准球心弧线摆动高速抛光用的高纯氧化铈

本文阐述了准球心弧线摆动高速抛光中与聚氨基甲酸乙酯抛光模相匹配的高纯氧化铈抛光粉经烧制处理后的抛光效率,添加剂的作用以及回收处理。     

能动抛光磨盘的有限元法分析

 能动磨盘在光学抛光时随磨盘移动位置和旋转角度不同而产生不同的变形以实时与大口径被抛光工件表面实现良好的吻合。模拟了能动磨盘的工作过程，探讨了用于光学抛光的可行性。以加工直径1.5m，f1/2的抛物面光学元件为例，用有限元法对能动磨盘能够产生的变形进行了仿真计算，结果表明能动磨盘能够以较高精度产生旋转对称或非对称的二次曲面。     

用缩醛树脂制作光学抛光片

本文讨论了缩醛树脂一般性质和特性，及其在制作光学抛光片中的应用。     

用环形抛光机磨制高精度的平面镜

本文描述了在一台国产0.6m环形抛光机上磨制Φ80×10mm、φ150×12mm、φ220×28mm三块K9材料平面镜及一块φ120×15mm微晶料平面镜的实验过程,从工艺角度归纳出了若干磨制规律。     

基于六自由度机构平台实施自由曲面确定性抛光

工具定位精度和工艺合理性规划是影响自由曲面表面高质量制造的主要因素。研究了立足计算机控制的确定性制造概念。借助于多自由度机构平台,采取点对点的材料去除方式,针对具有非平缓变化曲率或陡度的自由曲面表面,设计工具结构、规划抛光路径,实施快速均匀抛光,为构建自由曲面计算机控制制造专家系统提供了支撑。     

光学玻璃加工破坏层研究及粗磨、精磨、抛光工序加工余量的合理匹配

本文通过用五种散粒磨料（碳化硅）、五种固着磨料（金刚石）对八大类常用光学玻璃进行加工，用扫瞄电子显微镜观察其表面形貌，用抛测法测出其破坏层深度，得出一系列破坏层的深度数值，从而找出破坏层与磨料之问的函数关系。以破坏层的绝对深度为依据，得出光学加工中精磨、抛光工序的加工余量的合理匹配值。     

平面和曲面光学零件气囊抛光材料去除的比较研究

气囊数控抛光是近年来一种新兴的先进光学制造技术,采用柔性的气囊作为抛光工具并以进动的方式进行加工。首先简要阐述了气囊抛光的抛光原理,然后针对平面和曲面光学零件,在自行研制的气囊抛光实验样机上进行了抛光实验。被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的。研究了进动角、气囊压缩量、气囊内部压力、气囊转速、抛光时间以及工件的曲率半径几种重要的工艺参数对平面工件和球面工件抛光接触区大小和形状影响情况的异同。在此基础上,总结了气囊抛光材料去除的影响规律。给出了几种重要工艺参数在平面工件和球面工件上取值范围。     

Terpolymerization of Triisopropylsilyl Acrylate,Methyl Methacrylate,and Butyl Acrylate: Reactivity Ratio Estimation

Ternary monomer reactivity ratios of triisopropylsilyl acrylate (SiA), methyl methacrylate (MMA), and n‐butyl acrylate (BA), as common monomers in self‐polishing coatings (SPCs) binders are obtained using experimental data collected from free radical bulk polymerization at 70 °C. Different terpolymerizations at low and medium‐high conversions are performed at optimized feed compositions. Estimations are made using the error‐in‐variables model (EVM) framework, applying the recast form of the Alfrey–Goldfinger (AG) model and a direct numerical integration (DNI) approach to the collected data. Estimations from individual low and medium‐high conversion data are compared to those found with the combined data (full conversion range data). The highest certainty in point estimates are obtained with analysis of the full conversion range data. Furthermore, the reactivity ratios determined from the combined data fall between those found with analysis of individual low and medium‐high conversion data, another corroboration of reliable data collection. Reactivity ratios determined from analysis of the combined data (r_SiA/MMA = 0.4185, r_MMA/SiA = 1.3754, r_SiA/BA = 0.8739, r_BA/SiA = 0.5736, r_BA/MMA = 0.3692, r_MMA/BA = 1.7919) are used in the recast AG model to predict cumulative terpolymer composition as a function of conversion. The experimental data and model prediction show satisfactory agreement.     

超光滑表面及其制造技术的发展

超光滑表面制造技术是超精密加工技术的一个重要分支。通过介绍超光滑表面的特征、应用及其制造技术的发展,希望给出超光滑表面技术的整体轮廓。在介绍超光滑表面的概念及其主要特征的基础上,通过典型例证指出了超光滑表面的软X射线光学、激光陀螺等科技领域的重要应用。回顾了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价。最后提出了对超光滑表面制造技术的发趋势的观点。     

基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究

 利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光（刻蚀）方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测,结果表明,粗糙度基本无变化,刻蚀前后粗糙度分别为0.72 nm和0.71 nm。基于Preston假设, 建立了数控化学抛光理论模型,运用WYKO干涉仪观察实验现象可知,化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线,小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线。