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131.
赵岳星 《电子工业专用设备》2004,33(2):66-69,86
板刷擦洗是一种在化学机械抛光后清洗中常用的方法。它可以非常有效地把研磨剂颗粒从已抛光的晶圆表面去除掉。在氧化硅化学机械抛光的清洗工艺中,去离子水(或者稀释的氢氧化氨)是刷洗过程中常用的化学品起到的作用及刷洗的机械力对去除氧化硅研磨剂颗粒时所起的作用。 相似文献
132.
晶圆加工工艺尺寸的减小,芯片封装引脚数的增加,以及新的绿色产品要求,需要全面的质量管理才能保证产品的高质量 相似文献
133.
Alexander E. Braun 《集成电路应用》2007,(1):47-47
边缘缺陷率已成为器件制造的重要问题,然而相当多的器件制造商认为.目前对晶圆边缘进行检测的能力还远远不够。虽然有些解决方案的表现还不错.但是它们似乎主要针对的是晶圆制造商,重点关注的是晶圆上的碎片和裂缝等物理损伤。 相似文献
134.
135.
136.
137.
《电子工业专用设备》2007,36(11):52-53
据台湾媒体报道:在由全球IC设计与委外代工协会(FSA)举办的半导体领袖论坛中,行业领袖纷纷发表讲话,各抒已见,进行了高质量有深度的交流。[第一段] 相似文献
138.
<正>日前,用于提高半导体和平板显示器产量的集成自动化解决方案的领先供应商Asyst Technologies Inc.宣布, Hynix Semiconductor Inc.已经为其设在韩国利川的新的300mm晶圆铸造厂选用了Asyst的Spartan Integrated Sorter。Hynix价值数百万美元的订单标志着Spartan 相似文献
139.