ZnO纳米线的制备

利用磁控溅射技术在Si衬底上沉积的锌膜进行热氧化后,得到一维ZnO纳米线。     

Effect of void formation during MEVVA tungsten ion implantation on the microstructure and surface properties of H13 die steel

H13 die steel was implanted with tungsten using a metal vapour vacuum arc (MEVVA) ion source. When the pulsed beam current density of tungsten ions increased to 6mA?cm^-2, some voids appeared in the high voltage electron microscope (HVEM) micrograph, which would disappear at an annealing temperature of 600℃. HVEM and x-ray diffraction were used for observing the phase structure of the annealed and un-annealed H13 steel after the steel was implanted. Results of wear and hardness tests indicated that whether the voids appear significantly influences the hardness and wear of H13 steel. Reasons for the formation of voids and the relation between the surface mechanical property and voids are discussed in terms of collision theory.     

YBa2Cu3-xFexOy的离子配位与结构转变

本文用穆斯堡尔效应、X射线衍射等手段,系统研究了掺铁的YBa₂Cu_3-xFe_xO_y(0.01≤x≤0.2)超导氧化物经过不同温度真空退火后超导转变温度T_c、相结构、氧含量与氧配位之间的关系,结果表明,铁主要占Cu(1)位,铁含量的增加和高温真空退火都引起正交相向四方相转变,T_c逐渐减小至零,但这两种转变过程的铁的配位结构和氧含量却不相同,对前者,相变是与出现相当数量的六配位F 关键词：     

小碳团簇结构的从头算分子动力学模拟

引入第一原理密度泛函理论, 即赝势密度泛函在实空间的有限差分方法和朗之万分子动力学退火技术, 对碳团簇Cn(n=2-8)的基态结构进行了理论计算, 所得结果与其他作者的计算结果及实验数据吻合较好.     

退火温度对a-Se0.70Ge0.15Sb0.15薄膜的结构和光学性质的影响

研究了退火温度对Se0.70Ge0.15Sb0.15薄膜的影响.通过热蒸发技术,在300K温度下将大块无定形Se0.70Ge0.15Sb0.1s沉积在石英和玻璃衬底上.研究发现,未经过退火处理的薄膜结构和在300K,1.33×10-5Pa下退火1小时后的薄膜结构都是无定形结构,而在同样气压470K温度下退火1小时的薄膜有结晶现象.通过在300 2 500nm范围内垂直入射光方向上透射率和反射率的测试,研究了薄膜的一些光学参数,如消光系数(k),折射系数(n)和吸收系数(a).研究发现,n和k同热处理温度有关.通过光学数据的分析,得到了不同条件下薄膜的间接带隙宽度(Enong),未经过热处理薄膜的Enong是1.715±0.021eV,300K下退火薄膜的Enong是1.643±0.021eV,470K下退火的Enong是1.527±0.021eV.退火温度降低了带隙宽度Enong,但增加了带尾eo这种效应可以根据Mott和Davis提出的多晶体系中态密度来解释.     

退火过程的轨道性质

本文中我们建立了一些非时齐过程的大偏差性质．利用大偏差技术，我们找到了退火过程的ω－极限集．     

退火处理提高P3HT:PCBM聚合物太阳能电池光伏性能

利用旋转涂膜方法制备了以P3HT:PCBM为有源层的聚合物太阳能电池, 器件结构为ITO/PEDOT:PSS/P3HT:PCBM/Al(氧化铟锡导电玻璃/聚二氧乙基噻吩:聚对苯乙烯磺酸/聚三已基噻酚:富勒烯衍生物/铝),研究了退火温度对聚合物太阳能电池性能的影响. 实验发现: 聚合物薄膜经过120 °C退火10 min处理后, 开路电压(V_oc)达到0.64 V, 短路电流密度(J_sc)为10.25 mA·cm^-2, 填充因子(FF) 38.1%, 光电转换效率(PCE)达到2.00%. 为了讨论其内在机制, 对不同退火条件下聚合物薄膜进行了各种表征. 从紫外-可见吸收光谱中发现, 退火处理使P3HT在可见光范围内吸收加强且吸收峰展宽, 特别是在560和610 nm处的吸收强度明显增大; X射线衍射(XRD)结果表明, 120 °C退火后P3HT在(100)晶面上的衍射强度是未退火薄膜的2.8倍, 有利于光生载流子的输运; 原子力显微镜(AFM)研究结果表明, 退火显著增大了P3HT与PCBM的相分离程度, 提高了激子解离的几率; 傅里叶变换红外(FTIR)光谱验证了退火并没有引起聚合物材料物性的变化.