LCD液晶显示器生产中液晶灌注腔体内表面处理简介

在液晶显示器(LCD)生产中,液晶的灌注是最重要的部分,而且液晶灌注时对环境的要求很严格,必须对灌注腔体内表面进行进一步处理。通过对灌注腔体内壁采用机械抛光和电化学抛光相结合的办法,使得灌注腔体内表面形成一层钝化膜,方便清洁、不易吸附杂质、不易脱落金属颗粒,满足了液晶灌注的要求,方便了液晶显示器的生产。     

二维等离子体填充金属光子晶体腔体特性

设计了等离子体填充的二维金属光子晶体特殊开放腔体结构,并采用粒子模拟技术(PIC)建立了基于等离子体填充腔体结构物理模型,分析了等离子体填充下二维腔体的各模式场分布特性,以及等离子体的引入对腔体内各模式工作频率、电场幅值的影响。结果表明:腔体内各模式的电场强度随等离子体密度的增加而减弱,模式频率随背景等离子体归一化频率的提高而增加,工作模式的产生与激励方式密切相关。     

基于随机耦合模型的系统级电磁环境效应分析

通过宽频带电磁环境下计算机机箱关键部位感应电压统计分布的实验验证和基于随机矩阵理论的耦合模型的理论计算研究,给出了随机耦合模型(RCM)的应用流程和计算方法;就散射系数、归一化散射和归一化阻抗矩阵的统计特性进行了理论和实验研究,实验测量结果与理论分析结果非常一致;针对RCM的应用进行了初步分析,验证了随机耦合模型在复杂电磁环境下系统级效应分析和预测的适用性。结果证明此方法尤其适用于大型的具有非平行面封装腔体电子设备的电磁兼容、效应及评估等研究。     

基于CPCI总线的涂胶台工控机维修

阐述了一般工控机的定义和组成,介绍了CPCI工控机的特点和优势,以涂胶台为例,讲述了CPCI工控机的具体组成结构及功能,根据维修经验,对工控机蓝屏、通讯问题等典型故障的解决方法进行了分析说明。     

三维曲面腔顶盖驱动流的MRT-LBM研究

采用多松弛时间格子玻尔兹曼方法(MRT-LBM)的D3Q15模型分别对长方体腔、圆柱腔、半圆柱腔、旋转双曲面腔、旋转椭球面腔、半球腔以及两种组合腔体的三维顶盖驱动腔流进行数值模拟, 比较分析各腔体内流线分布、流速等值线分布和涡心的发展, 对于典型腔体模拟不同雷诺数下的流动情况。结果表明: 在同一雷诺数下, 曲面边界不仅能消除从边界产生的次涡, 还会导致腔内主涡的分离, 增大中心纵剖面纵向回流速度; “上长方体+下半圆柱”腔内流函数分布与边界贴合度最高。当雷诺数不断增大时, 半圆柱腔内主涡逐渐分离成两个同向涡, “上圆柱+下半球”腔内始终保持着圆柱腔与半球腔内的基本流动特征; 而长方体腔内主涡涡心保持在同一高度, 次涡逐渐增强, “上长方体+下半圆柱”腔内流动愈加规则, 主涡逐渐下沉, 流速等值线分布逐渐趋于中心小、四周大。     

TBH522型150KW短波发射机FPGA光耦控制板故障分析与处理

从TBH522型PSM150KW自动化改造出发,针对发射机自动调谐FPGA系统中出现的腔体控制故障,结合FPGA控制板光耦电路工作原理,对腔体控制故障进行分析,并介绍了处理和解决故障的经验。     

用μwave Wizard软件设计腔体交指滤波器

基于μwave Wizard软件仿真腔体交指滤波器的方法,设计了一个中心频率为5.52 GHz,带宽为1.4 GHz的交指滤波器,并采用矩形杆抽头线结构实现。制作的滤波器插损小于1.5 dB,驻波比小于1.7,带外抑制大于40 dB(f0±1 GHz),具有优良的带通特性。给出滤波器的实测曲线和仿真曲线,两者的一致性较好。     

高速加工及其在微波工件加工中的应用

本文论述了切削原理和高速加工机床的发展,介绍了高速切削（HSC）的特点、高速加工对机床的要求以及高速加工在微波工件加工中的应用。     

宽带同轴腔体滤波器的设计

首先分析了宽带滤波器的制作难点,利用同轴腔体的形式实现了一款宽带带通滤波器,并通过加载电容的原理实现了滤波器的小型化。最后通过仿真软件CST设计了中心频率4.24GHz,带宽为44.3%的宽带滤波。结果表明,滤波器实物在整个频带内电压驻波比、带外抑制良好,满足手持雷达装置使用要求。     

光刻技术的现状和发展

着重从涂胶、曝光(包括光源和曝光方式等)、光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和未来的发展趋势.