸附速率方程和Lagergren拟二阶速率方程拟合不同浓度下的吸附动力学数据.在低浓度下Lagergren拟一阶速率方程拟合效果比较好,在高浓度下Lagergren拟二阶速率方程拟合效果比较好,说明在低浓度时扩散过程是胶原吸附的控速步骤,高浓度时胶原和聚乳酸表面的相互作用是吸附的控速步骤.原子力显微镜显示,吸附在聚乳酸表面的胶原形成网状结构.胶原的吸附受温度影响显著,说明胶原是一种对温度非常敏感的物质.实验结果表明随着温度的升高,在10～40℃范围内胶原的吸附量逐渐降低,在40～45℃范围内锐减,40℃是本实验条件下胶原的变性温度.     

基于原位电化学石英晶体微天平技术的硅基负极粘结剂性能分析

粘结剂是锂离子电池硅基负极材料的重要组成部分,与锂离子电池的性能密切相关.本研究选取两类不同作用机制的典型粘结剂聚偏二氟乙烯(PVDF)和海藻酸钠(ALG),通过原位与非原位结合的方式对不同作用机制的粘结剂对硅电极充放电过程电化学行为的影响进行了初步探讨.首先利用恒电流充放电测试、循环伏安法、交流阻抗法和扫描电子显微镜...     

成本降低封装减小MEMS市场将爆发

业界预测,MEMS（微电子机械系统）振荡器正以120％的年增长率（在某些地方是该增长率的4倍）逐渐取代石英晶体振荡器。Wicht科技顾问公司对MEMS的预测（WTC,慕尼黑,德国）,超过了YoleDevelopment公司稍早时候对MEMS代工厂的调查,当时,其预测的年增长率为30％。     

高集成度GPS芯片

GPS芯片Venus634LP的尺寸为10mm×10mm×1．2mm,内建低噪声指数放大器、表面声波滤波器、射频前级、基频处理器、0．5×10^6温度补偿振荡器、石英晶体、稳压器与被动组件。     

低抖动、双输出时钟发生器

用于高速设备的宽频率范围、双输出时钟发生器MAX3674采用低噪声VCO和PLL架构,可由片内晶体振荡器或外部LVCMOS时钟提供的低频参考时钟产生高达1360MHz的5psRMS低抖动输出时钟。其I^2C兼容接口可为频率裕量测试精调输出频率,从而极大地降低了系统测试过程的复杂度。     

Laser-Induced Damage Growth on Larger-Aperture Fused Silica Optical Components at 351nm

Laser-induced damage is a key lifetime limiter for optics in high-power laser facility. Damage initiation and growth under 351 nm high-fluence laser irradiation are observed on larger-aperture fused silica optics. The input surface of one fused silica component is damaged most severely and an explanation is presented. Obscurations and the area of a scratch on it are found to grow exponentially with the shot number. The area of damage site grows linearly. Micrographs of damage sites support the micro-explosion damage model which could be used to qualitatively explain the phenomena.     

Ultra-Stable Rubidium-Stabilized External-Cavity Diode Laser Based on the Modulation Transfer Spectroscopy Technique

We construct an ultra-stable external-cavity diode laser via modulation transfer spectroscopy referencing on a hyperfine component of the ST Rb D2 lines at 780 nm. The Doppler-free dispersion-like modulation transfer signal is obtained with high signal-to-noise-ratio. The instability of the laser frequency is measured by beating with an optical frequency comb which is phase-locked to an ultra-stable oven controlled crystal oscillator. The Allan deviation is 3.9 × 10-13 at I s averaging time and 9.8 ×10-14 at 90s averaging time.     

Design and Fabrication of an Er-Doped Silica Optical Fiber with Six Photosensitive Subcores

A type of multi-core Er-doped photosensitive silica optical fiber （MC-EDPF） is proposed and fabricated, in which a high consistency Er-doped core is surrounded by six high consistency Ge-doped cores. The multi-core design can overcome the difficulties encountered in the design and fabrication of single-core EDPFs through a modified chemical vapor deposition method combined with solution doping technology, and there is a conflict between high consistency Er doping and high consistency Ce doping. The absorption of MC-EDPFs achieved 15.876dB/m at 1550mm and lOdB/m at 98Ohm. The refleetivity of the fiber Bragg gratings （FBCs） written directly on the MC-EDPFs is as much as 96.84%.