乳胶厚度对卤化银反射全息图衍射特性的影响

实验研究了自制的超细颗粒卤化银乳剂SDUF－1分别在AAC显影、改进的R－10漂白处理及改进的GP－8溶解物理显影处理条件下，其乳胶厚度对反射全息图衍射特性的影响。实验结果表明，在这两种不同处理条件下衍射效率与胶厚的关系有相当大的差别，合适的乳胶厚度分别为12μm和6μm左右。     

涂胶设备背面冲洗功能的开发与研制

本文根据涂胶设备在加工制品过程中所遇到的制品背面沾污问题，提出改进措施，并根据设备的具体情况，增加了涂胶设备的背面冲洗功能。使制品在涂胶过程中，及时地对制品背面进行冲洗，从而保证了制品背面的洁净度，对提高产品质量和提高产品的成品率有非常重要的意义，同时对开发一些技术要求较高的新品也有深远的影响。     

用多焦点全息透镜实现多重谱分数傅里叶变换

提出用多焦点全息透镜实现多重谱分数傅里叶变换.利用全息方法通过一次曝光制作出多焦点的全息透镜,分析了用此全息元件实现这种变换的条件,并在实验上实现了多重谱分数傅里叶变换. 实验结果表明这种变换方法简便可行,可广泛应用于多通道光学信息处理系统及多目标图像识别系统中.     

A New Holographic Entropy Bound from Conformal Field Theory at the Killing Horizon

A new holographic entropy bound is obtained by using conformal field theory at the Killing horizon.The entropy bound is tighter than the well-known bounds,such as the Bekenstein,Bekenstein-Mayo and‘t Hooft bounds.The result shows that the entropy of a system decreases when quantum effects are included.Therefore,the quantum effect will increase the degree of order of the system.     

X射线聚束透镜原理及其应用

本文阐述了一种新型的Ｘ射线聚束装置─—Ｘ射线透镜的聚束原理。给出了透镜的基本设计方法，并对它应用于Ｘ射线光刻研究领域的前景作了展望。     

光刻照明系统匀光技术研究

本文通过对国际上流行的几种光刻照明方式的分析对比，揭示每一方法实现高均匀度照明的实质与规律；提出高均匀照明系统理论光照均匀度的计算方法；并以“均匀器”为重点，论证了各种匀光措施的优越性与存在的问题以及匀光器的优化设计方案；最后为这一技术的进一步发展提出了几点设想。     

影干涉光刻技术

采用λ／２的光束复制出了更高分辨率极限的线间图形，它将电路图形的ＣＤ尺寸极限推进到λ／４，当采用１９３ｎｍ光源曝光时，ＣＤ尺寸为５０ｎｍ以下。干涉光刻技术（ＩＬ）探讨了这种周期性图形的最终极限。影像干涉光技术未来的发展，将使光学方法１００ｎｍ 下的电路图形成为可能。     

离轴数字全息记录条件的研究

用振幅全息和菲涅耳衍射理论,分析离轴数字全息记录系统结构参数对数字全息再现的影响,并进行相应的实验验证。理论分析和实验研究结果都表明,如果记录物体和CCD的尺寸固定,记录物体和CCD之间的记录距离将直接影响数字全息再现像的分离状况和系统的分辨率,在保证再现像分离的前提下,缩短物体和CCD之间的距离将有利于数字全息再现像分辨率的提高。     

同步辐射光刻技术

同步辐射光刻有希望代替传统光刻技术,用于0.25μm以下图形的超精细加工。本文叙述了它的原理、相关技术的开发现状和工艺应用。