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91.
两种铽配合物与PVK混合体系的发光机理研究 总被引:4,自引:2,他引:2
研究了稀土配合物Tb(p-MBA)3phen(样品Ⅰ)和Tb(p-ClBA)3phen(样品Ⅱ)与导电聚合物材料PVK掺杂体系的光致发光和电致发光特性。发现在样品Ⅰ与PVK混合薄膜的光致发光中,除了三价铽离子的发光外,还能看到明显的PVK的发光;而在电致发光中,PVK的发光完全被抑制,只能看到Tb3+的绿光发射。对样品Ⅱ与PVK的混合发光层,无论其光致发光谱还是电致发光谱,都没有看到410 nm处PVK的发射。进一步测量两种材料的激发光谱,初步探讨了器件的发光机理。样品Ⅰ的发光可能来源于两个方面,一是PVK到稀土配合物的不完全的能量传递,二是由于载流子俘获机理;样品Ⅱ的发光则是由于PVK到稀土配合物的完全的能量传递。 相似文献
92.
93.
介绍了一种高速7位DAC的设计及芯片测试结果,该DAC选取高5位单位电流源,低2位二进制电流源的分段结构。考虑了电流源匹配、毛刺降低以及版图中误差补偿等方面的问题来优化电路。流片采用0.35μmChartered双层多晶四层金属工艺,测试结果表明在20 MH z的采样频率下,微分非线性度和积分非线性度分别小于±0.2 LSB和±0.35 LSB。该DAC的满幅建立时间是20 ns,芯片面积为0.17 mm×0.23 mm。电源电压为3.3 V,功耗为3 mW。 相似文献
94.
在J-TEXT托卡马克上研制了一套高速单色成像系统用于研究等离子体杂质行为与磁流体力学(MHD)不稳定性之间的关系.用STRAH代码模拟估算了碳杂质(CV227.09nm,CIII464.7nm)辐射强度.采用光纤耦合方法设计了系统光路结构,光路覆盖高场侧区域0.3a~0.95a(a为小半径),其空间分辨率为1.3cm... 相似文献
95.
Andrew Campbell 《IT时代周刊》2006,(23):76-77
大部分企业在进入新事业时都遭遇了失败。除了受机遇短缺和固有风险等不可抗拒因素影响外;还有一些悲剧原本可以规避,因为它们缘自管理者思考工作的方式 相似文献
96.
97.
制备高质量锑化铟(InSb)单晶是发展大规模红外焦平面器件以及新型高温红外探测器衬底材料的关键。而在用直拉法生长InSb的过程中,表面杂质的出现会严重影响成品率。利用X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)技术研究了生产中InSb晶体表面杂质膜层的成分,分析了其主要来源及造成的影响,并采取相应工艺措施进行了改进。结果表明,InSb晶体表面杂质膜层的主要成分为In2O3、Sb2O3和Sb2O5三者的混合物以及碳沾污,其厚度不超过40 nm。通过对单晶炉处理和保护气氛的工艺优化,表面杂质大大减少,为获得高质量晶体奠定了基础。 相似文献
98.
本文介绍了一种分析裂化气中杂质烃的方法。所建分析系统由填充玻璃毛细管柱和填充预柱各一根、阀和FID各一个组成。采用一次进样、外标法定量,约30分钟即可完成测定裂化气中低至0.5ppm含量的痕量C_2~C_4炔和二烯。方法适用围范至少是0.5ppm~1%。当样品含量为1~5 ppm时,相对标准偏差小于50%。 相似文献
99.
碳酸二苯酯中微量杂质的高效液相色谱分析 总被引:10,自引:0,他引:10
碳酸二苯酯和双酚A产生酯交换和缩聚反应,制得聚碳酸酯.聚碳酸酯耐压、透明性好,在机械制造、电子电器、军事及照明工业.安全与医疗器械等许多方面有着广泛的用途,是一种性能优良的工程塑料.聚碳酸酯的色泽与许多因素有关.由于原料碳酸二苯酯在制造过程中,一些沸点与之相近的杂质极易残留在产品里.要想得到高质量的聚碳酸酯,必须使其每一种杂质含量控制在100μg/g以下.至今未见报道同时检测碳酸二苯酯中3种微量杂质的分析方法.因此,本文结合单位工艺研究建立了一种用液相色谱进行分析的方法. 相似文献
100.
精TiCl4中的CCl3 COCl、CHCl2 COCl、CH2 ClCOCl、CS2和CCl4等痕量有机杂质具有明显差异的红外光谱特征,因而能够利用红外光谱实现同时测定.然而精TiCl4与空气中的水气接触后极易发生水解反应,生成强腐蚀性的盐酸烟雾,不能使用常规的红外液池进行测定.该文研究设计出波数范围为7 800 ~ 440 cm-的硒化锌窗片((φ)25 mm×2 mm)和聚四氟乙烯池体(10 mm光程)组装式红外液池装置,采用标准加入法测定精TiCl4中的杂质含量.CCl3 COCl、CHCl2COCl、CH2ClCOCl、CS2和CCl4的检出限分别为3.159×10-3、1.917×10-3、1.554×10-2、5.707×10-3、3.769×10-1 mg·g-1.此组装红外液池装置具有安全、简便、易拆洗、不易损坏、可重复使用的特点,可满足海绵钛工业生产中精TiCl4的生产控制分析需要,具有良好的应用前景. 相似文献