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光学和传感器的防护技术 总被引:1,自引:0,他引:1
近年来,光电技术发展异常迅速,在这些技术装备中,当用光学聚焦时,辐射能量对光学元件、探测器都会构成威胁。本文讨论辐射对光学和探测器的影响以及降低其影响的防护技术。 相似文献
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在单模光纤反常色散区,首次推出了带有初始啁啾的高斯脉冲在二阶,三阶速度色散效作用产生的啁啾解析表达式,用数值法模拟了光纤中啁啾演变过程,研究结果表明,二阶,三阶色散导致非线性啁啾,三阶色散只在脉冲沿附产生啁啾极值,从而使脉冲在前后沿产生振荡结构,当具有负初始啁呼的高斯脉冲入射时,在脉冲中心小区域内净啁啾等于零,可形成孤子。 相似文献
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根据量子干涉的基本原理,研究了在多束相干激光场作用下分子或凝聚态体系光学跃迁几率与光场的相位关系,推导了作为相干控制基础的多路径光学跃迁的一般模型及其特殊情形的跃迁几率的关系表达式,归纳了已有的相干控制激发方案,提出的频域的相干控制可用统一的量子理论描述,理论研究的结果表明,对多路径量子跃迁过程,在相干外场的作用下,会引起态的量子干涉,使总跃迁几率的大小随外场的相位变化而改变,这是实现与光学跃迁过 相似文献
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OTDR(光学时域反射计)主要用于光缆传输网络的链路长度、损耗大小测量,故障点的判定等,是光缆信息传输网络系统中不可缺少的仪器。由于OTDR技术含量高,同时也是较贵重的仪器,一般一台十几万元。 相似文献
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在“С.И.瓦维洛夫国家光学研究所(ГОИ)”光学镀层工作是30年代在И.В.Гребевшиков院士领导下开始的。到目前为止形成一个高度熟练的专家集体。它完成同光学镀膜工艺有关的一整套的工作。在镀制中采用所有现代的光学镀层的真空方法:电阻法和在高真空中的电子束蒸发法,阴极法,离子等离子体法,磁溅射法。镀层工艺中成功地采用离子加工方法,其中包括基板的离子净化,离子辅助(ассистрование),离子涂抹(платирование)。 相似文献
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较深入地研究了折反光学系统的红外像面,为确定实际的红外像面提出了一个新方法—计算从可见光边缘无色的弥散圆到红外最佳像面的距离。实践证明,这是确定这类光学系统最佳像面的一个方便、可靠的方法。 相似文献