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采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室(MGC)结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚石薄膜介质层的MGC的制备技术,其典型结构为阳极微条宽20μm,微条间隔180μm,器件探测区面积为38 mm×34 mm。采用热丝CVD法制备的金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层,厚7~8μm,具有(100)晶面结构。金刚石的刻蚀采用反应离子刻蚀,Cr作掩膜,O2和SF6为刻蚀气体,刻蚀速率为79 nm/min,与Cr的刻蚀比约为20:1。实验结果表明,采用的微加工结合自套准工艺可很好地解决金刚石薄膜的制备、图形化及金属阳极电极与金刚石薄膜的相互套准等金刚石薄膜的可加工性及兼容性问题,并制备出采用金刚石薄膜作为电极间绝缘介质层的新型MGC结构。 相似文献
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用金属蒸汽真空弧源,以40kV加速电压对纯锆样品分别进行了1016—1017/cm2的钇、镧离子注入,注入温度约为130℃.然后对注入样品进行表面分析.x射线光电子能谱分析表明,注入的钇以Y2O3形式存在,镧以La2O3形式存在.俄歇电子能谱表明,纯锆基体表面的氧化膜厚度随着离子注入剂量的增加而增加,当离子注入剂量达到1017/cm2时,氧化膜的厚度达到了最大值.卢瑟福背散射显示镧层的厚度约为30nm,同时直接观察到当离子注入剂量为(La+Y)1017/cm2时,纯锆样品表面发生了严重的溅射.
关键词:
纯锆
钇和镧离子共注入
卢瑟福背散射
x射线光电子能谱 相似文献
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