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102.
刘恩荣 《电子工业专用设备》1991,20(3):48-56,13
本文介绍一种具有0.42数值孔径、21.2mm像场尺寸、5×缩小率全石英镜头的新型准分子激光步进机,并报告其设计特色和实验结果。该系统的突出特点之一是采用了工作于633nm波长的直接以中间掩模为基准对准圆片的TTL对准系统。曝光波长同对准波长间焦差大的问题,是用镜头中的专用校正光路来解决的。所用激光器与步进机间的柔性光学接口和控制激光波长的联机校准系统,减轻了以准分子激光器作生产级光学光刻设备新型光源的困难。最后给出了分辨率及套刻精度的实验结果。 相似文献
103.
本文主要叙述薄膜集成电路所用的钼金属空花掩模的制备。简述了制备工艺流程,阐明了用硝酸、磷酸、醋酸的混合液选择性化学腐蚀的机理,讨论了化学腐蚀的主要影响因素,从而制定了腐蚀液的最佳配方和腐蚀的工艺条件。 相似文献
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106.
107.
随着丝网印刷技术应用于碳膜电位器的碳片制造中,使电位器的品种大大增加、产量成倍增加、各项技术指标大大提高,产品成本下降许多,给企业带来可观的经济效益。本文介绍在工作实践中有关碳膜片的照相制版及大面积丝网印刷的一些经验。 相似文献
108.
本文利用脉冲激光沉积的定向性和掩模的阴影效应,原位沉积N-YBCO作为势垒层制备了高TcYBa2Cu3O7Josephson边缘结,在60K,微波辐照观察到明显的Shapiro台阶,在Tc附近,Ic∽(1-T/Tc),n=1.88。 相似文献
109.
LIGA技术的掩模制造 总被引:2,自引:0,他引:2
LIGA技术是近几年才发展起来的一门新的技术,包括光刻、电铸和塑铸。由于要进行深度X光曝光,所用的同步辐射X光较硬,这一曝光条件相应就需要X光掩模吸收全有较大厚度和较高的加工精度,这样才能够阻档住X光,同时保证较高的光刻精度。 相似文献