用于高温等离子体实验的C_8H_8簿膜

一、引言 在核聚变、X射线激光和激光等离子体的研究中,对高温等离子体辐射的X射线诊断,是了解等离子体与激光相互作用的最基本的手段之一。对激光等离子体X射线光谱的分析认为,X射线光子能量在1keV附近的产额最高,所带的信息量亦最丰富,因此人们对等离子体的诊断研究大都集中在这一软X射线波段上。而用于该波段的各类探测器所需要的滤     

在光敏性三元聚合物混合物中构造 多尺度有序图案

由多组分聚合物混合物所形成的多尺度有序结构能够展现出许多新奇的物理化学性质, 从而使其在材料工程领域具有十分重要的潜 在应用价值. 本文通过计算机模拟, 在光敏性不相容三元混合物体系中创建了多尺度有序结构. 通过调节光照区域和掩膜形状, 获得了棋盘形、箭靶状等十分独特的形貌, 并且这些结构可以在实验上通过在适当的时间淬火而稳定较长的时间. 详细探讨了组分比、掩膜宽度、间距以及光照强度对体系的影响, 从而为实现多尺度长程序花样薄膜的制备提供了一个简便的途径, 同时也为纳米器件的制备提供了一定的指导.     

一端附壁高分子链的Monte Carlo研究

采用简立方格点上的Monte Carlo模拟,研究一端被无限大不可穿透平面壁吸附的高分子链的均方末端距<R²>,以及高分子链的质量中心到平面吸附壁的平均距离<Z>,与链长N、参数u(u=e^-ε/kT,ε是链骨架原子间的相互作用能量,k是玻耳兹曼常数,T是热力学温度)的关系。结果表明:<R²>和<Z>都服从标度律,<R²>=αN^γ,<Z>=βN^η,其中,γ、η、α、β都是u的函数;u从1减小到0.5,则γ从1.01增大到1.19,η从0.51增大到0.60.     

Photo-induced evolution of copper sheets from cluster molecules and its application to photolithographic copper patterning

UV photoexcitation of (t-butylethynyl copper)₂₄ cluster films induces segregation of the crystals into metallic and organic phases and leads to evolve the metallic sheets sandwiched by organic polymers. The growth of the metallic crystals in the plane of the photo-electromagnetic field is attributed due to plasmon-plasmon interaction among nanoparticles embedded in dielectric polymer matrices. The surface enhanced photochemical reaction of residual cluster molecules on the photon incident direction is expected to take an important role for joining the metal particles to produce a metallic sheet. We can apply this phenomenon for photolithographic copper pattern generation on a flexible base plate.     

溅射MOS_2膜和PTFE膜在边界润滑条件下的摩擦学性能之研究

本文对溅射二硫化钼(MoS_2)膜和聚四氟乙烯(PTFE)膜在边界润滑条件下的摩擦学性能进行了研究。结果表明,与未镀膜的轴承钢相比,这两种固体润滑膜都具有较好的抗粘着性和减摩性,以及对硬质颗粒良好的嵌入性,但在同样的负荷条件下,PTFE膜的磨损比MoS_2膜的轻微。     

硅基底多层薄膜结构材料残余应力的微拉曼测试与分析

针对MEMS器件制备中两种典型的硅基底多层薄膜结构的残余应力问题,本文提出了利用微拉曼光谱技术测量其残余应力的方法,分析并给出了硅基底多层薄膜结构中的残余应力分布规律。实验结果表明,在硅基底和薄膜内存在较大的工艺残余应力,残余应力在基底内靠近薄膜两侧部分呈非线性变化,在基底内主要呈线性变化,并引起基底整体翘曲。基于实验结果分析,提出了硅基底多层薄膜结构的分层结构模型。本文工作表明微拉曼光谱技术是测量与研究硅基底多层薄膜结构残余应力的一种有力手段。     

磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学研究

利用原子力显微镜分析了ZnO薄膜在具有本征氧化层的Si(100)和Si(111)基片上的表面形貌 随沉积时间的演化. 通过对薄膜生长形貌的动力学标度表征，研究了射频反应磁控溅射条件 下，ZnO薄膜的成核过程及生长动力学行为. 研究发现，ZnO在基片表面的成核过程可分为初 期成核阶段、低速率成核阶段和二次成核阶段. 对于Si(100)基片，三个成核阶段的生长指 数分别为β₁=1.04，β₂=0.25±0.01，β₃=0.74；对 于Si(11 关键词： ZnO薄膜 磁控溅射 生长动力学 成核机制     

热蒸发YbF3薄膜的机械特性

 实验研究了热蒸发YbF₃薄膜在大气中的应力和附着力。利用Veeco干涉仪,测试了各种工艺条件下单层YbF₃薄膜的应力。结果发现:YbF₃薄膜的残余应力为张应力,热应力在残余应力中的比重较大;沉积方式对薄膜应力的影响不大;薄膜应力在大气中有一个释放的过程。热处理后,YbF₃薄膜应力增大。     

用功的互等定理求解矩形薄板的自然频率

从虚功原理出发，证明了薄板小挠度弯曲问题的功的互等定理，并由此推出了求解矩形薄板自然频率的公式．算例表明，该公式计算简便，精度较高．     

中心集中力作用下圆薄板的固有频率—载荷特征关系

本文讨论了中心集中静载作用下圆薄板在非线性弯曲静平衡构形附近的微幅自由振动,其静平衡问题采用问题的精确解在此基础上,用伽辽金法获得了其最低固有频率——载荷特征关系.所得结果可供这类谐振弹性元件设计中参考.