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21.
不同于传统的立体结构隧穿器件,本文给出了一种新型平面石墨烯纳米带隧穿场效应管的理论设计。基于石墨烯纳米带几何宽度调控禁带宽度的思想,构建"双十字形"石墨烯纳米带超晶格作为沟道,设计了石墨烯纳米带超晶格场效应管。从能带结构和传输谱上给出了该器件负微分电阻特性的理论解释,并由器件的输出特性得到了验证。在此基础上对器件的隧穿工作机理做出了探讨。该场效应管在一个器件上实现了多个负微分电阻区域,可应用于多值逻辑电路设计。  相似文献   
22.
基于Sentaurus TCAD仿真软件,在外延层参数与生产工艺确定的情况下,通过调整元胞的多晶硅长度优化特征导通电阻,并通过对版图元胞面积的准确计算,设计了三款导通电阻目标值为2.4,3.0和3.3Ω的高压功率VDMOS芯片。流片结果显示,导通电阻的平均值与版图计算值吻合度均超过96%,表明了该设计方法、仿真参数及版图设计具有较高的可靠性。  相似文献   
23.
研究了GaN HFET中陷阱的各种行为,发现许多特性不能简单地用陷阱中心俘获带内电子模型来解释。从内、外沟道陷阱密度的巨大差异推出外沟道高密度陷阱不是由陷阱中心俘获带内电子产生的。通过自洽求解二维泊松方程和薛定谔方程发现栅-漏间隙中的强场峰在其两侧产生巨大能带畸变,使部分二维电子气不能通过强场峰而形成局域电子气。运用这一局域电子气新概念解释了目前实验中观察到的各类陷阱实验,说明目前陷阱研究把高密度局域电子气误认为"陷阱"而引入的各种误解。提出了从局域电子气研究来解决GaN HFET电流崩塌和可靠性难题的新途径。  相似文献   
24.
微电子技术的快速发展,促使硅基传感器向着集成化、微型化、可批量加工方向发展.对于pH-ISFET集成芯片而言,如何以MEMS工艺制备性能优良的pH功能膜,是其发展的关键.目的:以适合批量加工的MEMS工艺研制pH功能膜;方法:在小尺寸集成芯片的基础上,以MEMS工艺分别制备Ta2O5材料的pH敏感膜,PTFE材料的pH钝化膜;结果:在pH1~12范围内,Ta2O5膜pH-ISFET对H+的灵敏度达56mV/pH,PTFE膜REFET对H+的响应仅为0.13mV/pH;结论:采用MEMS工艺,可对以标准CMOS技术加工的ISFET集成芯片系统,进行后续加工,从而实现传感器芯片系统的全过程批量加工.  相似文献   
25.
场效应管工作原理课堂教学方法和思路的探讨   总被引:4,自引:1,他引:3  
在“模拟电子技术基础”课程教学过程中,学生普遍反映对场效应管工作原理的学习存在一定的困难,作者针对这一问题,根据多年的教学实践和研究。从学生认知规律出发,总结出了一套便于学生学习和理解的教学思路,学生反馈的结果表明,该方法教学信息量大,学生接受快,在教学过程中取得了事半功倍的教学效果。  相似文献   
26.
白同云 《电子质量》2006,(7):54-57,63
(接上一期) 4.3.2单片PFC PWM控制器 美国CMC半导体公司推出的单片PFC PWM控制器CM6800/1内含脉宽调制控制器,能促进小型低成本大容量电容在开关电源设计中的应用.同时该产品还可降低电力线路负载,减小场效应管的应力,从而设计出完全符合IEC-61000-3-2的开关电源产品.CM6800/1的主要特性如下:  相似文献   
27.
建立一个精确的微波场效应管的等效电路模型对于微波场效应管电路的非线性分析,模拟和优化设计是十分重要的.本文提出了一种新的提取场效应管的等效电路模型参数的方法--混合遗传算法.混合遗传算法将遗传算法和模拟退火法有机地结合,发挥了两者的优点.文中给出了应用混合遗传算法提取场效应管NE32584的等效电路模型参数的实例,得到了具有很高精度的模型参数.  相似文献   
28.
本论文主要介绍高压大电流VDMOS功率晶体管的研制。这次研制的VDMOSFET,设计耐压高达600V,导通电流达到8A,导通电阻为1Ω。设计中,按照要求,确定外延层浓度和厚度;芯片元胞结构参数,阱掺杂浓度;器件边缘保护环,场极板参数。在大量参阅国内外资料的基础上,我们提出新的芯片元胞设计方案,由此确定的垂直电流区宽度比以往方案缩小一个数量级,大大节约芯片面积,成功地实现了把大约二万人元胞集成在一块芯片上。同时,在器件边缘终端结保护环设计中提出新思路,提高了器件可靠性,并有效减少芯片面积。  相似文献   
29.
介绍了一种利用集成互补结型场效应管的简单复合而构成的负阻器件,并且对该负阻器件的温度特性进行了分析,为设计具有温度稳定性的负阻器件提供了有益的参考。  相似文献   
30.
本文概述了场效应管的分类和设计。设计按常规程序考虑,特殊的MOS管还要考虑相关许多其它因素,以及理论与实践结合后的取舍。  相似文献   
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