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272.
退火对电子束热蒸发193nm Al2O3/MgF2反射膜性能的影响   总被引:2,自引:1,他引:1       下载免费PDF全文
设计并镀制了193nm Al2O3/MgF2反射膜,对它们在空气中分别进行了250-400℃的高温退火,测量了样品的透射率光谱曲线和绝对反射率光谱曲线.发现样品在高反射区的总的光学损耗随退火温度的升高而下降,而后趋于饱和.采用总积分散射的方法对样品在不同退火温度下的散射损耗进行了分析,发现随着退火温度的升高散射损耗有所增加.因此,总的光学损耗的下降是由于吸收损耗而不是散射损耗起主导作用.对Al2O3材料的单层膜进行了同等条件的退火处理,由它们光学性能的变化推导出它们的折射率和消光系数的变化,从而解释了相应的多层膜光学性能变化的原因.反射膜的反射率在优化联系、镀膜工艺与退火工艺的基础上达98%以上.  相似文献   
273.
简并光学参量振荡器混沌反控制   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
冯秀琴  沈柯 《物理学报》2006,55(9):4455-4459
提出一种实现简并光学参量振荡器混沌反控制的方法,用正弦信号调制简并光学参量振荡器的基模衰减率,使简并光学参量振荡器从定态输出转化为混沌态.数值模拟结果表明,选择不同的调制幅度和调制角频率,只要满足系统的最大李雅谱诺夫指数大于零,即可实现不同的混沌轨道重构.通过比较最大李雅谱诺夫指数λmax随调制幅度和调制角频率变化曲线, 指出系统从周期态调制到混沌态比从无亚谐波输出的定态调制到混沌态更容易,有更宽的调制幅度和调制角频率选择范围. 关键词: 简并光学参量振荡器 混沌反控制 调制  相似文献   
274.
《发光学报》2006,27(1):139-139
中国科学院激发态物理重点实验室(以下简称实验室)始建于1989年,是国内惟一专门从事发光学及其应用研究的中国科学院开放实验室。徐叙院士是实验室的创始人和第一届主任,黄昆院士为实验室顾问(1989.4~1993.6)。现任实验室主任为申德振研究员。实验室依托于中国科学院长春光学  相似文献   
275.
红外耦合光学系统设计   总被引:2,自引:2,他引:0       下载免费PDF全文
红外目标模拟器由红外目标图像发生器和投影光学系统组成。该红外光学系统是一个要求与2个导引光学系统的光学技术参数相匹配的长焦距、大视场和具有像方远心光路的中红外光学系统。叙述用于红外目标模拟器的红外耦合光学系统的设计原理,提出它与导引光学系统一起可组成放大倍率M=4.5×的红外投影光学系统,并指出IR CRT产生的图像通过红外投影光学系统可成像在导引接收器上。针对给出的红外耦合光学系统的设计特点和技术要求,光学材料选取硅(Si) 锗(Ge) 硅(Si),采用简单的柯克三片式结构完成光学系统设计。设计评价结果表明,该系统的光学性能和成像质量均满足设计指标要求。  相似文献   
276.
本文报道了用可变入射角椭圆偏振仪(Variable angle incidence Spectroscopic Ellipsometer)测量Alq3,NPB,CuPc,Rubrene薄膜的光学常数,我们采用真空蒸镀法在硅衬底上分别制备了以上四种薄膜,然后我们用可变入射角椭圆偏振仪对四种薄膜进行了测量,测量在大气中进行,光谱范围从200到1000nm(或1.24到5cV),测量角度为65℃、70℃、75℃、80℃,接着,用Wvase32软件对四种薄膜的光学常数随波长(光子能量)的变化函数进行拟合,通过拟合我们得到了真空蒸镀的Alq3,NPB,CuPc,薄膜的光学常数随波长的变化函数及曲线,并且从材料吸收谱的吸收边,我们还得到了这些材料的光学禁带宽度。  相似文献   
277.
建立光学投影层析三维成像系统,该系统包括光学成像、图像采集、断层重建及三维显示,重建算法为滤波反投影算法.实验结果表明:利用该系统得到的重建图像与样品的形状吻合,重建结果边缘清晰,伪迹较小.  相似文献   
278.
279.
280.
端点、折点、歧点和交点是骨架图形的重要特点是,提出用快速查表法检测侯选特征点,再进行侯选特征点聚集,用局部结构分析,去除假特征点,判别真特征点的类型,并对折点给以大致的定量描述。实验结果表明,该方法能快速有效地找出骨架图形的特征点,在目标识别、字符识别等应用中起着关键作用。  相似文献   
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