不同工艺条件下TiO2单层膜的吸收和损伤阈值测试

利用电子束热蒸发技术在不同氧分压和烘烤温度下镀制了一系列TiO2单层膜,采用表面热透镜技术测量了样品在1064nm处的弱吸收值,并用激光损伤测试平台测量了样品的抗激光损伤阈值(LIDT)特性。实验结果表明较高的氧分压和较低的烘烤温度能显著减小薄膜的吸收值。不过薄膜在基频下的损伤阈值除了受到薄膜吸收值的影响外,还取决于基底表面的杂质密度,当薄膜吸收较大时,本征吸收对损伤破坏起到主要作用;随着薄膜的吸收逐渐减小,基底表面处的缺陷吸收逐渐取代本征吸收成为影响薄膜损伤阈值的主导因素。     

加压下煤的着火特性的研究 Ⅰ.着火特性的影响因素

采用带程序升温控制的、可在加压下测定煤着火特性的装置,在程序升温速度(7.5℃/min)和加压条件下,测定了影响煤和煤焦着火特性(着火温度与燃烧时间)的各种因素,这些因素包括煤的粒度、试样质量、空气流量、系统压力和氧分压等。试验表明,这些因素的影响与煤中挥发份有一定的关系,着火温度和燃烧时间随总压或氧分压增加而下降。     

携氧/释氧分析仪氧分压和血氧饱和度计量校准方法

为实现半氧饱和度分压的计量溯源性,评价携氧/释氧分析仪的性能,分别建立氧分压和血氧饱和度的计量校准方法。根据国际临床化学和实验室医学联盟文件标准,以去离子水为样品,国家一级标准物质气体为气源建立氧分压参考测量方法。根据美国临床实验室标准协会C46-A2相关文件以及多功能血气分析仪中血氧饱和度示值的计量校准方法,以牛血红蛋白溶液为样品,使用高精度酶标仪建立血氧饱和度测量方法。氧分压相对示值误差分别为-2.82%和-1.35%,变异系数（CV）分别为0.31%和0.74%;血氧饱和度测量数据为（96.83±0.85）%,变异系数为0.88%,携氧/释氧分析仪测量结果为（96.68±0.67）%,变异系数为0.69%。该方法可分别实现氧分压和血氧饱和度的量值溯源,确保测得的P50值的计量溯源性。     

氧分压影响SnO2气敏传感器响应的机理

本文报道了一种ＳｎＯ２气敏传感器感机理的新模型。ＳｎＯ２晶粒表面势垒由３个过程控制：（１）氧吸附（作电子受主）和脱附，（２）还原性气体附（作电子施主）和脱附，（３）表面氧化还原反应。据此可以很好地解释实验中发现的氧化压对气敏传感器响应的影响。     

高温热处理气氛对低氟MOD法制备YBCO超导薄膜的影响研究

金属有机物沉积法(MOD)制备YBa2Cu3O7-x(YBCO)涂层导体是最具有商业前景的方法之一.本文使用环烷酸铜代替三氟乙酸铜,降低了前驱液中大约50%的氟含量.然后在带有缓冲层(Y2O3/YSZ/CeO2)的Ni-5at.%W基带上采用MOD法制备了YBCO薄膜并系统研究了高温热处理过程中气体流速和氧分压对YBC...     

磁控溅射中生长参数对氧化锌薄膜性能的影响

介绍了氧化锌的应用和制备方法 ,着重研究了磁控溅射中各生长参数如衬底温度、氧分压及工作压强对氧化锌薄膜结晶质量和电学性能的影响     

氧分压对射频溅射制备ZTO沟道层的薄膜晶体管器件性能的影响

以锌锡氧化物(ZTO)薄膜作为沟道层,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜作为介质层低温(100℃)制备了顶栅共面结构的薄膜晶体管(TFT),并研究了ZTO沟道层成膜过程中氧分压对器件性能的影响。结果表明,ZTO沟道层具有稳定的非晶结构、较高的可见光透明性(在400~700nm范围内平均透过率大于等于89.61%),且增大氧分压有利于其可见光透明性的提升。霍尔测试结果表明,增大氧分压(由3.5×10-2Pa增大到7.5×10-2Pa)会降低ZTO电子载流子浓度(由4.73×10¹⁵cm-3降低到6.11×10¹²cm-3),致使基于ZTO沟道层TFT器件的能耗降低(表现为关态电流的降低和耗尽型器件阈值电压的正向移动)。此外,增大氧分压还有益于沟道层/介质层界面状态的优化,即亚阈值摆幅减小。     

不同氧分压下ZrO2薄膜特性研究

在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法生长了氧化锆薄膜.通过扫描探针显微镜、分光光度计、X射线衍射、激光损伤阈值(LIDT)测量等,研究了沉积中氧分压对ZrO2薄膜的微结构、光学性质、激光损伤阈值等的影响.