100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的发展

阐述了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的功能与构成，并通过对国内外100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的技术现状的分析，总结出了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台所包含的各项关键技术，为100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的研制奠定了基础。     

链环的trip矩阵

ZULLI L首先构造了一个用于计算纽结Kauffman尖括号多项式的模2矩阵,纽结的trip矩阵.为了构造链环的trip矩阵,引入了一个带标识的穿有m个孔的圆盘来取代纽结情形下的圆盘,其中m为链环的分支数.主要结果为:定理若状态S是从状态AA…A经过i1,i2,…,ip位置上的标记替换(A换成B)而得的状态.设Ts是将trip矩阵T的左上角的n×n子块中ai1i1,ai2i2,…,aipip之值进行替换(0→1或1→0)所得的矩阵,则#(L|S)=n+m-秩(Ts).因此计算链环Kauffman尖括号多项式就归结为计算一组模2矩阵的秩.     

LCoS专题会议纪要（摘要）

2005年7月21~22日,中国电子视像行业协会大屏幕投影显示设备分会于北京朝阳宾馆召开了LCO S专题会议,有80多位代表出席了会议。赵汉鼎秘书长致开幕词指出,这次会议的目的是交流LCoS微显示技术进展与发展趋势,研讨如何加快我国LCoS微显投影设备产业的发展,给投资与合作者提供平台,加强LCoS联盟的建设,协调单片LCoS背投的进度。会议还讨论通过了调整后的LCoS联盟章程,征求意见稿,并要求承担单片50英寸超薄型背投配套任务的单位按时完成任务。与会代表认为,LCoS投影系统是集D LP与LCD优点于一身的技术,具有性价比好、投资少以及收…     

全内反射荧光显微术应用于单分子荧光的纵向成像

利用这种显微术中激发场的纵向强度呈指数衰减的分布特性，测得的荧光强 度将强烈依赖渗透深度（强度衰减到1/e时的距离），从而快速直接的确定单分子荧光 团间的纵向间隔、每个荧光团的纵向绝对位置和荧光团的半径大小，即实现荧光分子三维分 布的重构.在整个重构的过程中，只需要改变一次入射角的大小，即只需探测两幅荧光分子 的全内反射成像. 关键词： 全内反射荧光显微术 纵向重构     

WaferMasters推出表面光度测量系统OSP-300提供非破坏性晶圆表面表征

领先的晶圆处理技术及设备供应商WaferMas-ters Inc.近日宣布推出激光光学表面光度系统OSP-300。该系统可提供内嵌式非接触表面轮廓表征，用于各个工艺步骤问，该产品可用于研发和生产。     

线性均衡约束最优化的一个广义投影强次可行方向法

本文讨论带线性均衡约束最优化问题,首先利用摄动技术和一个互补函数将问题等价转化为一般约束最优化问题,然后结合广义投影技术和强次可行方向法思想,建立了问题的一个新算法.算法在迭代过程中保证搜索方向不为零,从而使得每次迭代只需计算一次广义投影.在适当的条件下,证明了算法的全局收敛性,并对算法进行了初步的数值试验.     

走近纳米科技

 纳米科技于20世纪70年代兴起,进入21世纪越来越被大家耳熟。纳米科技在促进科技进步,提高社会文明程度,改善人类生存质量,更新对物质世界的认知及观念上扮演了举足轻重的角色。纳米是长度单位。一纳米为一米的十亿分之一,如果你的拇指指甲盖宽14毫米,这个比例就相当于拇指指甲盖宽度与地球直径间的比例。纳米科技所接触、研究、开发的是100纳米～0.1纳米范围内物质的性质和应用。一个分子或一个原子大小的数量级大致在10纳米。因此,纳米科技也可以说是在分子水平上观察、分析、研究物质的物理、化学性质并加以开发利用。     

THE RELATIONSHIP BETWEEN PROJECTIVE GEOMETRIC AND RATIONAL QUADRATIC B-SPLINE CURVES

For two rational quadratic B-spline curves with same control vertexes, the cross ratio of four eollinear points are represented; which are any one of the vertexes, and the two points that the ray initialing from the vertex intersects with the corresponding segments of the twocurves, and the point the ray intersecting with the connecting line between the two neighboring vertexes. Different from rational quadratic Beeier curves, the value is generally related with the loeation of the ray, and the necessary and sufficient condition o5 the ratio being independent of the ray‘s loeation is showed. Alsn another cross ratio o5 the following four collinear points are suggested, i.e. one vertex, the points that the ray from the initlal vertex intersects respectivdy with the curve segmentt the line connecting the segments end points, and the line connecting the two neighboring vertexes. This cross ratio is concerned only whh the ray‘s location, butnot with the weights of the curve. Furthermore, the cross ratio is projective invariant under the projective transformation between the two segments.     

最大熵重建的迭代凸I投影算法

本文探讨了用迭代凸Ｉ投影（ＩｔｅｒａｔｉｖｅＣｏｎｖｅｘＩ－Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ，ＩＣＩＰ）算法求解最大熵Ｘ－ＣＴ重建问题．其思路是将这个复杂问题转化为多个简单子问题，然后迭代地求解这种单约束子问题．理论证明，这种算法收敛并能收敛到问题的最大熵解．这种算法形式优美，仿真结果表明算法同时也是有效的．     

求解一类变形变分不等式的投影收缩算法及其性质

对一类变形的变分不等式：求，使得提出了一类投影收缩算法，并得到了该算法的收敛性及相关性质．