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61.
采用10.6 μupm 的 CO2激光, 对单次激光脉冲辐照修复熔石英存在的烧蚀采用大光斑钝化去除. 经过辐照修复的区域置于前表面测试初始损伤阈值, 结果表明调制造成的损伤得到了一定程度的抑制; 辐照区域置于后表面修复后 熔石英的初始损伤阈值超过了基底的初始损伤阈值. 实验观察到了应力分布外扩, 同时明显减弱. 对损伤增长的测试说明, 经过激光熔融辐照后的损伤点, 当应力释放以后, 损伤扩展初期表现出指数增长趋势, 后期随着辐照次数的增加, 损伤增长不再明显, 并且趋于恒定值. 相似文献
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对于实际拍摄的一些图像信噪比低,噪声密度大,且含有混合噪声,而现有算法大多只能去除单一噪声的问题。针对混合噪声中含有的脉冲噪声和高斯噪声,提出基于改进中值滤波和提升小波变换去噪相结合的方法。去噪过程中,使用中值滤波器提取脉冲噪声并采用中值滤波算法滤波后,构造提升小波,采用改进阈值函数提升小波阈值去噪方法去除高斯噪声。实验结果表明,当噪声值(,)=(0.4, 20)时,采用本文去噪方法,峰值信噪比(PSNR)为34.002 1,平均绝对误差(MAE)为2.365 3。 相似文献
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本文阐述了在中国原子能科学研究院“天光一号”KrF激光核聚变实验装置上,MOPA系统光学元件加工与镀膜研究工作的进展。实验测量结果表明,加工后的基片表面均方根粗糙度对于K9光学玻璃与熔融石英玻璃来说分别为σrms=1.8±0.5nm,σrms=2.0±0.4nm。镀HfO2/SiO2高反射膜的光学元件的反射率与破坏阈值分别为R>99.5%,Eth=1.30~1.33J/cm2。镀Al2O3/MgF2增透膜的光学元件的透射率与破坏阈值分别为T>99.5%,Eth=1.3~1.97J/cm2。 相似文献
69.
Two localized CO2 laser treatment methods for mitigation of UV damage growth in fused silica
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Two methods:high-power,short-time,single-shot irradiation(Method A) and low-power,long-time,multi-shot irradiation(Method B) are investigated to mitigate the UV damage growth in fused silica by using a 10.6-μm CO2 laser.To verify the mitigation effect of the two methods,the laser induced damage thresholds(LIDTs) of the mitigated sites are tested with a 355-nm,6.4-ns Nd:YAG laser,and the light modulation of the mitigation sites are tested with a 351-nm continuous Nd:YLF laser.The mitigated damaged sites treated with the two methods have almost the same LIDTs,which can recover to the level of pristine material.Compared with Method A,Method B produces mitigated sites with low crater depth and weak light modulation.In addition,there is no raised rim or re-deposited debris formed around the crater edge for Method B.Theoretical calculation is utilized to evaluate the central temperature of the CO2 laser beam irradiated zone and the radius of the crater.It is indicated that the calculated results are consistent with the experimental results. 相似文献
70.
为了探究VO2薄膜受激光辐照的温度场分布,以及1 064 nm激光直接辐照100 s内至相变的激光功率密度阈值,并比较近红外和中红外波段透过率调制特性差异。首先基于COMSOL建立了薄膜受激光辐照的模型并进行了温度场仿真,然后分别测试了薄膜正反面被不同功率密度的1 064 nm激光辐照100 s内激光透过率随时间响应特性。实验中的VO2薄膜利用分子束外延法在Al2O3基底上制备得到。仿真结果表明,激光功率密度为25 W·mm-2时,50 nm厚薄膜在被辐照1 ms时间内即达到相变温度。经激光辐照实验发现:50 nm厚的VO2薄膜正反面受1 064 nm激光直接辐照100 s内至相变的功率密度阈值分别为4.1 W·mm-2和5.39 W·mm-2。30 nm厚VO2薄膜对1 064 nmn激光的透过率调制深度约为13%,对3 459 nm激光透过率调制深度约62%,说明VO2薄膜对近红外透过率调制特性不明显。 相似文献