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通过实验分析确立了把光纤电阻作为衡量气密性碳涂覆光纤通过2%应变筛选的过渡标准。要拉制2%应变筛选的碳涂覆光纤,其电阻值应小于30kΩ/cm。 相似文献
125.
在“С.И.瓦维洛夫国家光学研究所(ГОИ)”光学镀层工作是30年代在И.В.Гребевшиков院士领导下开始的。到目前为止形成一个高度熟练的专家集体。它完成同光学镀膜工艺有关的一整套的工作。在镀制中采用所有现代的光学镀层的真空方法:电阻法和在高真空中的电子束蒸发法,阴极法,离子等离子体法,磁溅射法。镀层工艺中成功地采用离子加工方法,其中包括基板的离子净化,离子辅助(ассистрование),离子涂抹(платирование)。 相似文献
126.
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炭黑填充聚乙烯材料电阻—温度特性研究 总被引:8,自引:1,他引:8
研究了炭黑/聚乙烯导电复合材料的PTC特性及在不同条件下的电阻变化。发现PTC特性与体积膨胀及聚乙烯晶相的熔融有许多一致性。认为材料的体积膨胀及聚乙烯晶相熔融时炭黑颗粒均匀化扩散导致了电阻随温度上升。在较高温度下,炭黑颗粒在分子链段热运动的推动下会发生相对聚集使电阻不断减小,这是材料出现NTC现象的原因。材料总的电阻温度特性是体积膨胀、炭黑向聚乙烯熔融区扩散及相互聚集三个因素共同作用的结果。 相似文献
128.
铈对铁基合金热腐蚀性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
采用电化学极化电阻技术研究了铈对316不锈钢和表面涂覆CeO2预氧化处理对HK40合金耐热腐蚀性能的影响。结果表明,在合金中添加少量铈可以改善316不锈钢的耐蚀性能,特别是抑制沿晶界的内硫化;表面涂覆CeO2可以明显HK40合金的耐蚀性能,促进Cr2O3氧化膜的形成。 相似文献
129.
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以丙烯酸(AA)、丙烯酰胺(AM)、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸(AMPS)为原料,蒙脱土(MMT)为改性剂,过硫酸钾和无水亚硫酸氢钠为氧化还原引发体系,六亚甲基四胺(C6H12N4)为交联剂,采用水溶液聚合法合成了一种新型高吸水聚合物凝胶型屏蔽暂堵剂(MTC 1),其结构经IR表征。在最优合成条件(AM/AMPS/AA=11/7/1, m/m/m,引发剂加量0.6 wt%,于45 ℃反应2.5 h)下,MTC-1的最大吸水倍率为1006倍。岩心流动实验结果表明:MTC-1的堵水性能较高,封堵效率达到83.72%。 相似文献