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11.
舒文琼 《通信世界》2006,(7B):13-13
在3GSM大会上,有一支来自中国的经济专家代表团,其成员奔波于主会场及各种研讨会之间,与业界交流分享经验与观点。作为该团队的重要成员之一,信息产业部电信研究院陈金桥专家已经是第四次参观3GSM大会了。在他看来,今年大会有何特点?  相似文献   
12.
机械力化学作用对低介硅灰石瓷料的相变和相组成的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用X射线衍射仪(XRD)、差热分析(DTA)手段详细研究了由氧化物粉末制备硅灰石陶瓷时,机械力化学作用及后续热处理对硅灰石陶瓷相组成和相变过程的影响,分析了机械力化学在球磨过程中的作用机理主要是细化晶粒、使晶格畸变、晶格缺陷增多、非晶化和诱导低温化学反应。结果表明:高能球磨中的机械力化学作用能够有效地降低硅灰石陶瓷的烧成温度(11160~11220℃)。探明了经高能球磨的样品在烧成过程中的晶相转变规律。瓷料最终的晶相为单一的-硅灰石(高温变体)。  相似文献   
13.
化学复合镀层激光处理研究   总被引:11,自引:0,他引:11  
邵红红  周明  陈光 《应用激光》2003,23(4):194-197
研究了激光处理对Ni-P -SiC化学复合镀层的影响。借助于扫描电镜、能谱仪、X射线衍射、显微硬度计等设备对激光处理后复合镀层的表面形貌、组织结构及性能进行了综合分析。结果表明 ,对复合镀层进行激光处理可以获得与炉内加热同样的镀层硬度 ,且当激光功率 4 0 0W ,扫描速度 1.5m /min时 ,镀层硬度高于炉内加热的硬度  相似文献   
14.
PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究   总被引:9,自引:3,他引:6  
在玻璃衬底上采用常规的PKCVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗较(直径>100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后,沉积速率提高了近10倍。分析认为,在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m n≤3),而不可能是SiHn(n≤3)基团。  相似文献   
15.
随着SD卡存储速度和容量的不断升级,越来越多的普及型数码相机采用了SD卡为存储介质,就连专业数码单反相机领域,也已经掀起一阵SD卡的普及风暴,包括尼康、宾得、松下、柯达、三星在内的多个数码单反品牌已经陆续将SD卡作为首要支持的存储卡。  相似文献   
16.
玻璃微珠的表面化学镀银及红外辐射性能研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
采用化学镀方法在玻璃微珠表面镀银,考察了预处理条件、反应温度和反应时间等因素对玻璃微珠表面镀银的影响,并通过扫描电镜和X-射线衍射分析仪,对镀银后玻璃微珠的表面形貌和结构进行了观察和表征。将镀银玻璃微珠用于涂料中,考察了玻璃微珠在涂料中的应用及其红外辐射率的变化,探讨了化学镀条件对涂料红外辐射率的影响,结果表明,在控制反应温度和浓度的条件下,可使镀银玻璃微珠的红外辐射率由原来的1.02降为0.70,将其应用于涂料后,涂层的红外辐射率为0.80。  相似文献   
17.
高密度互连印制板   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文阐述了RCC材料与化学蚀刻法制作高密度互连印制板的工序和详细方法,意在探寻最为经济、简单而又行 之有效的工艺。  相似文献   
18.
CMP系统技术与市场   总被引:3,自引:1,他引:2  
概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关键技术和国内研究概况。  相似文献   
19.
提出了在碱性抛光液中铝薄膜化学机械抛光的机理模型,对抛光液的pH值、磨料、氧化剂浓度对过程参数的影响做了一些试验分析。试验结果表面粗糙度的铝薄膜所需的最优化CMP过程参数:硅溶胶粒径为15~20nm,pH值为10.8~11.2,氧化剂浓度为2.5%~3%。  相似文献   
20.
《结构化学》2006,25(11):F0002-F0002
嘉兴学院至今已有91年办学历史。学校校址位于闻名遐迩的革命圣地南湖之畔一浙江省嘉兴市。嘉兴地处长三角中心的杭嘉湖平原,毗邻上海、杭州、苏州,经济繁荣,交通发达,人文荟萃,素有“丝绸之府、鱼米之乡、文化之邦”美称。  相似文献   
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