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深亚微米工艺趋势与电子设计自动化技术 总被引:1,自引:0,他引:1
深亚微米工艺的日趋成熟为电子设计自动化提供了空前广阔的空间,也使之面临许多崭新的课题,其中,最引人注目的是快速电路模拟技术和互连问题。本文综述了这些领域的最新成就,并提出了EDA领域中若干亟待解决的课题。 相似文献
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一种改进的基于SAT的多错误诊断算法 总被引:1,自引:0,他引:1
改进了二种组合电路设计错误诊断DED(Design Error Diagnosis)算法。它使用多可满足性问题(SAT)求解技术,通过对布尔可满足解计数来实现对多个逻辑错误的诊断定位。改进了电路诊断架构,新架构的合取范武表述所使用的变量和子句数目大为减少;通过多种启发武方法,避免了不必要的操作,使算法在时间和内存上保持有效性。 相似文献
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论EDA技术的现在与未来 总被引:1,自引:0,他引:1
引言
二十世纪后半期,随着集成电路和计算机的不断发展,电子技术面临着严峻的挑战。由于电子技术发展周期不断缩短,专用集成电路(ASIC)的设计面临着难度不断提高与设计周期不断缩短的矛盾.为了解决这个问题,要求我们必须采用新的设计方法和使用高层次的设计工具.在此情况下,EDA(Electronic Design Automation即电子设计自动化)技术应运而生。 相似文献
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