首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   1355篇
  免费   389篇
  国内免费   447篇
化学   137篇
晶体学   23篇
力学   41篇
综合类   37篇
数学   10篇
物理学   938篇
无线电   1005篇
  2024年   4篇
  2023年   18篇
  2022年   19篇
  2021年   27篇
  2020年   24篇
  2019年   22篇
  2018年   10篇
  2017年   35篇
  2016年   20篇
  2015年   31篇
  2014年   41篇
  2013年   35篇
  2012年   39篇
  2011年   48篇
  2010年   54篇
  2009年   74篇
  2008年   98篇
  2007年   86篇
  2006年   107篇
  2005年   90篇
  2004年   125篇
  2003年   71篇
  2002年   77篇
  2001年   80篇
  2000年   61篇
  1999年   69篇
  1998年   61篇
  1997年   64篇
  1996年   76篇
  1995年   76篇
  1994年   91篇
  1993年   67篇
  1992年   56篇
  1991年   95篇
  1990年   78篇
  1989年   88篇
  1988年   12篇
  1987年   3篇
  1986年   3篇
  1985年   12篇
  1984年   2篇
  1983年   5篇
  1982年   1篇
  1981年   28篇
  1980年   5篇
  1979年   1篇
  1975年   2篇
排序方式: 共有2191条查询结果,搜索用时 250 毫秒
71.
本文提出了一个改进的二维离子注入模型.对于在任意形状掩蔽边界下的离子注入分布,我们在纵向采用联结的半高斯分布或修改过的Pearson-IV分布,在横向采用余误差函数分布,并且考虑了在多层掩蔽情况下各种材料阻止本领的不同.利用这一模型发展起来的离子注入模拟器能连续计算多次不同能量、剂量和杂质类型的注入分布,并考虑了多种不同掩蔽边界的影响.通过与其它工艺模拟器的比较,表明我们的模拟器在精度和功能上都有明显的改进.  相似文献   
72.
本文研究了SiO_2掩蔽膜硼离子注入硅的卤钨灯辐照快速退火,测量了注入层表面薄层电阻与退火温度及退火时间的关系,得到了最佳的退火条件。对于采用920(?)SiO_2膜,25keV、1×10~(15)cm~(-2)的~(11)B离子注入样品,经不同时间卤钨灯辐照退火后,测量了注入层的载流子浓度分布,并与950℃、30分钟常规炉退火作了比较。结果表明,卤钨灯辐照快速退火具有电激活率高、注入杂质再分布小以及快速、实用等优点。  相似文献   
73.
室温下用2.8MeV氦离子注入在掺铈铌酸锶钡晶体上形成了平面光波导。用棱镜耦合法观察到了波导的暗模。计算的折射率分布表明在离子注入产生的损伤层中晶体的折射率减小,其中正常折射率减小约3.42%,反常折射率减小为2.55%。由PIPR方法拟合的波导中的折射率分布与TRIM’96给出的注入离子的密度分布基本一致。两波耦合实验表明离子注入可以延长折射率光栅的擦除时间。  相似文献   
74.
为对SIMOX SOI材料进行抗总剂量辐照加固,可向材料的埋氧(BOX)层中注入一定剂量的氮元素。但是,研究发现,注氮埋层中的初始电荷密度皆为正值且密度较高,而且随着注氮剂量的增加而上升。注氮埋层中较高的正电荷密度可归因于氮在退火过程中在Si-BOX界面的积累。另外,与注氮埋层不同的是,注氟的埋层却显示出具有负的电荷密度。为得到埋层的电荷密度,测试用样品制成金属-埋氧-半导体(MBS)电容结构,用于进行高频C-V测量分析。  相似文献   
75.
通过数值求解含时薛定谔方程,研究了氦原子具有对称空间波函数的1s2s 1S态和具有反对称空间波函数的1s2s 3S态分别作为初态的双光子双电离过程. 结果表明,对于初态为单重态1s2s 1S的双光子双电离过程,两个电离电子的能量分布随激光脉冲持续时间的增加呈现由单峰到双峰的变化,这里的单峰和双峰分别意味着两个电离电子主要携带相等和不等的能量;然而对于初态为三重态1s2s 3S的双光子双电离过程,两个电离电子的能量分布随激光脉冲持续时间的增加总是保持双峰结构. 这些结果表明当原子的初态处于反对称空间波函数时,两电子的空间密度分布具有较少的重叠,从而导致电子在超短激光脉冲中电离时电子关联能无法平均分配.  相似文献   
76.
利用离子注入方法和光致发光技术系统研究了注入离子对n型GaN宽黄光发射带的影响.实验采用的注入离子为:N,O,Mg,Si和Ga,剂量分别为1013,1014,1015和1016/cm2,注入温度为室温.注入后的样品在900 ℃流动氮气环境下进行热退火,退火时间为10 min,并对退火前后的样品分别进行室温光致发光测量.通过实验数据的分析,独立提出了提取注入离子对晶体黄光发光特性影响的半经验模型.利用该模型导出的公式,可以确定注入的N,O,Ga,Mg和Si离子对黄光发射带的影响随注入剂量的变化关系以及该影响的相对强弱. 关键词: 氮化镓 光致发光谱 离子注入  相似文献   
77.
室温下在单晶Si中注入(0.6—1.5)%的C原子,利用高温退火固相外延了Si1-xCx合金,研究了不同注入剂量下Si1-xCx合金的形成及其特征.如果注入C原子的浓度小于0.6%,在850—950℃退火过程中,C原子容易与注入产生的损伤缺陷结合,难于形成Si1-xCx合金相.随注入C原子含量的增加,C原子几乎全部进入晶格位置形成Si1-xCx 关键词: 1-xCx合金')" href="#">Si1-xCx合金 离子注入 固相外延  相似文献   
78.
王欣欣  张颖  周洪波  王金龙 《物理学报》2014,63(4):46103-046103
采用第一性原理计算方法系统研究了合金化元素铌(Nb)对钨(W)中氦(He)溶解和扩散行为的影响.研究发现,Nb的存在显著降低了He在W中的溶解能,Nb可以作为W中He捕陷中心,在最稳定位置处Nb对He的捕陷能达到0.37 eV.通过电荷分析发现,这主要是因为Nb的存在引起了W中电荷密度的重新分布.而He在W中的扩散能垒将随着He—Nb间距离的缩小逐渐降低,这从动力学上表明He被Nb捕陷是可行的.因此,Nb的存在将有利于W中He的聚集成泡.  相似文献   
79.
陈敏 《物理学报》2011,60(12):126602-126602
采用分子动力学方法模拟了不同温度下He原子及He团簇在金属Ti中的迁移特性,并计算了扩散前系数和激活能. 研究发现这种扩散的各向异性非常显著,具体表现在He原子及He团簇在不同方向上扩散系数的前系数完全不同,但它们的激活能却相同. 研究表明:在预测金属中He的扩散行为时,必须采用动态模拟方法才能得到准确的前系数,仅仅考虑势垒的静态模拟方法是不行的. 另外,还发现一个不同于直觉的现象,即较低温度下He二聚物的扩散系数比单个He原子的扩散系数大;此外,在所模拟的温度范围内Arrhenius方程能够很好地描述它们的扩散. 这说明动力学模拟对预测金属中He的扩散行为具有重要的意义. 关键词: 分子动力学 扩散系数 各向异性 氦  相似文献   
80.
本文在束-气条件下研究了亚稳态原子He(2^3S)与CH2Cl2间的传能反应,测得了由该反应产生的CH(A^2△-X^2П),CH(B^2∑^-X^2П)CH(C^2∑^+-X^2П)和H原子(Balmer系)的化学发光光谱。通过对CH(A,B)的光谱进行计算机模拟,推测出初手的CH(A^2△,v^1=0-2)态振动分布为No:N1:N2=100:40±5:19±2,CH(A^2△,v^1=0-0  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号