多层板内层铜箔棕化处理液研制

文章概述了应用于PCB多层板制作过程中的棕化工艺原理及棕化膜的结构。主要讨论了一种新的棕化处理液,包括配方组成和工艺方法。经实验和应用实践证明,它具有能够显著促进铜面与粘结片的结合力,耐高温热冲击-陛能良好,抗剥离强度高,没有粉红圈,工艺流程简单,适用性广,成本低等特点。     

应用BP神经网络识别内层表面细小缺陷的研究

内层表面细小凹坑的识别是超声无损评估的一个难点。本文利用人工神经网络对于信号的分类功能,建构和训练了一个BP神经网络,并用它对尺寸为1mm的圆锥形和半球形两种凹坑成功地进行了识别。研究表明,应用凹坑回波的DCT谱作为缺陷特片输入,可使BP神经网络的训练和缺陷识别既快捷又有效。     

一类非线性方程的激波解

该文是利用匹配条件讨论一类非线性方程激波解。得出了对应的激波解与边界条件的关系。     

H原子在W低指数面上的吸附位和吸附态

应用原子和表面簇合物相互作用的5参数Morse 势及由5参数Morse势组装推广的LEPS方法对H-W低指数表面吸附体系进行了研究, 并获得了全部临界点特性. 计算结果表明, 低覆盖度下, H原子优先吸附在W(100)面的内层吸附位二层桥位B', 获得156 meV的垂直振动频率, 随着覆盖度的增加, H原子稳定吸附在表层的五重洞位(二层顶位)、桥位及顶位. 内层吸附位的优先吸附, 对与其邻近的表面吸附位的临界点性质有一定影响. 在W(110)面上只存在三重洞位的稳定吸附态, 垂直振动频率为151 meV. 在W(111)面上存在三种稳定吸附态, 子表面吸附位H₁, 桥位B'和顶位T, 分别获得104, 200, 259 meV的垂直振动频率. 在低覆盖度下, H原子优先吸附在子表面吸附位H₁.     

去钻污及化学铜对ICD影响的试验和评估

文章通过利用正交实验法对除胶渣和化学沉铜加工过程中影响孔壁内层连接性能的控制参数进行试验，寻找影响ICD的显著因子和工艺参数。     

奇摄动向量问题的边界层和内层现象

本文考虑非线性向量边值问题:εy″=f(x,y,z,y',ε), y(0)=A₁ y(1)=B₁ εz″=f(x,y,z,z',ε), z(0)=A₂ z(1)=B₂其中ε是正的小参数,0≤x≤1,f,g是R4中的连续函数。在适当的假设下,利用微分不等式理论,我们证明了上述问题的解的存在性,并得到包括边界层和内层在内的解的估计.     

奇摄动拟线性椭圆型方程边值问题的内层现象

本文研究一类奇摄动拟线性椭圆型方程Dirichlet问题的内层现象,利用偏微分不等式理论,通过构造具有内层校正的上、下解函数,给出了奇摄动问题内层现象的解的存在性及其余项估计。     

多阶机械盲孔板制作的方法与控制

文章对多阶机械盲孔产品的制作,包括制作流程设计、内层孔到铜距离的设计、涨缩控制、板曲控制、铜厚控制等关键技术的研究,实现了产品良好的电气性能、可靠性和特殊性。     

内层电子相关对NaH分子特征的影响

采用从头计算多参考组态CI方法(MRCI)研究了NaH分子的基电子态的内层电子相关对其分子特征的影响.计算了不同内层电子数目相关情况下的势能曲线,通过解析势能函数拟合,计算出了光谱常数.利用求解分子核运动薜定谔方程的方法,得出了振动能级.通过分析Na原子内层电子与价电子相互作用受H原子核影响的变化,对NaH分子的势能曲线、光谱常数和振动能级等特征量随相关电子数目的变化作了合理的解释.     

高频板ICD改善方法及钻孔参数优化研究

高频高速材料具有优良的介电性能和耐热性,但由于独特的化学性能,该材料在加工中存在很大问题,特别是ICD(内层互连不良)、灯芯、钉头、内层孔壁分离等不良现象。文章通过采用DOE试验优化设计和钻孔参数以改善上述不良问题。