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81.
光学偏振实验仿真设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用计算机工具软件,成功地设计和编制了偏振现象实验的仿真程序,用于计算机辅助教学  相似文献   
82.
83.
We use the multiple-scattering cluster method to calculated the sulphur 1s near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS) of S-passivated InP(100) surface.The physical origins of the resonances in the NEXAFS have been unveiled.It is shown that the most important resonance is attributed to the photoelectron scattering between the central sulphur and the nearest indium atoms.The studies show that two S-S dimers with the bond lengths of 2.05A and 3.05A coexist in the surface,meanwhile the bridge and antibridge site adsorption of single S could not be ruled out.We support the scanning tunnelling microscopy result that the S-passivated InP(100) surface exhibits significant discorder.  相似文献   
84.
厚高阶光学非线性介质Z扫描的变分法分析   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用变分法对具有五阶光学非线性介质的Z扫描特性进行了研究。通过比较,发现当介质在具有较大的五阶非线性系数或较大光强的情况下,五阶非线性项的作用是不可忽略的。这对光限制器的设计和Z扫描实验都具有一定的指导意义。  相似文献   
85.
尼康3100     
《通信技术》2004,(2):76-76
  相似文献   
86.
专访     
《通信技术》2004,(10):21-21
  相似文献   
87.
类比方法与光的本性的探索   总被引:2,自引:0,他引:2  
仲扣庄 《大学物理》2003,22(10):38-41,44
简要回顾了人类对光的本性的探索历程,介绍了物理学家在研究过程中对类比方法的运用。  相似文献   
88.
四类平均数的几何模型   总被引:1,自引:0,他引:1  
刘晓东 《数学通报》2003,(11):28-28
新教材中关于两个数的算术平均数与几何平均数的几何解释 ,显示了数与形的完美结合 .在新教材数学第二册 (上 )习题 6 2中 ,有这样一个习题 :已知a、b都是正数 ,求证 :21a + 1b≤ab≤ a+b2 ≤ a2 +b22 ,当且仅当a=b时等号成立 .不等式中的四个式子分别称为两个数的调和平均数、几何平均数、算术平均数、平方平均数 .此题描述了这四个平均数之间的关系 ,本文再给出它们的几何模型 .数形结合不仅揭示了数学的内在联系 ,给人以美的享受 ,更能开发学生智力 ,培养学生能力 ,发散学生思维 .1 ab≤ a+b2 的几何模型 .  如图 1 ,以a+b为直径 (记…  相似文献   
89.
高斯光束计算平板波导自由传输区远场分布及其修正   总被引:2,自引:2,他引:0  
对近轴近似条件下求解亥姆霍兹方程得到的高斯光束显式传播公式做了分析,同时,基于基尔霍夫衍射理论,在菲涅耳近似的条件下给出了相应的高斯光束在远场的传播公式,在此基础上,对近轴近似条件做出了定量分析,给出了这个近似条件引入的误差,提出了一种计算高斯光束远场分布的修正方法,并采用有限差分-光束传播方法(FD-BPM)来检验各种方法的准确性。把这种修正方法应用到平面光集成波导器件,如阵列波导光栅(AWG)、蚀刻衍射光栅(EDG)等器件的设计和模拟中,可以大大降低工作的复杂性,同时可以得到精确的结果。  相似文献   
90.
刘波  阮昊  干福熹 《光学学报》2003,23(12):513-1517
为了使光盘获得优良的记录/读出性能并能够长期稳定地使用,必须优化设计相变光盘的多层膜结构。采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件,从光学角度出发模拟计算了蓝光(405nm)相变光盘的膜层结构,研究了多层膜系的反射率和反射率对比度等光学参量与各层膜厚度和槽深的关系。研究得出的最佳多层膜结构为:下介电层/记录层/上介电层/反射层的厚度对于台记录为100nm/10nm/25nm,/60nm,而对于槽记录则为140nm/15nm/30nm,/60nm,槽深为50nm。模拟计算结果对于将来高密度蓝光相变光盘的制备具有一定的指导意义。  相似文献   
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