常曲率空间中单形的中面公式及其应用

本文给出了n维常曲率空间中单形的中面面积公式，利用它我们还得到了一类几何不等式．     

一种新颖的超结构光纤Bragg光栅梳状滤波器的设计

报道一种新颖的用于多波长光纤激光器的超结构光纤Bragg光栅（SFBG）梳状滤波器，其突出特点是仅由单个光栅构成、折射率调制和局部啁啾富于变化、反射峰均匀性好、窄带宽和标准的信道间隔.采用基于LP算法的IS光纤光栅设计技术，将整体加窗切趾法改进为各信道独立加窗切趾，成功地设计出所需的SFBG，同时对SFBG的制作技术也进行了探讨.用传输矩阵法分析反射谱、时延曲线和群时延抖动.结果表明，所设计的SFBG满足各项设计指标要求，在DWDM系统中，这种新颖的SFBG可望成为用于多波长光纤激光器的最理想的高性 能梳 关键词： 超结构光纤Bragg光栅 光栅设计 梳状滤波器     

具有新光学性质的Zn-Zn2SiO4纳米同轴线阵列

采用气相沉积技术在Si衬底上生长了Zn-Zn₂SiO₄芯-壳结构纳米同轴线阵列。根部呈笋状的纳米同轴线,直径约100nm,长度可以超过10μm;同轴线芯直径约50nm、壳层厚约25nm。通过X射线衍射的表征以及能量色散谱的线扫描,确定纳米同轴线的芯为Zn,壳层为Zn₂SiO₄。我们提出了一种新的生长机制,同时也为生长均匀的纳米同轴线提供一种新的技术。观察阴极荧光谱发现,纳米同轴线有三个主要发光带:强度最大的中紫外300nm发光、较弱的可见光区560nm以及红外谱区865nm的发光。对纳米同轴线截面的300nm发光峰观测发现,中紫外发光来源于Zn₂SiO₄壳层。正是这种同轴线的结构,使得其具备特殊的光学性质。     

倒数08 奥运承诺

众所周知，在因为一个标准的应用而带来的巨大商业利益面前。尤其是在中国这个全球无可比拟的市场容量面前，没有任何一个相关的利益集团能显示出冷静的大度，但是因为有中国政府对奥运的承诺，所量制衡与博弈都将退居此席，政府力量的涉足不仅仅让这些标准得到更快实施，也让人对在未来的一年中相关市场的盎化而产生无尽的期待与想像。     

PAL制VHS格式录像机中PS法的函数分析

采用函数分析法对ＰＡＬ制ＶＨＳ格式录像机中的ＰＳ法进行了详细的分析。     

高比表面钛铌复合氧化物的制备

通过先用长链有机胺预支撑层状钛铌酸, 然后与含Ti4+的聚合阳离子进行交换反应, 再经高温焙烧后制备出高比表面的钛铌复合氧化物, 其比表面积达80～100 m2*g-1. 孔径分布测试结果表明, 这是一类以中孔为主的新型多孔材料.     

Y2O2S∶Eu3+,Mg2+,Ti4+长余辉材料制备中烧结条件和助熔剂的影响

Y2O2S∶Eu3+;Mg2+;Ti4+长余辉材料制备中烧结条件和助熔剂的影响;Y2O2S∶Eu3+;Mg2+;Ti4+; 烧结条件; 助熔剂; 发光性质     

软珊瑚Sinularia sp.中次生代谢产物的结构鉴定

细胞毒性;软珊瑚Sinularia sp.中次生代谢产物的结构鉴定     

关于分子特征形状的理论--Ⅱ.几个典型有机分子的内禀特征轮廓

借助于分子中电子运动的经典转折点,定义了分子的内禀特征轮廓.文中以甲烷、甲醇和甲酸为例,详细介绍了分子内禀特征轮廓理论方法.对分子轮廓的特征截面的具体分析,可以给出形成分子过程中原子的空间变化信息.首次计算和绘出了上述分子轮廓上的电子密度分布图,它与分子的化学性质密切相关,给出了对分子边界的新认识.     

纯硅MCM-41中孔分子筛合成因素的研究Ⅰ.Na~+、K~+阳离子对合成的影响

本文采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵（Ｃ１６ＴＡＢｒ，以下为１６３１），在（Ｎａ，Ｋ）ＯＨＳｉＯ２Ｃ１６ＴＡＢｒＨ２Ｏ体系中分别利用室温、水热及干粉法进行了纯硅ＭＣＭ４１中孔分子筛的合成，考察了阳离子Ｎａ＋、Ｋ＋对ＭＣＭ４１合成及稳定性的影响。通过ＸＲＤ对结晶度的测定，发现ＮａＭＣＭ４１的晶化速率明显高于ＫＭＣＭ４１，而热稳定性和水热稳定性较差，且ａ０值小于后者。同时发现，就合成方法而言，室温法得到的产物具有很高的结晶度，利用水热法合成的样品的热稳定性明显较高，而干法得到的分子筛产品具有优良的水热稳定性。