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采用厚膜技术研制了一种带有加热器的La_(1-x)Sr_xCo_(1-y)Fe_yO_3酒敏器件。介绍了器件性能测试结果,讨论了材料的气敏机理。 相似文献
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目前我国电位器电阻体的制作主要有两种工艺方法:一种是丝网印刷法,另一种是流布法。流布法属比较落后的工艺方法,在我国已逐步淘汰,故现在较为流行的是丝网印刷法。本文介绍一种先进的工艺方法——PC滚涂法。本厂从日本松下公司引进这一先进的制作工’艺技术,用于电阻体高阻部的制作。它的优点是生产效率高,电阻分布均匀,膜层表面光滑、平整,目标电阻值易于控制,生产合格率高。 相似文献
15.
本文叙述了合成碳膜电位器子浆料的标称阻值系列的改进,以及利用计算机辅助设计(CAD)绘制新的子浆料配比曲线的方法。利用此曲线指导浆料配制,较原工艺,阻值命中率大大提高。 相似文献
16.
在确定的开管扩镓装置中，以氢气做为镓源Ｇａ２Ｏ３的反应和输运气体，凭借准确的控制扩散条件，镓在ＳｉＯ２／Ｓｉ系统中扩散，可获得良好的扩散均匀性和重复性。根据镓在Ｓｉ和ＳｉＯ２中扩散行为，分析讨论了镓在裸Ｓｉ系和ＳｉＯ２／Ｓｉ系扩散所产生的杂质Ｒｓ效应，及其氧化膜质量和厚度对Ｒｓ的影响。 相似文献
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铝多孔质阳极氧化膜扩孔行为的电镜研究徐洮，赵家政，陈建敏（中科院兰州化物所固体润滑开放实验室，兰州７３００００）利用铝质材料阳极氧化层均匀、规则的多孔质结构，制备各种功能型阳极氧化铝材料是近年来铝质材料表面改性研究的热点之一￣［１］。所谓自润滑阳极氧... 相似文献
18.
钽／硅多层膜在５５０℃退火后的局域扩散反应卢江，李凡庆，陈志文，谭舜，陆斌，张庶元，王路春，李齐（中国科技大学结构分析开放实验室，合肥２３００２６）（南京大学物理系）多层膜提供了一个具有大量界面的扩散、晶化、固相反应的系统。本文研究了在５５０℃退火后... 相似文献
19.
Ｍｏ／Ｓｉ多层膜界面离子束处理及ＴＥＭ观察薛钰芝Ｒ．Ｓｃｈｌａｔｍａｎｎ，林纪宁Ａ．Ｋｅｐｐｅｌ，Ｊ．Ｖｅｒｈｏｅｖｅｎ（大连铁道学院，大连１１６０２２）（荷兰ＦＯＭ原子分子物理研究所）软Ｘ射线多层膜（ＭｕｌｔｉｌａｙｅｒｓｆｏｒＳｏｆｔＸ－ｒａｙＯ... 相似文献
20.
ＩＸ０４６５ＣＥ型厚膜电路的替代与修理高雨春（中国录音师协会１０００４５）夏普公司生产的开关电源厚膜电路ＩＸ０４６５ＣＥ是应用较为广泛的电路元件，它主要由驱动控制、保护电路和软启动电路三部分组成。图１是它在Ｃ３７００ＤＫ型彩电电源中的典型应用电路。为... 相似文献