全文获取类型
收费全文 | 459篇 |
免费 | 65篇 |
国内免费 | 36篇 |
专业分类
化学 | 9篇 |
晶体学 | 1篇 |
力学 | 1篇 |
物理学 | 80篇 |
无线电 | 469篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 8篇 |
2022年 | 5篇 |
2021年 | 6篇 |
2020年 | 4篇 |
2019年 | 5篇 |
2018年 | 2篇 |
2017年 | 8篇 |
2016年 | 14篇 |
2015年 | 12篇 |
2014年 | 30篇 |
2013年 | 32篇 |
2012年 | 23篇 |
2011年 | 33篇 |
2010年 | 26篇 |
2009年 | 33篇 |
2008年 | 20篇 |
2007年 | 34篇 |
2006年 | 30篇 |
2005年 | 31篇 |
2004年 | 20篇 |
2003年 | 30篇 |
2002年 | 17篇 |
2001年 | 19篇 |
2000年 | 16篇 |
1999年 | 7篇 |
1998年 | 10篇 |
1997年 | 11篇 |
1996年 | 7篇 |
1995年 | 14篇 |
1994年 | 12篇 |
1993年 | 5篇 |
1992年 | 10篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 10篇 |
1989年 | 6篇 |
1988年 | 2篇 |
1987年 | 1篇 |
1982年 | 1篇 |
排序方式: 共有560条查询结果,搜索用时 0 毫秒
121.
122.
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。 相似文献
123.
124.
125.
半导体材料Ga2O3是继宽禁带半导体材料SiC/GaN之后新兴的直接带隙超宽禁带氧化物半导体,其禁带宽度为4.5~4.9eV,击穿电场强度高达8MV/cm(是SiC及GaN的2倍以上),物理化学稳定性高,在发展下一代电力电子学和固态微波功率电子学领域具有较大的潜力。自2012年第一只Ga2O3场效应晶体管诞生以来,Ga2O3微电子学的研究呈现快速发展态势。本文综述了β-Ga2O3单晶材料和外延生长技术以及β-Ga2O3二极管和β-Ga2O3场效应管等方面的研究进展,介绍了β-Ga2O3材料和器件的新工艺、新器件结构以及性能测试结果,分析了相关技术难点和创新思路,展望了Ga2O3微电子学未来的发展趋势。 相似文献
126.
文章介绍了短波广播发射机固态功率前级运行稳定性的探索和技术改进措施。针对功率场效应晶体管的特性参数,选择对应的器件,并且设置相应的保护电路。 相似文献
127.
128.
129.
DIY的精髓在于体验、创新和动手做,并不在乎制作的设备或者系统是否大而全,因为那是设备制造商要做的.大而全的设备市场上也都买得到,自己制作会耗费很多,难度也很大,从者寥寥,爱好者之间交流体验的机会就会大大减少。 相似文献