一种铈（Ⅲ）配合物对含石墨粘结涂层耐蚀性的影响

为了改善含石墨粘结涂层的耐蚀性，首先对这种涂层在腐蚀环境中耐蚀性差的原因进行了分析，然后将二正丁基磷酸、ＣｅＦ＿３、Ｓｂ＿２Ｏ＿３和一种Ｃｅ（Ⅲ）配合物Ｃｅ（ＮＯ＿３）（Ｃ＿８Ｈ＿（１８）ＰＯ＿４）＿２分别添加于酚醛环氧－ＭｏＳ＿２－石墨粘结涂层中，考察了它们对这种涂层耐蚀性的影响，并对含Ｃｅ（ＮＯ＿３）（Ｃ＿８Ｈ＿（１８）ＰＯ＿４）＿２的涂层和空白样涂层进行了表面分析。盐雾试验表明，添加Ｃｅ（ＮＯ＿３）（Ｃ＿８Ｈ＿（１８）ＰＯ＿４）＿２可以有效地抑制涂层中ＭｏＳ＿２的氧化和由石墨所引起的金属底材之电化学腐蚀；根据Ｘ射线光电子能谱分析结果可知，添加Ｃｅ（ＮＯ＿３）（Ｃ＿８Ｈ＿（１８）ＰＯ＿４）＿２之所以能够提高含石墨粘结涂层的耐蚀性，应当归因于它在ＭｏＳ＿２晶体表面和金属底材表面的吸附。因此，Ｃｅ（Ⅲ）配合物Ｃｅ（ＮＯ＿３）（Ｃ＿８Ｈ＿（１８）ＰＯ＿４）＿２是含石墨粘结涂层的一种实用性能良好的新型防腐添加剂。     

圆柱基体热障涂层制备工艺中的残余应力分析

由于基体和热障涂层各层材料的热膨胀系数不同,在温度变化时各部分变形大小也不同,从而导致涂层内部产生残余应力。本文利用过盈配合模型求解圆柱形基体上热障涂层的残余应力,计算了涂层的厚度、弹性模量和热膨胀系数对残余应力的影响,并从应力角度探讨热障涂层的剥落失效。     

用于MOCVD的金属有机Ba源的制备及性质研究北大核心CSCD

金属有机化学气相沉积法(MOCVD)能够在长的柔性金属基带上连续、快速、均匀沉积YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜,因而极具开发价值.MOCVD制备YBCO涂层导体的关键技术之一在于金属有机源(MO)的制备.国外化学试剂公司在以2,2,6,6-4甲基-3,5庚二酮(thd)为配体的MO源上技术较为成熟,并已实现商业化生产,但是价格昂贵,其中Ba(thd)2价格约为700元/g.另外,与Y(thd)3和Cu(thd)2相比,Ba(thd)2挥发性、稳定性差且制备困难.本文对金属有机Ba源的制备、稳定性及真空下的蒸发特性进行了研究.通过引入助配体四乙烯基戊胺,该Ba源的蒸发温度比纯的Ba(thd)2更低,稳定性更高,且成本仅为30元/g,对于降低YBCO高温超导带材的制备成本具有重要意义.采用该Ba源制备的300nm厚YBCO薄膜的Jc达到2.0MA/cm2(77K,0T),表明其具有很好的实用性.     

石墨炉原子吸收光谱法钼涂层直接进样测定葡萄酒中的铝

主要应用了石墨炉原子吸收光谱法塞曼扣除背景方式,在镀钼涂层的平台石墨管中直接进样测定葡萄酒中的铝含量.研究了石墨炉各主要工作条件对吸光度的影响,确定了该方法的最佳条件:0-100μg/L范围内呈线性关系;仪器的检出限为1.7μg/L;应用此方法测定了几种不同样品中铝含量,测定值的相对标准偏差(n=10)在2.28%-3...     

激光作用下环氧/硅树脂复合涂层的1.3μm反射特性研究

利用共轭反射计装置,开展了真空环境中激光作用下环氧/硅树脂双层结构复合涂层的1.3μm反射特性研究,测量得到了涂层反射率随样品背表面温度的变化曲线。通过有限元分析和界面热阻修正得到了反射率随涂层温度的变化关系,探讨了反射率随温度的变化机理。研究结果表明,红外连续激光损伤环氧/硅树脂复合涂层,主要表现为底漆热解引发的鼓包分层和面漆热解导致的烧蚀变色;常温下涂层对1.3μm激光的反射率约为0.80,激光辐照初始时变化不明显,鼓包前后出现波动,测量区涂层鼓包、烧蚀后反射率显著下降,最终保持在一个相对较低值;反射率变化与涂层热解过程、损伤方式密切相关,涂层对1.3μm激光的反射率变化存在3个特征温度,分别对应底漆热解、面漆热解和表面状态趋于稳定时的温度。     

液体聚了二烯原位涂层研究”──Ⅱ．电活性铝离子的形成及其对PBA的凝聚作用

采用电量法和失重法，测定了裸洁Ａｌ电极在不同浓度、温度和ＰＨ值的聚丁二烯酸（ＰＢＡ）溶液中阳极溶解速度，确定了电活性Ａｌ（Ⅲ）离子的最佳形成条件及其对ＰＢＡ的凝聚作用规律．结果表明，在６０℃温度，ｐＨ＝３．０的０．６ｍｏｌ·Ｌ－１柠檬酸＋１．０ｇ·Ｌ－１ＰＢＡ溶液中产生的电活性铝离子对水溶性不饱和高分子低聚物的凝聚作用最强．简单讨论了这一电凝聚作用的机理．     

H_2及H~ 对C_xH_(1-x)薄膜表面状态的影响

系统研究了 H2 流量和 H 原位处理 Cx H1-x薄膜的时间对 Cx H1-x薄膜的稳定时间、表面悬挂键密度和表面电子局域化程度的影响 ,表明 Cx H1-x薄膜的长时间 H 原位处理是减小 Cx H1-x薄膜表面悬挂键密度的有效途径。     

电子束固化技术的现状和发展

概要介绍了国内外电子束（ＥＢ） 固化技术的现状；重点讨论了我国ＥＢ固化技术的发展方向及发展之路     

Method to accurate calibrate deposition rates of EUV multilayer coatings

Random thickness error is an important factor which effects the calibration accuracies of deposition rates for extreme ultraviolet （EUV） multilayer coatings fabricated by sputter deposition techniques. A least square fitting method is proposed to determine deposition rates and extract random thickness errors accurately. The validity of this method is shown by evaluating two deposition systems with control abilities of -0.1 nm and better than 0.01 nm respectively.     

光盘用2P胶应用研究进展

对光盘用２Ｐ胶的应用研究进展情况进行了评述，其中光盘制备用光聚合浮雕成型２Ｐ胶的基本组成为各类多官能团丙烯酸酯类单体；光盘保护涂层用２Ｐ胶主要组分为环氧丙烯酸酯类预聚体。