换个角度讲解"uL=-eL"

对纯电感电路，中等职业学校教材是这样分析“uL=-eL”：电路图如图1所示，假定通过线圈的电流是按初相等于零的正弦交流电，即i=Im sinωt，它将产生自感电动势eL，根据图1所假定的电压uL、小自感电动势eL、电流i的正方向，运用基尔霍夫回路电压定律，沿回路顺时针（或逆时针）方向绕行一周，     

激光晶体Nd:YVO4的形貌及生长缺陷

本文报道了应用环境扫描电镜（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的分析,获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的（001）面的同步辐射白光形貌像,观察到了位错、包裹物等缺陷,可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示.     

用"更相减损术"求最大公因式

“更相减损术”是我国古代数学中求二整数最大公因数的方法 .古典名著《九章算术》卷一在谈到分数分子分母约去公因数有“置分母子之数 ,以少减多 ,更相减损求其等也 .以等数约之 .”这里的“等数”就是所说分母分子的最大公因数 .所谓“更相减损求其等”就是置两个整数 ,以少减多 ,反复相减 ,直到二数相等就得到它们的最大公因数 .例如 ,求 91 ,49的最大公因数(91 ,49) .我们有(91 ,49) =(91 -49,49) =(4 2 ,49)=(4 2 ,7) =…… =(7,7) =7刘徽说 :“其所以相减者 ,皆等数之重叠 .”数91 ,49都是等数 7的重叠 .对于初学者来说 ,“更相减损求…     

Application of Hilbert＇s Projective Metric on Symmetric Cones

Let Ω be a symmetric cone. In this note, we introduce Hilbert＇s projective metric on Ω in terms of Jordan algebras and we apply it to prove that, given a linear invertible transformation g such that g（Ω） = Ω and a real number p, ｜p｜ 〉 1, there exists a unique element x ∈ Ω satisfying g（x） = x^p.     

运营商主导TD-LTE标准：中国4G战略轮廓渐清

目前TD-SCDMA和TD-LTE的发展趋势，体现了国际通信产业格局的重大变化，表明我国在标准化、产业化等方面的话语权正在逐步增加。     

奥爱斯"BS系列"地拉式银幕移动演绎的好帮手

目前，投影机的运用越来越普遍，无论在商务、文教、医院、媒体、还是娱乐等场合，采用能带来高清晰大画面投影机的比比皆是。除了投影机自身素质会决定投影效果之外，投影幕也对投影效果起着举足轻重的作用。通常所见的天花板吊装电动式或手动式投影幕，比较合适装置于固定场所，如私     

薄膜--支撑投影显示市场的发展

从数字成像到生物技术应用领域，器件光谱响应调制方法的简单化使零件设计者的工作更加游刃有余。     

LCoS专题会议纪要（摘要）

2005年7月21~22日,中国电子视像行业协会大屏幕投影显示设备分会于北京朝阳宾馆召开了LCO S专题会议,有80多位代表出席了会议。赵汉鼎秘书长致开幕词指出,这次会议的目的是交流LCoS微显示技术进展与发展趋势,研讨如何加快我国LCoS微显投影设备产业的发展,给投资与合作者提供平台,加强LCoS联盟的建设,协调单片LCoS背投的进度。会议还讨论通过了调整后的LCoS联盟章程,征求意见稿,并要求承担单片50英寸超薄型背投配套任务的单位按时完成任务。与会代表认为,LCoS投影系统是集D LP与LCD优点于一身的技术,具有性价比好、投资少以及收…     

WaferMasters推出表面光度测量系统OSP-300提供非破坏性晶圆表面表征

领先的晶圆处理技术及设备供应商WaferMas-ters Inc.近日宣布推出激光光学表面光度系统OSP-300。该系统可提供内嵌式非接触表面轮廓表征，用于各个工艺步骤问，该产品可用于研发和生产。     

线性均衡约束最优化的一个广义投影强次可行方向法

本文讨论带线性均衡约束最优化问题,首先利用摄动技术和一个互补函数将问题等价转化为一般约束最优化问题,然后结合广义投影技术和强次可行方向法思想,建立了问题的一个新算法.算法在迭代过程中保证搜索方向不为零,从而使得每次迭代只需计算一次广义投影.在适当的条件下,证明了算法的全局收敛性,并对算法进行了初步的数值试验.