印制板液态感光成形阻焊膜制作及品质控制

本文对印制板液态感光成形阻焊剂的制作进行了简单介绍,对该制程的工艺过程和品质控制进行了较为详细的论述。     

PZT厚膜UCPBG结构的射频天线研究

采用了丝网印刷工艺在硅片上制备了锆钛酸铅（PZT）薄膜,进行了相应的工艺分析。设计并仿真了平面光子带隙（UCPBG）结构,测试了结构的电磁参数,证实了结构的可行性,在此基础上提出了一种基于PZT厚膜工艺和平面光子带隙结构的微型射频（RF）天线结构与工艺设计。     

葡萄糖氧化酶在纳米金修饰的丝网印刷电极上的直接电子传递及应用研究

制作了一次性使用的无介质丝网印刷传感器。研究了葡萄糖氧化酶在纳米金修饰的丝网印刷碳电极(GOD/Au/SPCE)上的电化学行为,在0.1mol/L和pH5.0的磷酸盐缓冲体系中,吸附在金胶纳米粒子上的葡萄糖氧化酶能保持其生物活性并催化溶解氧的还原,还原催化电流随葡萄糖溶液的加入而降低,线性范围为3.0×10-5～4.0×10-4mol·L-1,检出限为1.0×10-5mol·L-1。方法简便快速,可用于葡萄糖的测定。     

直接电化学法检测烟酰胺腺嘌呤二核苷酸

本实验所用丝网印刷电极(SPCE)对烟酰胺腺嘌呤二核苷酸(NADH)具有极好的直接电化学响应性能,在低电位(+0.200V)无需任何修饰的情况下,NADH在SPCE电极表面被氧化,据此可测定其含量。在最优实验条件下,NADH的氧化峰电流与其浓度在2.5×10-6~2.0×10-4 mol/L范围内呈线性关系,相关系数r=0.9992,检测限可达1.0×10-6 mol/L。该方法检测快速、灵敏度高、重现性好,具有良好的应用前景。     

基于NSCT的反锐化掩模遥感图像增强方法

针对传统图像增强过程中产生的伪吉布斯现象,清晰度差和对比度低的问题,提出一种基于非F采样Contourlet变换（NonsubsampledContourletTransform,NSCT）的反锐化掩模图像增强算法。该算法一方面利用NSCT变换的平移不变性,抑制传统增强算法中产生伪吉布斯现象,另一方面用反锐化掩膜算法来处理图像,提高增强后图像的清晰度和对比度。实验仿真结果表明,本文提出的方法与Conlourlet增强方法,反锐化掩模增强方法相比能够有效提高图像的清晰度,对比度和抑制伪吉布斯现象,图像视觉效果有明显改善。     

硅表面直接生长十八烷基硅烷小分子自组装单层抗蚀剂的亚稳态氦原子光刻技术

选取不同尺寸和形状的物理掩模,以硅表面直接生长的十八烷基硅烷小分子自组装单分子层作为抗蚀剂,硅（100）为衬底,亚稳态氦原子作为曝光源,利用湿法化学刻蚀方法在衬底上制备具有纳米尺寸分辨率的硅结构图形。基于扫描电子显微镜、原子力显微镜的表征结果表明：原子光刻技术可以把具有纳米尺度分辨率的正负图形通过化学湿法刻蚀技术很好地传递到硅片衬底上,特征边缘分辨率达到20nm左右,具有较高的可信度和可重复性。正负图形相互转化的临界曝光原子剂量约为5×1014atomscm-2,曝光时间约为20min。     

超分辨近场结构光刻技术

介绍了一种新的近场光刻技术的基本原理及其在光刻方面的应用研究的最新进展。新技术的基本原理是;光远场照射,通过超分辨掩模产生光刻所需的超过衍射极限的近场光,利用夹在掩模和光刻胶中闯的电介质保护层实现了近场光的最佳耦合,减小了线宽并大大提高了光刻速度。这种膜层结构叫超分辨近场结构(Super-RENS),是近年来发展起来的一种新的近场光学技术。     

紫外光源的空间相干性对光纤光栅写入的影响

对相位掩膜法紫外写入光纤光栅技术中紫外光源的空间相干性对光纤光栅特性的影响进行了详细的理论与实验研究。结果表明,紫外定入光源的空间相干性对光纤光栅的特性有一定的影响,只有在紫外光垂直入射且光敏光纤靠近相位掩模板的情况下,才能制作出性能优良的光纤光栅。     

相位掩模法制作光纤光栅的研究

准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写入光栅，从衍射的频谱理论出发，导出具有一定发散的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布，分析了光源发散角及掩模衍射特性对纤芯 强分布及光纤光栅制作的影响，并把分析结果与实验现象进行了比较。     

长周期光纤光栅的几种制作方法

长周期光纤光栅是近几年出现的新型光纤器件,在光纤通信和光纤传感中有许多重要的应用。长周期光纤光栅低成本高效率的制作是其广泛应用的先决条件。简要叙述了长周期光纤光栅的几种制作方法。