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11.
ZnO薄膜的椭偏和DLTS特性 总被引:2,自引:1,他引:1
用射频磁控溅射在硅衬底上淀积氧化锌薄膜,并对样品分别作氮气、空气、氧气等不同条件下退火处理。为研究退火气氛对ZnO/Si薄膜中缺陷以及折射率的影响,由深能级瞬态谱(DLTS)以及椭偏测量方法进行了检测。椭偏测量结果表明相对原始生长的样品,在氮气和空气退火使ZnO薄膜折射率下降,但氧气中退火使折射率升高。我们对折射率的这种变化机理进行了解释。DLTS测量得到一个与Zni**相关的深能级中心E1存在,氧气气氛退火可以消除E1能级。在氮气退火情况下Zn*i*的存在对抑制VO引起的薄膜折射率下降有利。 相似文献
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电子束蒸发制备ZnO薄膜及其晶体结构和电学性质 总被引:1,自引:0,他引:1
采用电子束蒸发法制备了ZnO薄膜。研究了退火温度及衬底对薄膜的结晶状况以及电学性质的影响.X射线衍射测试结果表明。相同蒸发条件下制备的ZnO薄膜,硅(100)衬底上薄膜晶粒尺寸为73nm。结晶情况明显好于陶瓷和玻璃衬底上的薄膜.退火之后,各种衬底上薄膜的结晶情况相对未退火时都有明显好转;400℃退火时。薄膜逐渐结晶;600℃退火时,ZnO薄膜体现良好的择优生长的趋势,晶粒长大,晶化程度提高,大部分晶粒发生了织构.在400℃退火后。掺入Al2O3的薄膜和未掺杂的ZnO薄膜的电阻率下降了一个多数量级,但掺入MgO的薄膜电阻率变大。这是由于MgO掺杂起到了补偿作用,掺入MgO有可能实现ZnO薄膜的P型掺杂. 相似文献
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利用电沉积硒气氛下后续退火的工艺制备出了高结晶质量的铜铟硒薄膜.通过X射线衍射、扫描电子显微镜、拉曼光谱、紫外-可见-近红外光谱和阻抗谱技术对退火后的铜铟硒薄膜进行表征,结果表明530 oC硒化退火后的铜铟硒薄膜具有四方的黄铜矿晶体结构,晶粒尺寸达到微米量级,光学带隙为0.98 eV,经过KCN溶液去除表面高导电性的铜硒化合物后铜铟硒薄膜的载流子浓度在1016 cm-3量级.利用硒化退火的铜铟硒薄膜作为光吸收层制备了结构为AZO/i-ZnO/CdS/CIS/Mo/glass的太阳能电池,在AM1.5光照条件下对其电流-电压特性测试后发现面积为0.2 cm2的电池可以达到0.96%的能量转换效率,并对限制电池效率的原因做出了初步的分析和讨论. 相似文献
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以基于准位相匹配和频与差频级联二阶非线性[X^(2):X^(2)]基础上的全光开关的理论分析作指导,进行了周期极化铌酸锂晶体(PPLN)和退火质子交换光波导(APE)的实验制备,利用所研制的PPLN-APE器件,以自行研制的工作波长为1.54μm的被动调Q掺钴铝酸镁激光器作为控制光源,以工作波长为1.5μm的连续二极管激光器为信号光源进行了级联二阶非线性全光开关实验。当控制光峰值功率为3kw,信号光功率为1mW时,实现13%的开关效率,分析了进一步提高全光开关性能的途径。 相似文献
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