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掩模光刻机中找平控制研究 总被引:1,自引:1,他引:0
基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距离相同,从而保证基片上图形的一致性,提高设备的分辨率。找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面。 相似文献
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碳膜印制板价格低廉,质量稳定,尤其适用于带有按键功能的电子产品。系统介绍了碳质导电印料的特性,生产操作工艺和应用范围以及碳膜 印制板的性能,简要的制造工艺。 相似文献
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《现代表面贴装资讯》2008,(2):79-81
FX-3芯片贴装机;lineo贴装平台;Icon i8丝网印刷机;Flex Ultra HR AOI系统;Pyramax 100N回流焊接系统 相似文献
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在丝网印刷碳电极上修饰纳米MnO2,并利用戊二醛和β-环糊精交联固定尿酸酶,以二茂铁作为电子媒介体,研制用于测定尿酸浓度的生物传感器.实验结果表明,纳米MnO2降低了电子媒介体二茂铁的氧化还原反应电位,且纳米MnO2与电子媒介体二茂铁在尿酸生物传感器中表现出协同增效效应.该尿酸生物传感器线性响应范围是6.0×10-6~1.2×10-3 mol/L,检出限为3.0×10-6 mol/L.用纳米MnO2修饰酶电极,改善了电极表面条件,加快了电极反应速率,提高了尿酸传感器的灵敏度. 相似文献