首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   738篇
  免费   288篇
  国内免费   64篇
化学   225篇
晶体学   8篇
力学   41篇
综合类   6篇
数学   30篇
物理学   780篇
  2024年   1篇
  2023年   5篇
  2022年   33篇
  2021年   39篇
  2020年   30篇
  2019年   33篇
  2018年   25篇
  2017年   24篇
  2016年   34篇
  2015年   39篇
  2014年   41篇
  2013年   56篇
  2012年   53篇
  2011年   73篇
  2010年   72篇
  2009年   61篇
  2008年   43篇
  2007年   61篇
  2006年   48篇
  2005年   59篇
  2004年   37篇
  2003年   47篇
  2002年   29篇
  2001年   19篇
  2000年   19篇
  1999年   21篇
  1998年   11篇
  1997年   9篇
  1996年   10篇
  1995年   8篇
  1994年   6篇
  1993年   8篇
  1992年   9篇
  1991年   2篇
  1990年   6篇
  1989年   5篇
  1988年   4篇
  1987年   2篇
  1986年   1篇
  1984年   2篇
  1981年   1篇
  1980年   2篇
  1975年   1篇
  1974年   1篇
排序方式: 共有1090条查询结果,搜索用时 15 毫秒
31.
The accuracy of ultrashallow depth profiling was studied by secondary ion mass spectrometry (SIMS) and high‐resolution Rutherford backscattering spectroscopy (HRBS) to obtain reliable depth profiles of ultrathin gate dielectrics and ultrashallow dopant profiles, and to provide important information for the modeling and process control of advanced complimentary metal‐oxide semiconductor (CMOS) design. An ultrathin Si3N4/SiO2 stacked layer (2.5 nm) and ultrashallow arsenic implantation distributions (3 keV, 1 × 1015 cm?2) were used to explore the accuracy of near‐surface depth profiles measured by low‐energy O2+ and Cs+ bombardment (0.25 and 0.5 keV) at oblique incidence. The SIMS depth profiles were compared with those by HRBS. Comparison between HRBS and SIMS nitrogen profiles in the stacked layer suggested that SIMS depth profiling with O2+ at low energy (0.25 keV) and an impact angle of 78° provides accurate profiles. For the As+‐implanted Si, the HRBS depth profiles clearly showed redistribution in the near‐surface region. In contrast, those by the conventional SIMS measurement using Cs+ primary ions at oblique incidence were distorted at depths less than 5 nm. The distortion resulted from a long transient caused by the native oxide. To reduce the transient behavior and to obtain more accurate depth profiles in the near‐surface region, the use of O2+ primary ions was found to be effective, and 0.25 keV O2+ at normal incidence provided a more reliable result than Cs+ in the near‐surface region. Copyright © 2007 John Wiley & Sons, Ltd.  相似文献   
32.
本文对直径为100mm带套筒构件埋地燃气管道绝缘接头的强度进行了计算和实验分析研究.计算研究中根据在符合实际工程下确定带套筒构件埋地燃气管道绝缘接头密封部位的应力和位移,以及对管道密封性能的影响;实验研究中根据对直径为100mm带套筒构件埋地燃气管道绝缘接头进行符合实际工况的试验,测量绝缘接头密封部位的应力和位移,以及密封圈的受损程度.对计算和实验结果进行分析比较,确定带套筒构件埋地燃气管道绝缘接头在装配中的最小预紧力,分析在不同因素作用下管道绝缘接头的安全性,并为其它直径类型带套管构件埋地燃气管道绝缘接头的设计提供可靠的依据.  相似文献   
33.
基于p-n结的光生伏特效应可构筑性能优异的UV探测器,本文采用水热法可控制备竖直排列的氧化锌纳米棒阵列(n型ZnO-NRs),利用原位聚合法在ZnO-NRs表面上修饰p型聚苯胺线膜(PANI-NWs),再组装成ZnO-NRs与ZnO-NRs/PANI-NWs紫外探测器.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、紫...  相似文献   
34.
 提出了一种数值分析同轴线-矩形波导结散射特性的模式匹配方法。采用同轴线和矩形波导的本征模函数表示电磁场分量,通过同轴线-矩形波导结截面横向场分量匹配获得波导结的散射参数,引入电场模式匹配矩阵的解析形式提高了计算效率。给出了基于模式匹配法数值仿真的各种同轴线-矩形波导结散射特性及仿真结果分析,并与3维全电磁波分析软件HFSS的仿真结果进行了比较,二者非常吻合。模式匹配法计算效率高,能广泛应用于微波毫米波元器件及系统结构的设计与优化。  相似文献   
35.
利用一种新的电路模型系统研究了约瑟夫森结(阵列)与谐振器的耦合效应.以结的电压自锁定台阶幅度ΔI为目标值,得到了谐振电路的电阻R、谐振频率fr对耦合的影响规律,并给出了合理解释;以结阵列的相位互锁定强度IL为目标,研究了IL对锁定电压VL的依赖关系,同时,通过相关计算将其与通常电路模型下得到的结果进行了比较.  相似文献   
36.
Superconducting qubits are Josephson junction-based circuits that exhibit macroscopic quantum behavior and can be manipulated as artificial atoms.Benefiting from the well-developed technology of microfabrication and microwave engineering,superconducting qubits have great advantages in design flexibility,controllability,and scalability.Over the past decade,there has been rapid progress in the field,which greatly improved our understanding of qubit decoherence and circuit optimization.The single-qubit coherence time has been steadily raised to the order of 10 to 100μs,allowing for the demonstration of high-fidelity gate operations and measurement-based feedback control.Here we review recent progress in the coherence and readout of superconducting qubits.  相似文献   
37.
The enhanced low-dose-rate sensitivity (ELDRS) and dose-rate dependence of vertical NPN transistors are investigated in this article.The results show that the vertical NPN transistors exhibit more degradation at low dose rate,and that this degradation is attributed to the increase on base current.The oxide trapped positive charge near the SiO2-Si interface and interface traps at the interface can contribute to the increase on base current and the two-stage hydrogen mechanism associated with space charge effect can well explain the experimental results.  相似文献   
38.
在He等人所做的嵌入到Fabry-Perot谐振腔中约瑟夫森结阵列的微波辐照研究基础上,提出了同时实现约瑟夫森结阵列阻抗匹配和相位锁定的方法,进行了相关的电磁仿真和数值计算.双晶约瑟夫森结阵列被制作在YSZ双晶基片上,同时被嵌入到Fabry-Perot谐振腔内.通过在基片上制作与结阵列集成的串联馈电半波偶极天线阵,并对其结构进行优化实现了结与天线的匹配,数值计算表明结的辐射效率达到94%;利用天线阵辐射场的特征和对模型合理的设计,使Fabry-Perot谐振腔和基片同时谐振在合适的模式下,从而使结阵列与谐 关键词: 约瑟夫森结阵列 阻抗匹配 相位锁定 Fabry-Perot谐振腔  相似文献   
39.
An ab initio analysis of the periodic array of Au/Si nanostructure composed of gold clusters linked to silicon quantum dot (QD) co-doped by aluminium and phosphorus along [111] direction is presented in this paper. The density functional theory (DFT) is used to compute the electronic structure of the simulated system. Non-adiabatic coupling implemented in the form of dissipative equation of motion for reduced density matrix is used to study the phonon-induced relaxation in the simulated system. The density of states clearly shows that the formation of Au–Si bonds contributes states to the band gap of the model. Dynamics of selected photo-excitations shows that hole relaxation in energy and in space is much faster than electron relaxation, which is due to the higher density of states of the valence band.  相似文献   
40.
高勇  马丽  张如亮  王冬芳 《物理学报》2011,60(4):47303-047303
结合SiGe材料的优异性能与超结结构在功率器件方面的优势,提出了一种超结SiGe功率二极管.该器件有两个重要特点:一是由轻掺杂的p型柱和n型柱相互交替形成超结结构,取代传统功率二极管的n-基区;二是阳极p+区采用很薄的应变SiGe材料.该二极管可以克服常规Si p+n-n+功率二极管存在的一些缺陷,如阻断电压增大的同时,正向导通压降随之增大,反向恢复时间也变长.利用二维器件模拟软件MEDICI仿真 关键词: 超结 锗硅二极管 n p柱宽度 电学特性  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号