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戴克城翟玥吴娜梅航张宏邾强强王乐 《发光学报》2022,(8):1188-1197
全无机铯铅卤钙钛矿因其优异的光电性能受到广泛关注。然而,薄膜较差的稳定性和制备中大量昂贵且有毒有机溶剂的使用,严重阻碍了其商业化应用进程。在本工作中,水溶液被用作配制含氯化钠(NaCl)的钙钛矿前驱液的溶剂。通过一步溶液法获得原位生长的NaCl/CsPbBr_(3)钙钛矿复合薄膜,并在该过程中引入二甲基亚砜(DMSO)溶液来优化其晶体结构及光学性能。研究表明,NaCl和DMSO的协同作用可以调控复合薄膜中晶粒的形貌、提高相纯度并增强荧光发射。当DMSO和前驱体溶液体积比为1∶2时,复合薄膜呈现出最佳的绿光发射,荧光量子效率达48.2%。此外,得益于NaCl的有效复合及优化的晶体结构,所制备的复合薄膜具有增强的稳定性。该设计思路有利于制备柔性、大面积和高稳定性显示用荧光转换薄膜。 相似文献
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TiO2 coatings are prepared on fused silica with conventional electron beam evaporation deposition. After annealed at different temperatures for four hours, the spectra and XRD patterns of TiO2 thin film are obtained. XRD patterns reveal that only anatase phase can be observed in TiO2 coatings regardless of the different annealing temperatures, and with the increasing annealing temperature, the grain size gradually increases. The relationship between the energy gap and microstructure of anatase is determined and discussed. The quantum confinement effect is observed that with the increasing grain size of TiO2 thin film, the band gap energy shifts from 3.4 eV to3.21 eV. Moreover, other possible influence of the TiO2 thin-film microstructure, such as surface roughness and thin film absorption, on band gap energy is also expected. 相似文献
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Effect of Annealing on Structural and Magnetic Properties of a Thick (Ga,Mn)As Layer 总被引:3,自引:0,他引:3 下载免费PDF全文
We investigate effects of annealing on magnetic properties of a thick (Ga,Mn)As layer, and find a dramatic increase of the Curie temperature from 65 to 115K by postgrowth annealing for a 500-nm (Ga,Mn)As layer.Auger electron spectroscopy measurements suggest that the increase of the Curie temperature is mainly due to diffusion of Mn interstitial to the free surface. The double-crystal x-ray diffraction patterns show that the lattice constant of (Ga,Mn)As decreases with increasing annealing temperature. As a result, the annealing induced reduction of the lattice constant is mainly attributed to removal of Mn interstitial. 相似文献
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据报道,日本Yasuhiko Nakagawa和Yasuo Gomi用磁控反应直流二极管溅射法将Ta_2O_5,沉积在石英基片上,得到了单晶薄膜,并且首次观察到了这种薄膜的压电现象.用叉指换能器在Ta_2O_5薄膜上成功地激发了声表面波.在Ta_2O_5/熔石英基片上,当薄膜厚度h在hk(=2πh/λ)=1.0时,其机电耦合系数k~2=0.5%,它可与熔石英基片上ZnO薄膜的机电耦合系数相比拟. 利用Ta_2O_5单晶的X射线衍射数据,推断出Ta_2O_5 相似文献
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