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991.
本工作建立了室温下用凝胶色谱法(GPC)测定聚2,6-二甲基苯醚(PPO)树脂分子量、分子量分布的方法。淋洗剂不采用文献申报道的毒性较大者,也不在较高柱温下进行,而采用甲苯(或氯仿)在室温下测定。对样品在甲苯中溶解温度、浓度和稳定性等都进行了系统研究,找到了最优化条件。GPC数据结合改性PPO(MPPO)产品性能测定结果,经仔细分析找到了影响MPPO产品质量的一个重要因素是PPO树脂中低分子量部分含量。它与产品冲击强度有明显的依赖关系。提出了一个从CPC谱图确定低分子量部分含量的方法。  相似文献   
992.
本文通过X-射线光电子能谱(XPS)、表面接触角、表面ξ电位和血液相容性实验,研究了聚(醚-酯)多嵌段共聚物及其共混物的表面组成和性质与血液相容性的关系。实验结果表明,疏水性的PET-PTMO多嵌段共聚物的血液相容性很差,并且与表相中软段的富集量无关;当亲水性的PET-PEO多嵌段共聚物与疏水性的PET-PTMO多嵌段共聚物共混后,发现存在着一个最佳的共混比例,此时材料表面的血小板粘附量大大降低。对于共混物,表相△[C—O)/[C—O]和表面ξ电位可以较好地与血小板粘附量相关联。以上结果清楚地表明,材料表面的亲-疏水性平衡、软段深度层次分布及表面电位是影响血液相容性的重要因素。  相似文献   
993.
用pH法在25.0±0.1℃,I=0.1mol·dm-3KNO3条件下,测定铜(Ⅱ)-4-(吡啶-2′-甲基)-1,4,7,10-四氮杂环十三烷-11,13-二酮-α-氨基酸(5-取代邻菲罗啉)三元配合物的稳定常数;比较了带吡啶甲基二氧四胺大环配体和二氧四胺大环配体与Cu(Ⅱ)的配位能力、配位方式;研究了该三元体系配合物稳定性与配体α-氨基酸酸碱强度之间的直线自由能关系;探讨了Cu(Ⅱ)和5-取代邻菲罗啉之间的d-p反馈π键以及邻菲罗啉取代基Hammett诱导效应与该三元配合物稳定性之间的关系。讨论了4-(吡啶-2′-甲基)-1,4,7,10-四氮杂环十三烷-11,13-二酮和4-(喹啉-2′-甲基)-1,4,7,10-四氮杂环十三烷-11,13-二酮与Cuxphen所形成配合物的不同空间结构及其对配合物稳定性产生的影响。  相似文献   
994.
杨勇  李骏 《电化学》1996,2(4):363-371
贮氢合金材料电化学与表面性能的研究进展①杨勇李骏林祖赓(厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,厦门361005)八十年代后期以来,人们对地球的环境保护提出了更高的要求,而便携式电器(如移动电话,摄像机与笔记本电脑等)对电池的需求也大量增加...  相似文献   
995.
合成了3个系列芳香类含碳一氧键的化合物,用循环伏安法测定了相关的氧化还原电势,通过热力学循环首次估测了负离子基的碳-氧键的断裂能量(ΔHcleav[C-O]·-).结果表明:得到1个电子形成负离子基可以活化碳-氧键。这与具有相同结构的正离子基的情况是一致的,但其活化程度略小。相关分析表明:ΔHcleav[C-O]·-vs(ΔEred[C-O]+ΔpKa[HA])和ΔHcleav[C-O]·+vs.(ΔBDE-ΔEox[C-O])均呈线性。讨论了负离子基和正离子基及其母体化合物中键的特征,并与文献中有关的键能数据进行了比较。  相似文献   
996.
用~1HNMR相对化学位移计算CyDTA金属配合物乙羧基键合几率的方法宋瑞方,李菲,刘广民,毛友钢(吉林大学理论化学研究所分子光谱与分子结构开放实验室,长春,130023)关键词MCyDTA,乙羧基键合分布几率,标准自由能胺羧金属配合物一般为正八面体?..  相似文献   
997.
直接计数法模拟聚合物链自由能赵得禄,周学东(中国科学院化学研究所北京100083关键词模拟计算,构象熵,自由能在高分子溶液和共混体系的模拟中,体系的自由能和熵的计算是一个长期未解决的问题.近年来我们建立了链构象的统计计数法,用来计算高分子无热体系的构...  相似文献   
998.
用UHF/4-31G基组,全构型优化OCH=CHR(R=H,BH2,CN,F,OH,NH2)6个氧自由基的构型并研究其稳定性化能△E,以OCH=CH2自由基为参考标准,它们的○E分别为0.00,-75.97,1.11,0.76,22.06和40.65kJ/mol,说明供电子基团OH和NH2对氧自由基起稳定化作用,BH2对氧自由基起去稳定化作用,而CN和F对氧自由基的稳定性影响不大。  相似文献   
999.
1000.
The photoionization spectroscopy of Si(CH3)3Cl in the range of 50 -130 nm was studied with synchrotron radiation source. The adiabatic ionization potentials of molecule Si(CH3)3Cl and radical Si(CH3)3 are 10.06 ±0.02 eV and 7.00±0.03 eV respectively. In addition, the appearance potentials of Si(CH3)2Cl+, Si(CH3)3+, SiCl+ and SiCH3+ were determined:
AP(Si(CH3)2Cl+) =10.49±0.02eV, AP(Si(CH3)3+) = 11.91 ±0.02eV
AP(SiCl+) = 18.64 ±0.06eV, AP(SiCH3+)= 18.62 ±0.02eV
From these, some chemical bond energies of Si(CH3)3Cl+ were calculated:
D(Si(CH3)2Cl+ - CH3) =0.43 ±0.02eV, D(Si(CH3)3+ - Cl) = 1.85 ± 0.02eV
D(SiCH3+ - (2CH3 + Cl)) = 8.56 ± 0.06eV, D(SiCH3+ - 2CH3) =6.71±0.06eV
D(SiCl+ - 3CH3) = 8.58 ± 0.06eV, D(SiCl+- 2CH3) = 8.15 ±0.06eV
D(SiCH3+- (CH3 + Cl)) =8.13 ±0.06eV  相似文献   
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