全文获取类型
收费全文 | 563篇 |
免费 | 576篇 |
国内免费 | 36篇 |
专业分类
化学 | 66篇 |
晶体学 | 82篇 |
力学 | 3篇 |
综合类 | 5篇 |
数学 | 7篇 |
物理学 | 1012篇 |
出版年
2024年 | 4篇 |
2023年 | 7篇 |
2022年 | 26篇 |
2021年 | 23篇 |
2020年 | 15篇 |
2019年 | 14篇 |
2018年 | 24篇 |
2017年 | 42篇 |
2016年 | 56篇 |
2015年 | 37篇 |
2014年 | 84篇 |
2013年 | 96篇 |
2012年 | 94篇 |
2011年 | 118篇 |
2010年 | 81篇 |
2009年 | 65篇 |
2008年 | 57篇 |
2007年 | 56篇 |
2006年 | 76篇 |
2005年 | 49篇 |
2004年 | 41篇 |
2003年 | 26篇 |
2002年 | 29篇 |
2001年 | 22篇 |
2000年 | 15篇 |
1999年 | 10篇 |
1998年 | 2篇 |
1997年 | 4篇 |
1995年 | 2篇 |
排序方式: 共有1175条查询结果,搜索用时 16 毫秒
51.
固态照明光源的基石--氮化镓基白光发光二极管 总被引:6,自引:0,他引:6
首先回顾了照明光源的简单历史 ,然后介绍了发光二极管 (LED)发展到大功率白光LED的历史 ,接着简述了国内外发展现状 ,主要技术路线及其特点 .最后阐述了作者在这方面的研究工作进展状况 ,对其发展趋势提出了一些看法 . 相似文献
52.
用卢瑟福背散射/沟道技术研究了p-GaN上的Ni/Au电极在氧气氛下相同合金温度(500℃)不同合金时间后的微结构演化,以揭示欧姆接触的形成机制.利用背散射随机谱和RUMP模拟程序研究了电极金属之间的互扩散,用沟道谱探测了电极金属中的氧分布.结合不同合金时间下比接触电阻ρc的变化,发现随着合金时间的延长比接触电阻持续降低,在合金时间60 s后降低的速度减慢, Au扩散到GaN的表面,在p-GaN上形成外延结构,O向电极内部扩散反应生成NiO对降低ρ关键词:
GaN
卢瑟福背散射/沟道
欧姆接触 相似文献
53.
The degradation mechanism of an AlGaN/GaN high electron mobility transistor under step-stress 下载免费PDF全文
Step-stress experiments are performed in this paper to investigate the degradation mechanism of an AlGaN/GaN high electron mobility transistor(HEMT).It is found that the stress current shows a recoverable decrease during each voltage step and there is a critical voltage beyond which the stress current starts to increase sharply in our experiments.We postulate that defects may be randomly induced within the AlGaN barrier by the high electric field during each voltage step.But once the critical voltage is reached,the trap concentration will increase sharply due to the inverse piezoelectric effect.A leakage path may be introduced by excessive defect,and this may result in the permanent degradation of the AlGaN/GaN HEMT. 相似文献
54.
基于第一性原理的密度泛函理论,研究了纤锌矿(In,Al)GaN合金的4种构型(均匀、短链、小团簇、团簇-链共存模型)的电子结构和发光微观机理。结果表明,在InGaN合金中,短In-N-链和小In-N团簇都局域电子在价带顶(VBM)态。当小团簇与短链共存时,前者局域电子的能力明显强于后者,是辐射复合发光中心。然而,在AlGaN合金中,电子在VBM态的局域受短Al-N链和小Al-N团簇的影响并不显著。合金微观结构的不同会引起电子局域的改变,从而影响材料的发光性能,并对带隙和弯曲系数有重要影响。 相似文献
55.
利用金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)生长了发射层厚度为150 nm、掺杂浓度为1.6×1017 cm-3的透射式GaN光电阴极,并在超高真空激活系统中对其进行了激活.通过多信息量测试系统进行了测试,发现透射式负电子亲和势(NEA)GaN光电阴极的量子效率曲线成一个"门"的形状,在255—355 nm波段有较大且平坦的响应,在290 nm处取得最大值为13%,由于AlN缓冲层对短波段光的吸收系数较大,在小于255 nm的波段量子效率出现了下降,当波长大于3
关键词:
透射式
NEA GaN光电阴极
量子效率 相似文献
56.
Luminescence of a GaN grain with a nonpolar and semipolar plane in relation to microstructural characterization 下载免费PDF全文
We report on the growth of the high-quality GaN grain on a r-plane sapphire substrate by using a self-organized SiN interlayer as a selective growth mask.Transmission electron microscopy,scanning electron microscopy,and Raman spectroscopy are used to reveal the effect of SiN on the overgrown a-plane GaN growth.The SiN layer effectively terminates the propagation of the threading dislocation and basal plane stacking faults during a-plane GaN regrowth through the interlayer,resulting in the window region shrinking from a rectangle to a "black hole".Furthermore,strong yellow luminescence(YL) in the nonpolar plane and very weak YL in the semipolar plane on the GaN grain is revealed by cathodoluminescence,suggesting that C-involved defects are responsible for the YL. 相似文献
57.
58.
利用金属有机气相外延方法研究了非故意掺杂GaN薄膜的方块电阻与高温GaN体材料生长时载气中N2比例的关系.研究发现,随着载气中N2比例的增加,GaN薄膜方块电阻急剧增加.当载气中N2比例为50%时,GaN薄膜方块电阻达1.1×108Ω/□,且GaN表面平整,均方根粗糙度为0.233nm.二次离子质谱分析发现,载气中N2比例不同的样品中碳、氧杂质含量无明显差别.随着载气中N2比
关键词:
半绝缘GaN薄膜
载气
金属有机气相外延
位错 相似文献
59.
60.
Electric-stress reliability and current collapse of different thickness SiNx passivated AlGaN/GaN high electron mobility transistors 下载免费PDF全文
This paper investigates the impact of electrical degradation and current collapse on different thickness SiNx passivated AlGaN/GaN high electron mobility transistors.It finds that higher thickness SiNx passivation can significantly improve the high-electric-field reliability of a device.The degradation mechanism of the SiNx passivation layer under ON-state stress has also been discussed in detail.Under the ON-state stress,the strong electric-field led to degradation of SiNx passivation located in the gate-drain region.As the thickness of SiNx passivation increases,the density of the surface state will be increased to some extent.Meanwhile,it is found that the high NH 3 flow in the plasma enhanced chemical vapour deposition process could reduce the surface state and suppress the current collapse. 相似文献