一种菁染料—聚合物薄膜的光存存储性能

用旋涂法制备了一种菁染料－聚合物薄膜，并研究了该染料－聚合物薄膜的光谱性质和光存储性能，该染料薄膜在６６０～８３０ｎｍ波段有较强的吸收和２０％以上的反射率，在最佳实验条件下，获得了５８ｄＢ的信噪比，信噪比（ＣＮＲ）载波信号强度（Ｃ）和薄膜反射率变化（△Ｒ）的对数（ｌｇ△Ｒ）在正比。     

超大规模集成电路中低介电常数薄膜的制备与检测技术

近年来,低介电常数材料在IC工业中日益受到人们广泛关注,为了降低信号传输延迟和串扰以及由于介电损失而导致的功耗增加,采用低介电常数材料做层间介质是必要的。本文介绍了有关低介电常数材料薄膜的制备方法和基本特性的检测技术。     

朗道（Landau，Lev Davidovich，1908-1968）俄国物理学家（Physicist，Russia）

朗道的父亲是犹太人，石油工程师，母亲是医生。他19岁在列宁格勒大学获得博士学位。其后，他在哈尔科大大学任教授。接着，他出国研究，曾访问过玻恩，还听过海森堡聃的讲学。然后，在哥本哈根度过了若干年，随后又转到剑桥大学师从卢瑟福舭。学习。1935年，他开创了磁畴的数学研究方法，磁畴是指铁类物质中所有原子磁矩的取向都一致的微小区域。1938年，他在苏联的肃反运动中被当作德国间谍逮捕，只是因为卡皮察的亲自干预才得以释放。     

中能重离子碰撞中的同位旋分馏过程

利用同位旋相关的量子分子动力学模型研究了中能重离子碰撞中同位旋分馏过程.研究结果表明自由粒子中质比与碎片中质比的比值即同位旋分馏强度灵敏地依赖于对称势,而对同位旋相关核子–核子碰撞截面的依赖很弱.同位旋分馏对对称势的灵敏主要来自于气相部分,而液相部分对对称势不够灵敏.气相部分灵敏地依赖于对称势是直接造成同位旋分馏强度对对称势灵敏的主要原因.同时还讨论了各种液相部分的取法,其结果表明不同取法对以上结论的影响不大.因此理论结果与实验数据可以直接比较从而提取对称势的知识.并对引发同位旋分馏的动力学的起因进行了分析和讨论.     

用分析温度场的程序计算定常无旋流动

用分析温度场的程序计算定常无旋流动郑作昌（北京大学力学系，北京１００８７１）目前流行的用于热传导分析的计算机程序很多，如ＡＤＩＮＡＴ，ＳＡＰ５－Ｔ等．但它们的能力却远远超出了分析热传导问题。本文通过分析热传导问题与其它一些连续场问题在数学上的等价性，...     

当今世界PCB生产中技术新进展

当今世界PCB生产正处于围绕着SMB(表面安装印制板)为中心进行技术变革和颠峰发展时期。SMB给PCB行业带来了新要求、新档次和新发展,它要有新材料、新设备和新的工艺技术相适应。目前PCB围绕SMB为中心进行技术变革的目标是:高精度高密度化技术;多层薄板化技术;高密度互连(HDI)技术;高平整度化板面技术;板面保护性涂覆技术;自动化高量产化生产;并随之推动与SMB相关的设备,材料和化学药品等的革新与发展。目前全世界PCB生产形势一片大好,今年全世界PCB产量和产值将创历史纪录。产值将达到220亿美元,今后仍以年均7—8％速率持续增长着。今后亚洲PCB产值增长将引人注目,除日本外的亚洲PCB产值将会以大于13％的速度持续增长至2000年以后。     

动量相关作用对两体耗散同位旋效应的重要性

利用同位旋相关的量子分子动力学,研究了中能重离子碰撞中动量相关的状态方程对原子核阻止基于两体耗散的同位旋效应的影响.计算结果表明原子核阻止对同位旋相关和同位旋无关的核子–核子碰撞截面(两体耗散)的差值强烈地依赖于动量相关势,即在有动量相关势的情况下原子核阻止对同位旋相关和同位旋无关的核子–核子碰撞截面的差值大于没有动量相关势的情况.这就意味着动量相关作用明显地提高了原子核阻止对于核子–核子碰撞截面的灵敏性.因此,在考虑动量相关势的情况下,原子核阻止可以更准确地作为提取同位旋相关的核子–核子碰撞截面的一个探针.     

船舶液压推进的可行性探讨

通过对液压推进系统的能量传递方式，扭矩特性和转速控制的分析，介绍了液压推进的优点，对液压推进的可行性作了初步探讨。     

拓朴空间的平稳变形

对近十余年来理论物理研究的数学思想及“量子几何”中“拓扑空间平稳变形”方法作以介绍和探讨。