正确使用DV磁带

DV摄像带种类不多,现在家用DV主要使用微型DV带,也就是常说的MiniDV带,它的尺寸只有66 mm×48 mm×12.2 mm,一般DV盒带上有4个金属电极,有些DV带还装入4 kB的半导体存储器,它们的功能是用来判别盒带的种类型号、磁带厚度、出厂情况以及用来存储或引导索引数据,可以记录拍摄时的重要数据,MiniDV带的制造工艺是在带基上进行金属蒸镀,具有较高耐磨强度和较强磁性能.     

Pioneer（先锋）PDP-507XC等离子电视

KLV-40T200A液晶电视采用纤薄机身设计，厚度约60mm，可以紧密地贴身于墙上，而别出心裁的高光涂漆工艺使得KLV-40T200A的黑色外观更加笔直、平滑，能轻易地融入各种家居风格。KLV-40T200A采用16：9宽屏显示，分辨率为1366×768，它所采用的索尼DRC数码精密显像技术能将普通电视机标清信号转换为更高密度的信号，带来高画质的影像，使得图像细节更突出，层次更鲜明，将细腻画质精彩呈现。     

环球仪器与清华大学合作编写《贴片工艺与设备》教科书

近日，电子工业出版社出版的《贴片工艺与设备》正式面世，本书由环球仪器公司和清华大学合作编写，通过环球仪器研发部门和清华一伟创力SMT实验室的共同努力，由环球仪器技术人员和清华大学老师以及其他业内专家组成团队完成。     

Xilinx正式推出Virtex-4系列FPGA

可编程逻辑领域的领导厂商赛灵思公司(Xilinx)日前宣布，其Vrtex-4产品线以及针对该产品线的全套设计工具已经正式出货。Vrtex-4是利用90nm/300mm芯片制造工艺生产的多平台FPGAAN。在利用90nm工艺进行生产方面，赛灵思已处于PLD行业领先地位。     

锡膏印制中的几个注意问题

介绍ＳＭＤ装配技术中锡膏印刷工艺中的一般性要求，提出了几个要求注意的问题。     

193nm光刻技术进展和问题

光刻是制造大规模集成电路的主要方法。由于快速计算机和多功能处理器不断发展,并提出很多新的要求,促使半导体集成线路制造商力求增加单片上的元件密度。元件密度受最小光刻尺寸限制。虽然光刻工艺水平已能刻出准波长特征尺寸的集成线路的线宽,但是,连续发展几代的单片集成线路要求光源波长从436nm到365nm。用248nm波长光源(KrF准分子激光器).光刻的特征尺寸为0.25μm。期望能生产0.18μm特征尺寸的集成线路。为了生