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101.
102.
极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿,得到了掩模(物方)最佳焦面位置和掩模图形尺寸校正量的计算公式。掩模(物方)焦面位置位于多层膜等效面上减小了图形位置偏移;基于理论公式对掩模图形尺寸进行校正,以目标CD为22 nm的线条图形为例,入射光方向变化时成像图形尺寸偏差小于0.3 nm,但当目标CD继续减小时理论公式误差增大,需进一步考虑掩模斜入射时整个成像光瞳内的能量损失和补偿。 相似文献
103.
2012年北京大学保送生测试数学部分的第3题为:题目已知f(x)为一元二次函数,且a,f(a),f(f(a)),f(f(f(a)))为正项等比数列.求证:f(a)=a.这是一道构思精巧的试题,涉及到一元二次函数、等比数列甚至复合函数、不动点等概念,很耐人寻味.文[1]利用一元二次函数的性质,给出试题的一种证法.本文将试题推广为下面的定理,并给出一个简证. 相似文献
104.
对不等式约束最优化问题本文提出了一个新算法。算法使用了非单调搜索,它不仅放松了每步迭代中对搜索的限制,而且使得算法迭代到一定阶段后具有非常简洁的形式,在不需要严格互补条件的较弱假设下,算法是整体和超线性收敛的。 相似文献
105.
讨论了推广的单种群Kolmogorov系统的严格正解的存在性,惟一性及全局渐近稳定性,得到了比通常Kolmogorov系统更一般的结果,进一步在周期与概周期的情形下,得到了正周期解与正概周期的存在性。 相似文献
106.
引入有限维向量空间的γ-锥和严格γ-锥的概念.证明了γ-锥是一类闭锥,严格γ-锥是一类开锥.并且,研究了γ-锥和严格γ-锥与较多锥、严格较多锥及它们的闭包和内部之间的关系. 相似文献
107.
通过引进“强实Hilbert环”这一概念,本文证明了,一个环A是强实Hilbert环,当且仅当多项式环A[X]是实Hilbert环,当且仅当A[X]的每个实极大理想在A上的局限是实极大的,从而文献[1]中两个主要结果被否定.此外,本文还研究了所谓的“严格的实Hilbert环”,这类环对于半代数零点定理等方面的探讨更具应用意义. 相似文献
108.
109.
给定一个模糊关系,Ovchinnikov和Roubens引进了非常一般的模糊严格偏好关系定义,本文将详细讨论该偏好关系的弱传递性,一致性,强传递性以及非循环性等传递性有关的性质。 相似文献
110.
广义对角占优阵的一个等价条件 总被引:2,自引:0,他引:2
郑秉文 《纯粹数学与应用数学》1999,15(2):37-41
给出了实方阵为广义对角占优阵的充要条件,同时给出了判断广义对角占优阵可靠,可行,较简单方法。 相似文献