AlN缓冲层厚度对脉冲激光沉积技术生长的GaN薄膜性能的影响

在蓝宝石(Al2O3)衬底上应用脉冲激光沉积技术(PLD)生长不同厚度的AlN缓冲层后进行GaN薄膜外延生长。采用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)和扫描电子显微镜(SEM)对外延生长所得GaN薄膜的晶体质量和表面形貌进行了表征。测试结果表明:相比直接在Al2O3衬底上生长的GaN薄膜,通过生长AlN缓冲层的GaN薄膜虽然晶体质量较差,但表面较平整;而且随着AlN缓冲层厚度的增加,GaN薄膜的晶体质量和表面平整度均逐渐提高。可见,AlN缓冲层厚度对在Al2O3衬底上外延生长GaN薄膜的晶体质量和表面形貌有着重要的影响。     

ZnO缓冲层的厚度对HVPE-GaN外延层的影响

为了得到高质量的GaN材料,首先在c面蓝宝石(Al2O3)衬底上射频磁控溅射不同厚度的ZnO缓冲层,然后采用氢化物气相外延(HVPE)法在ZnO缓冲层上生长约5.2μm厚的GaN外延层,研究ZnO缓冲层的厚度对GaN外延层质量的影响。用微分干涉显微镜(DIC)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)技术研究分析了GaN外延层的表面形貌、结晶质量和光学特性。结果表明,ZnO缓冲层的厚度对GaN外延层的特性有着重要的影响,200 nm厚的ZnO缓冲层最有利于高质量GaN外延层的生长。     

Fabrication of high-quality ZnS buffer and its application in Cd-free CIGS solar cells

This paper provides the fabrication of Cd-free Cu（In,Ga）Se2 （CIGS） solar cells on soda-lime glass substrates. A high quality ZnS buffer layer is grown by chemical bath deposition （CBD） process with ZnSO4-NH3-SC （NH2）2 aqueous solution system. The X-ray diffraction （XRD） result shows that the as-deposited ZnS film has cubic （111） and （220） diffraction peaks. Scanning electron microscope （SEM） images indicate that the ZnS film has a dense and compact surface with good crystalline quality. Transmission measurement shows that the optical transmittance is about 90% when the wavelength is beyond 500 nm. The bandgap （Eg） value of the as-deposited ZnS film is estimated to be 3.54 eV. Finally, a competitive efficiency of 11.06% is demonstrated for the Cd-free CIGS solar cells with ZnS buffer layer after light soaking.     

基于InGaAs渐变缓冲层的太阳能电池的研究

This paper uses an InGaAs graded buffer layer to solve the problem of lattice mismatch and device performance degradation. In the graded buffer layer, we choose the ＂transition layer＂ and the ＂cover layer＂ to accommodate the 3.9% mismatch. No threading dislocations were observed in the uppermost part of the epitaxial layer stack when using a transmission electron microscope （TEM）. We analyze the factors which influence the saturation current. Simulation data shows that the cells grown by metal organic vapor phase epitaxy （MOVPE） have considerable open circuit voltage, short circuit current, and photoelectric conversion efficiency. Finally we propose that InP may have great development potential as a substrate material.     

基于PCRAM数据页聚簇的缓冲算法

针对Flash写前需擦除,读写I/O开销不均衡等固有缺陷,研究面向闪存缓冲区管理,对提高基于Flash的固态硬盘(Solid State Disk,SSD)访问性能以及降低系统功耗具有重要理论意义和应用价值。文章提出了一种新型存储架构,并实现了一种适用于SSD的基于相变存储器(Phase Change Memory,PCRAM)数据页聚簇的缓冲算法。文章中详细介绍了基于PCRAM聚簇的缓冲算法关键技术及原理,充分阐述算法相关元数据、存储数据、FTL管理与控制以及详尽分析了缓冲算法的读、写操作控制原理,最后通过FlashSim仿真平台实现SSD写缓冲。基于仿真结果与传统缓冲算法性能比对,分析得出该缓冲算法可降低SSD随机写次数和SSD数据存储分散性,并提升SSD响应速度,降低系统功耗。     

二氧化碳缓冲溶液缓冲原理的数字化解析实验*

利用传感器数字化技术,分析室温下碳酸氢钠稀溶液直接吸收或释放二氧化碳气体的行为、pH及其变化趋势,设计数字化实验,为碳酸氢钠溶液在生物上作为二氧化碳缓冲液的行为提供化学实验验证。进行热力学计算,为其缓冲原理提供化学理论支撑。实验证明,碳酸氢钠稀溶液是构建二氧化碳缓冲液的充要条件,其作用原理是通过自偶电离建立碳酸氢钠碳酸钠缓冲对,从而与环境中的二氧化碳建立溶解平衡,其总方程式为:2HCO-3(aq)CO2-3(aq)+H2O(l)+CO2(g)。     

一种带有注入增强缓冲层的4H-SiC GTO晶闸管

门极可关断(GTO)晶闸管是应用在脉冲功率领域中的一种重要的功率器件。目前,由于常规SiC GTO晶闸管的阴极注入效率较低,限制了器件性能的提高。提出了一种带有注入增强缓冲层的碳化硅门极可关断(IEB-GTO)晶闸管结构,相比于常规GTO晶闸管结构,该结构有着更高的阴极注入效率,从而减小了器件的导通电阻和功耗。仿真结果表明,当导通电流为1 000 A/cm^2时,IEB-GTO晶闸管的比导通电阻比常规GTO晶闸管下降了约45.5%;在脉冲峰值电流为6 000 A、半周期为1 ms的宽脉冲放电过程中,器件的最大导通压降比常规GTO晶闸管降低了约58.5%。     

基于P3HT空穴传输层的钙钛矿太阳能电池性能仿真研究

利用AMPS-1D软件对钙钛矿太阳能电池性能进行仿真.研究发现,当P3HT厚度500 nm时,钙钛矿太阳能电池的短路电流密度Jsc=18.995 mA/cm2,光电转换效率Ef=17.425;,填充因数FF=0.824,开路电压Voc=1.113 V.钙钛矿太阳能电池的光吸收层厚度为400 nm时,钙钛矿太阳能的光电转化效率最大.钙钛矿太阳能电池开路电压、短路电流密度、填充因数和光电转化效率等性能随着阴极材料功函数的增大而减.通过理论计算对制备高性能的太阳能电池具有指导性作用.     

基于容错机制的关键链项目缓冲差别监控研究

关键链项目缓冲监控绩效受活动自身和活动执行主体特性的双重影响,项目经理应根据不同执行主体对活动进行差别监控,而现有缓冲监控研究未充分考虑活动执行主体异质性。首先,结合网络复杂度和风险感知等活动自身因素以及综合信任度等执行主体层面因素对缓冲进行分配;其次,引入容错机制对不同活动触发点进行差别设置,并将缓冲监控分为信任型和监督型两类监控模式;最后,根据活动缓冲消耗对不同活动进行差别动态监控。蒙特卡洛模拟结果表明,本文方法能够有效降低错误预警,保证项目按计划执行并实现对项目的综合优化。     

H2载气流量对AlN缓冲层生长的影响

在Si(111)衬底上用金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备生长了AlN和GaN薄膜。采用高分辨X射线衍射、椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜研究了AlN缓冲层生长时的载气(H2)流量变化对GaN外延层的影响。椭圆偏振仪测试表明:相同生长时间内AlN的厚度随着H2流量的增加而增加,即H2流量增加会导致AlN生长速率的提高。原子力显微镜测试表明:随着H2流量的增加,AlN表面粗糙度也呈上升趋势。XRD测试表明:随着AlN生长时的H2流量的增加,GaN的(0002)和(1012)峰值半宽增大,即螺型穿透位错密度和刃型穿透位错密度增加。可能是由于AlN缓冲层的表面形貌较差,导致GaN的晶体质量有所下降。实验结果表明:采用较低的H2流量生长AlN缓冲层可以控制AlN的生长速率,在一定程度上有助于提高GaN的晶体质量。