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21.
用微分电容法研究质子辐照HCl氧化物铝栅MOS结构诱导的界面陷阱,栅氧化层在1 160℃很干燥的、含0~10%HCl的气氛中热生长而成,质子辐照能量为120~300keV,注入总剂量范围为8×10~(13)~1×10~(16)p/cm~2。结果表明,辐照诱导的界面陷阱能级密度随质子能量、剂量增加而增加。然而,氧化层中掺入6%HCl时,辐照诱导的界面陷阱明显减少。这样,已能有效地改变MOS器件的抗辐照性能。实验结果可用H~+二级过程解释。 相似文献
22.
在确定的开管扩镓装置中,以氢气做为镓源Ga2O3的反应和输运气体,凭借准确的控制扩散条件,镓在SiO2/Si系统中扩散,可获得良好的扩散均匀性和重复性。根据镓在Si和SiO2中扩散行为,分析讨论了镓在裸Si系和SiO2/Si系扩散所产生的杂质Rs效应,及其氧化膜质量和厚度对Rs的影响。 相似文献
23.
本文介绍一种确定SOI/MOS结构中沿硅薄膜厚度多子漂移分布和杂质分布的简单方法(其掺杂剖面是随机不均匀的)。这种方法基于使用一种耗尽型晶体管与栅控二极管的组合结构。作者列举在激光区熔再结晶多晶硅制的SOI结构和SOS结构上以相同工艺制作器件的对比研究结果。由这些结果可见,在包含有晶粒间界和子晶粒间界的SOI薄膜中,沿膜厚的载流子迁移率是恒定的,而且远远超过SOS膜中的迁移率。 相似文献
24.
25.
单片机测控系统的硬件及软件抗干扰技术 总被引:1,自引:0,他引:1
针对单片机测控系统实时性强、干扰因素较多的特点,介绍了几种实用的抗干扰措施。在硬件抗干扰方面阐述了供电系统的设计、电路板的合理布局以及输入输出干扰的抑制。软件方面给出了软件冗余技术、软件陷阱技术以及“看门狗”技术的几个实例。实践证明,二者互相结合、互相补充,在实际应用中可起到良好的抗干扰作用。 相似文献
26.
发光体MAl2O4:Eu2+,RE3+的长余辉形成机理 总被引:7,自引:0,他引:7
提出了Eu^2 激活的MAl2O4:Eu^2 ,RE^3 (M=Ca,Sr,Ba;RE=Dy,Nd,Ho,Er,Pr,Tb等稀土元素)系列铝酸盐发光体的长余辉发光机理。认为O^2-空位Vo是一种电子俘获陷际,是形成余辉的根本原因,RE^3 的引入使陷阱深度适宜而使余辉时间延长。缺陷在晶格中成簇分布,Vo和碱土金属离子空位VM在高温下可相互缔合。利用电子陷阱模型解释了实验中的一些普遍现象并提出了固相反应法合成此类发光体的工艺改进措施。 相似文献
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