首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   1684篇
  免费   333篇
  国内免费   180篇
化学   254篇
晶体学   115篇
力学   101篇
综合类   10篇
物理学   320篇
无线电   1397篇
  2024年   13篇
  2023年   77篇
  2022年   88篇
  2021年   84篇
  2020年   56篇
  2019年   48篇
  2018年   38篇
  2017年   33篇
  2016年   38篇
  2015年   58篇
  2014年   108篇
  2013年   74篇
  2012年   83篇
  2011年   91篇
  2010年   102篇
  2009年   89篇
  2008年   103篇
  2007年   117篇
  2006年   92篇
  2005年   83篇
  2004年   96篇
  2003年   79篇
  2002年   91篇
  2001年   78篇
  2000年   46篇
  1999年   51篇
  1998年   32篇
  1997年   37篇
  1996年   39篇
  1995年   34篇
  1994年   27篇
  1993年   24篇
  1992年   19篇
  1991年   19篇
  1990年   24篇
  1989年   15篇
  1988年   4篇
  1987年   1篇
  1986年   4篇
  1985年   1篇
  1959年   1篇
排序方式: 共有2197条查询结果,搜索用时 311 毫秒
971.
972.
为确保继电器动作可靠和延长其使用寿命,除要严格遵守其使用规定,包括工作温度、湿度及大气压力等环境条件,触点额定电压、电流等容量参数,选择合理的线圈匝数、线径、电阻、工作电压、电流、消耗功率、吸动及释放安匝力和时间等外,继电器的正确安装,也是保证其可靠工作的必要条件。  相似文献   
973.
本文主要就PCB图形转移中液态感光至抗蚀剂及其制作工艺,工序注意事项进行论述。  相似文献   
974.
化学放大胶(ChemicallyAmplifiedResists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质。介绍了化学放大胶在电子束光刻技术中图形制作工艺的关键步骤以及目前常用的几种化学放大胶,分析了将化学放大胶用于电子束曝光工艺应注意的问题和它将来的发展趋势。  相似文献   
975.
铸铁表面抗裂耐磨激光熔敷材料的研制   总被引:5,自引:1,他引:4  
采用铁基熔敷材料 ,在不预热情况下通过调整熔敷金属Ni含量 ,改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数 ,进而抑制熔敷层裂纹的产生。在抗裂性最佳激光熔敷工艺参数基础上 ,研究了Ni对熔敷层奥氏体体积分数及表面裂纹率的影响 ,揭示了熔敷层开裂的微观机制 ,获得了搭接 2 5道熔敷层不裂的Fe C Si Ni系熔敷材料。以此熔敷材料为基础 ,改变钛粉含量 ,在熔敷层得到原位自生TiC ,研究了TiC对熔敷层耐磨性的影响 ,分析了TiC数量对熔敷层磨损形貌及磨损质量损失的影响规律 ,最终获得了可显著提高熔敷层抗裂性及耐磨性的Fe C Si Ni Ti熔敷材料。  相似文献   
976.
在肖特基半桥产品的部封装工艺,烧结是影响总和质量和主要工序,而在烧结过程中,烧结温度又是最主要的因素。  相似文献   
977.
978.
应用环境扫描电子显微镜研究砂岩储层的酸蚀   总被引:2,自引:0,他引:2  
砂岩基质酸化技术是石油工业中油气井、注水井增产增注的有效手段之一,砂岩基质酸化酸岩反应和二次伤害机理研究是优选酸液体系与优化酸化设计的基础,环境扫描电子显微镜是进行此项研究的重要工具,它具有对含有油水岩心经酸浸泡或岩心酸化流动试验前后进行实体定位对比...  相似文献   
979.
对硅片进行无抗蚀膜光化学蚀刻的一种新方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的新方法 ,使用过氧化氢 (H2 O2 )和氟酸 (HF)作为光化学媒质 ,使用ArF紫外激光作为光源 ,无需事先加工抗蚀膜 ,可直接在硅表面进行蚀刻。在H2 O2 与HF的浓度比为 1.3时 ,蚀刻效果最佳 ,当激光能量密度为 2 9mJ/cm2 ,照射脉冲数为 10 0 0 0次时 ,得到 2 10nm的蚀刻深度  相似文献   
980.
金属管壳是集成电路封装中的一种重要形式,其气密性是一项重要的考核指标。国内复杂结构金属外壳的气密性问题没有解决。本文结合一种产品进行了失效分析,结果表明玻璃熔封和玻璃—金属结合区的质量是影响气密性的关键因素。要解决气密性问题应提高玻璃粉的质量,改进熔封工艺,增加金属的预氧化工序。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号