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文章介绍了以MCS51系列单片机为核心的计算机控制系统,用以实现工业催化剂活性检测过程床层温度程序控制。被控对象是具有3~8分钟的纯滞后、时变、非线性特性的催化剂电加热炉,控制难度大。采用了广义最小方差自校正控制算法,具有时变滞后的极点自校正PID算法,极点对消直接PID三种算法进行了仿真与现场试验研究。前两种,由于工作过程允许的信号对系统激励不够充分,对象在线辩识有困难,试验结果表现,不能实现预期的控制要求。最终采用了极点对消直接PID算法,成功地实现了催化剂活性温度自动控制。该系统工作稳定、可靠,控制精度达到了检测标准要求。 相似文献
53.
热处理WO3电变色膜稳定性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用电子束蒸发淀积WO3薄膜。根据已有的WO3薄膜脱水过程结论而选择适当温度对薄膜进行退火处理。在大量含水的和不含水的两类Li^+电解质中进行比较性着色和消色循环实验,表明在290℃以下热退火处理能明显增加WO3薄膜在含水 电解质中的循环寿命。 相似文献
54.
微波介电陶瓷与微波磁介电陶瓷 总被引:6,自引:0,他引:6
微波陶瓷的应用越来越受到人们的重视。文章概括介绍了二元系微波介电陶瓷BaO-TiO2和微波磁性陶瓷BaO—Fe2O3,以及三元系微波磁介电陶瓷BaO—Fe2O3—TiO2的研究情况,并对预期进展作了展望。 相似文献
55.
利用低压MOCVD工艺分别在(001)取向的LaAlO3,SrTiO3和重掺杂硅单晶衬底上制备PbTiO3铁电薄膜,并通过X射线衍射谱对薄膜的微结构进行分析.X射线θ-2θ扫描显示硅衬底上得到了PbTiO3多晶薄膜,另两种衬底上得到了择优取向的PbTiO3薄膜.LaAlO3衬底上的PbTiO3薄膜有a和c两个取向,也就是薄膜中存在着90°畴结构,而生长在SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜中只存在c方向的择优取向.由于薄膜的尺度效应,发现c轴晶格常数与块材相比均缩短.X射线的φ扫描验证了后两类薄膜的外延特性,利用同步辐射的高强度和高能量分辨率用摇摆曲线方法研究了这两种外延薄膜的品质,进一步证明了SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜的单畴特性.利用重掺杂的硅衬底作底电极,测量显示直接生长于硅衬底上的PbTiO3多晶薄膜具有良好的铁电性能
关键词: 相似文献
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《现代表面贴装资讯》2005,4(3):72-72
皇家飞利浦电子公司(Philips)今天宣布已在欧洲开办第一家高清晰度多媒体接口(HDMI?)兼容产品的授权测试中心(ATC)。该中心位于法国卡昂市,是全球第三家HDMI ATC。该中心的成立将提升全球测试能力,有助于加速将HDMI兼容解决方案推向市场。此项声明标志着飞利浦致力于推动采用HDMI技术的承诺,该技术可为互联的消费者提供下一代电视的卓越图像品质。此外,HDMI还为音频和视频设备的连接以及与新的HD标准兼容的家庭影院系统的安装提供了一种简单而安全的方式。 相似文献
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5类网络电缆由四对双绞线组成,并有耐用的外套,这种电缆能为分量视频信号的传输提供一种通用而有良好性价比的选择。三个线对可以承载RGB视频信号,而第四对线可以承载音频信号、同步信号和其它传输信号。不幸的是,5类电缆缺乏屏蔽,因此容易遭受共模噪声耦合 相似文献