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81.
本文用Tl(I)离子选择性电极测定了Tl^3^+-H2O2-Fe^2^+体系的反应参数, 据此计算了该体系的反应级数, 得到了反应速率方程式, 对该反应体系的反应机理进行了探讨, 并用稳态处理法对所提出机理进行验证, 其结论与实验所得速率方程完全符合。  相似文献   
82.
利用单滴法对三种表面活性剂的液膜体系的稳定性进行了研究,重点考察了载体的影响,讨论了介质与表面活性剂,介质与载体,载体与表面活性剂的相互作用对液膜稳定性的影响,并根据膜强度数据,给出了液膜稳定的条件。  相似文献   
83.
镀金层识别及其厚度测定的X—荧光强度比值法   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用Au原子在X射线激发下所发射的Lβ线和M线的强度比值识别样品是镀金还是K金,同时利用这个比值测定镀金层的厚度,镀金层厚度的测定范围为0~4μm,测定值与标定值的相对误差小于15%。  相似文献   
84.
SO_4~(2-)/ZrO_2超强酸制备方法的改进   总被引:1,自引:0,他引:1  
用BET、XRD、流动指示剂法、化学分析、低温正丁烷异构化反应等手段研究了制备条件对ZrO2前驱体和SO/ZrO2超强酸性能的影响.实验结果表明,采用不同的制备条件,ZrO2前驱体的比表面可相差1.8倍,SO/ZrO2的酸强度相差约1000倍.SO/ZrO2的正丁烷异构化反应活性相差约300倍.ZrO2最高比表面可达245m2/g,SO/ZrO2酸强度为H0≤-1.60,20℃时SO/ZrO2正丁烷异构化反应速率常数为15.5×10-3h-1。  相似文献   
85.
带裂缝服役是工程结构的常态,由于流体侵入到裂缝内部,裂纹面直接受荷,使得裂缝进一步扩展,甚者影响结构的安全性.广义参数Williams单元(简记W单元)在分析断裂问题中,利用Williams级数建立裂尖奇异区的位移场,通过求解广义刚度方程可直接获得应力强度因子(stress intensity factors,SIFs),具有高精高效性;但W单元需满足奇异区内裂纹面自由的边界条件,故在分析裂纹面加载的问题中受限.该文基于SIFs互等,在等效奇异区范围中,将裂纹面的荷载等效为奇异区外围边界裂纹面上的集中力,避免奇异区内裂纹面受荷,故采用W单元即可简便计算.算例分析表明:等效奇异区尺寸取裂纹长度的1/20,等效荷载系数P建议取2.0,W单元计算精度均满足1%的误差限,证明该文在奇异区裂纹面受荷等效处理方法上具有合理性、通用性,克服了W单元在分析裂纹面加载问题的局限性.  相似文献   
86.
等离子体辐照的聚乙烯表面接枝交联共聚合   总被引:1,自引:1,他引:1  
聚合物利用低温等离子体预辐照进行表面接枝共聚合已有报道.此方法的优点是接枝层被限制在聚合物表面,辐照过程对基材本体性质无影响,且整个过程对环境无污染. 用等离子体使聚合物表面产生自由基,不需要表面具有不饱和键或特殊官能团,因而适用于任何聚合物,甚至于一些无机物如玻璃等.利用等离子辐照后暴露于空气的聚合物表面上生成的过氧自由基或过氧化物进行接枝反应,一般接枝量不大.本工作中,我们自己设计了反应器,以超高分子量聚乙烯(UHMWPE)为基材,以甲基丙烯酸甲酯(MMA)为接枝单体,在无氧条件下利用等离子体辐照产生的表面自由基进行了接枝聚合,产物接枝量高达10%.还用顺磁共振技术对表面自由基性质及其在接枝过程中的行为进行了跟踪研究.  相似文献   
87.
采用变温红外光谱研究了尼龙1216的Brill转变并测得Brill温度约为150℃。一些α谱带在转变过程中消失,氢键强度也急剧减弱。这些现象证明了Brill转变的“局部熔融”机理。  相似文献   
88.
用超分子MP4方法和大基组(aug-cc-pVTZ)及键函数得到He-N2O体系的分子间从头算势能面及偶极矩面.用离散变量表象方法计算了^4He-N2O及^3He-N2O体系的振转能级,并进一步计算得到其振转跃迁强度,计算结果很好地解释了实验现象。  相似文献   
89.
<正> 可溶性含酚酞侧基聚芳醚酮(PEK-C)是一种新型的具有耐高温、耐水解、耐化学腐蚀、自润滑性能的工程塑料,它具有如下结构:  相似文献   
90.
氮化硅(Si3N4)是近三四十年发展起来的一种新型陶瓷材料,应用广泛[1-3],化学性质特别稳定,一般情况下难以发生反应,鲜有人研究其化学性质。有研究[3]指出氮化硅在磨擦条件下能与水发生如下反应:Si3N4+6H2O→3SiO2+4NH3,但却无人专门定量地研究过氮化硅在水溶液中的反应性能,为此本文研究了氮化硅在超声波辐照条件下的水解情况,并且还和强力搅拌条件下的结果进行了对比。1 实验部分1 1 主要仪器与试剂超声波清洗器(KQ-218型,KQ-250B型,CX-250型,CK-25-06型)BF-101B型磁力搅拌器,72型分光光度计,氮化硅(>99 9%,α Si3N4>95%)…  相似文献   
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