二极管激光器和LEDs使"片上实验室"接近现实

光学生物芯片或微阵列通常被定义为可同时执行和测定数百个乃至数千个生物化学反应，利用玻璃、塑料或者硅材料制作的小型实验样品基片，在这些基片上。当把光学生物芯片与荧光剂(显示染料)和激光扫描仪(激光波长一般为532nm或者633nm)组合使用时，就构成各种商业用实验平台，例如：Affymetrix(Santa Clara，CA)公司生产的基因芯片(Gene Chip)——一种含液体流通微通道的芯片，其微通道是采用半导体工业中使用的加工方法刻蚀的。Agilent公司生产的互补脱氧核糖核酸，互补核糖核酸cDNA／cRNA微阵列是一种具有分子探针的微阵列，其探针是采用最初Hewlett Packard研发的喷墨技术制作的。这些实验平台能够解码单个基因，识别各种疾病特异蛋白，并能促进蛋白基生物药品的研发。     

推荐重要节点部署防御策略的优化模型

当前网络安全防御策略集中部署于高连接度节点主要有2个方面的不足: 一是高连接度节点在很多场合中并不是网络通信的骨干节点; 二是该类节点对信息的转发和传播并非总是最有效的.针对以上传统部署策略的不足, 改进了恶意病毒程序传播的离散扩散模型并采用中间路径跳数来衡量网络节点的重要程度, 提出了基于介数中心控制力和接近中心控制力模型的重要节点优先推荐部署技术.实验结果显示具有高介数中心控制力和低接近中心控制力的节点相对于传统的高连接度节点无论在无标度网络还是小世界网络均能够对恶意病毒程序的疫情扩散和早期传播速度起到更加有效的抑制作用, 同时验证了网络分簇聚类行为产生的簇团特性也将对恶意程序的传播起到一定的负面影响.     

优化样本分布的最接近支持向量机

当两类样本分布存在差异时,最接近支持向量机（Proximal Support Vector Machine,PSVM）等最小二乘类分类器分类结果将出现偏差,不能实现最小错误率分类。本文在分析PSVM等价广义特征值分解模型基础上,提出了一种改善原PSVM分类决策面的优化样本分布PSVM,其基本思想是通过引入最大化正确分类样本距决策面距离,同时最小化错误分类样本距决策面距离的优化样本分布正则化项,构造优化样本分布PSVM的广义特征值分解模型。通过人工数据集和UCI数据集的10个数据子集上的对比实验,验证了该改进分类模型能够有效调整决策边界,从而获得更好的分类效果。     

列车接近无线报警系统的设计与实现

列车接近无线报警系统自动采集列车接近信息,通过无线通信将采集到的报警信息传输到系统主机,实现了故障-安全原则,更有效的实现列车安全运行,可广泛应用于铁路道口、桥梁、隧道等地点,用来保证生命和财产安全。     

模拟与数字芯片

正超低功耗DSP TMS320C5517(C5517)是TI新一代超低功耗DSP(属于TI的可扩展性TMS320C5000器件组合),这款全新的DSP功耗很低,却可提供频率高达200MHz的性能,从而实现更快的数据处理,适用于要求极高的应用,如音频和视频、生物辨识和其他特定分析应用。C5517 DSP的特性与优势:可实现外部传感器连接——通过连接到外部传     

氮化硅/钽硅X射线光刻掩模研制及应用

经过三十多年的研发, 接近式X射线光刻技术已经非常成熟,其具有分辨率高、焦深大、工艺宽容度大、产量高等诸多优点.对于X射线掩模吸收体材料, 如果选择金, 只能采用电镀工艺, 而且金会污染硅基集成电路；而钽硅材料可以采用干法刻蚀工艺, 不会污染硅基集成电路, 是一种理想的X射线掩模吸收体材料.本文论述了氮化硅/钽硅X射线掩模制作工艺, 不同于常规工艺, 电子束光刻显影后, 以ZEP520电子束光刻胶作为阻挡层,SF₆/CHF₃作为反应气体, 电感耦合等离子体直接刻蚀钽硅薄膜.初步的实验结果证明了这种X射线掩模制作工艺是可行的.     

第二代接近式X射线光刻技术

介绍了第二代PXL的原理和影响光刻分辨率的关键因素,当第二代PXL工艺因子为0.8时,对于50 nm及35 nm节点分辨率,掩模与硅片的间距可以分别达到10μm和5μm,表明第二代PXL具有很大的工艺宽容度;分析了纳米X射线掩模的具体结构、制作工艺和成本,相对于其竞争对手,在100 nm节点及其以下,X射线掩模的制造难度和成本是比较低的,而且随着电子束直写X射线掩模能力的进一步提高,X射线掩模更具优势;对几种常用的X射线光刻胶性能进行了分析,高性能的X射线光刻胶的研发不会成为PXL发展的障碍;对步进光刻机和X射线光源进行了论述,X射线点光源的研究进展对于第二代PXL的发展至关重要;最后介绍了第二代接近式X射线光刻的研究现状,尽管PXL的工业基础比起其它下一代光刻来说要好得多,但是比起光学光刻还差得很远,第二代PXL是否真正为硅基超大规模集成电路生产所接受目前还不得而知。     

接近真实设备的高速协调验证系统

把C语言建模的硬件当作虚拟原型，用来验证包含软件在内的系统整体功能及预估性能的软硬件协调验证系统正在向高速化方向发展。最近几个月内，可采用10MHz-100MHz工作频率对整体系统进行仿真的产品相继问世，该工作频率比传统验证系统高出了2-3个数量级。此类产品的主要特点是，软件开发人员可以获得更接近真实设备的验证环境，在用SystemC所描述的虚拟硬件上运行应用软件。以往系统验证时的工作频率很低，约为100kHz，因此在验证应用软件方面并不很实用。例如，启动Linux操作系统就需要花40分钟。     

变更问题诱发灵感——谈波利亚探索法在解题中的应用

波利亚把解题作为培养学生的数学才能和教会他们思考的一种手段和途径．在波利亚看来，解题的过程，就是不断变更题目的过程．他说：“解题的成功要靠正确思路的选择，要靠从可以接近它的方向去攻击堡垒．为了辨别哪一条思路正确，哪一方向可接近它，就要试探各种方向和各种思路，就要变更题目。”波利亚还说：“变化问题使我们引进了新的内容，从而产生了新的接触，产生了和我们问题有关的元素接触的新的可能性。”     

印度将建8英寸厂

根据日前Cyber Media的一篇新闻，印度首家8英寸晶圆厂将于2005年2月在印度南部安得拉邦(Andhraprades)首府海德拉(Hvderahacl)破土动工，并预计在2006年的7月开始正式投入生产，该厂是由韩国Intellect公司与印度安得拉邦当地政府计划建造的品厂，目前已经接近最后阶段，该晶圆厂名为India Selniconductor Manufacturing Co(ISMC)。