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41.
本文利用光线追迹法,对双折射波片用于发散光束的偏振像差进行了分析,并以标准1/4波片为例,给出了小角入射时的近似处理方法.  相似文献   
42.
将空气中烧成的镍导体用于散热制冷片制作工艺中,可降低成本,提高合格率。通过实验得到的最佳值为:镍导体中4号玻璃(SiO2>30,B2O3>10,PbO<55,TiO2少许)的含量4.5%,化学镀镍时间50min,方阻47.5mΩ/□,附着力8.1N/mm2。  相似文献   
43.
本文在液氮温度到室温范围内,对不同宽度和厚度的试样进行了三点弯折试验,研究了试样尺寸对再结晶纯钼片材的延-脆性转变温度的影响。本研究用二个参数、即临界应力和临界温度描述材料的延-脆性转变特性,结果归纳如下:(1)试样厚度为1.0mm时,试样宽度在1 ̄4mm范围内宽度对临界应力和临界温度的影响几乎可忽略不计。(2)试样宽度为4mm时,试样厚度在0.5 ̄1.0mm范围内厚度对临界应力和临界温度的影响几  相似文献   
44.
研制了一台五通道ROSS-FILTER-PIN软X射线能谱仪,能谱范围为0.28—1.56keV.它由5个连续能段组成,每个能段的起止边由罗斯滤片对(ROSS-FILTERS)的L或K吸收边确定.罗斯滤片对的厚度通过优化计算得到,为了使每个通道的灵敏区外响应(即所测能段外响应)与通道总响应之比最小,在滤片对的第二滤片上镀上了一定厚度的第一滤片材料;为了缩减滤片表面积以增强低能滤片的抗冲击能力及方便滤片加工,能谱仪采用了小探测面积的PIN探测器(1mm2).借助此能谱仪,测量得到了喷气式Z箍缩(Z-pinch)等离子体辐射软X射线能谱的分布,并研究了软X射线产额随箍缩状况的变化趋势. 关键词: Z箍缩等离子体 罗斯滤片 软X射线能谱  相似文献   
45.
《电子测试》2007,(2):51-51
把打点计时器接入9V、50Hz的正弦交流电源(J1202型或J1202—1型学生电源。打点计肘器在7-11伏范围内能正常工作),让打点计时器开始工作。观察振动片的振动是否均匀。如果振动不均匀,可调节报动片的调节螺母,直到打点均匀有力.声者清晰、不拖尾巴。表示打点计时器已能正常工作。然后关闭电源。  相似文献   
46.
改善液晶光阀投影光学系统偏振特性的理论设计方法   总被引:5,自引:3,他引:2  
周杰  刘旭  李海峰 《光学学报》2003,23(1):3-66
定量分析了液晶光阀投影光学系统中影响系统对比度的主要因素,利用矢量方法建立三维空间数学模型对光线进行追迹,并利用琼斯矩阵和矢量光学的原理分析了偏振器件--主要是波片--和各种光学薄膜对光学系统性能的影响。给出了在一定假设条件下的对没有波片的光学系统和插入波征后的光学系统的仿真计算结果。两组数据比较表明在光路中插入合适相位差的波片可以显著提高系统对比度等性能。  相似文献   
47.
单片微型计算机键盘接口设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
张迎辉 《信息技术》2004,28(7):68-69,91
介绍了单片机系统中矩阵式键盘的特点和工作原理,以及大规模集成电路8255A。给出了8255A和MCS-51单片机的接口电路,以及实际应用中的软件设计框图等。  相似文献   
48.
《新潮电子》2003,(6):80-81
伴随着生活水平与品味的提高,DV进入越来越多的家庭。在用上DV的同时,不少家庭也陷入了迷茫:除了拍拍自己的新朋友好,初尝几周的新鲜感之后,DV很快成为家中的摆设。当然,也有买来DV是力图自己进行创作的人,但当机器拿在手中时才发现要把自己的想法变成满意的影片却非易事——缺乏良好的指导老师而不能将机器按照自己的意图良好的运用起来。于是,很多DV爱好者自发性地组织起DV创作团体,互相帮助与交流,解决共同存在的问题。22制片合作小组便是这样一个典型的例子。本次我们对该小组之中几位骨干成员进行了采访,看看他们是怎样看待DV,怎样创作以及怎样来为身边的同好们提供DV创作的解决方案的。  相似文献   
49.
俊伟 《世界电信》2004,17(4):58-58
日前,德州仪器(TI)推出两款新增VoIP以及无线家庭网络功能的新型DSL家庭网关参考设计。新型设计建立在TI的片上AR7DSL路由器基础上,融入了TI宽带系列产品的关键技术。该设计可将AR7单片路由器与TI的802.11b/g平台集成,以及语音DSP与TelogySoftware进行集成,从而为消费者提供经济型家用VoIP与WLAN的单个系统。除AR7与AR7W之外,AR7系列中的最新成员还包括AR7Vwi与AR7V。AR7VWi将VoIP,802.11b/g无线家庭网络与DSL整合到单一的平台中。AR7V提供了DSL上的VoIP。制造商可利用AR7系列开发完整的ADSL产品系列,其不仅可…  相似文献   
50.
本文阐述了半固化片生产过程中的主要工艺即浸渍胶液的工艺过程及半固化片的表面质量。并分析了产生这些缺陷的因素。  相似文献   
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