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采用侧面紫外火花隙自动预电离代替小极上小孔预电离,使放电泵浦氟化氪激光器的主放电均匀性大为改善。输出激光能量由140mJ提高到250mJ,增益区光能密度为2.3J/1,同时电极寿命和气体寿命也大为提高。 相似文献
184.
HL—1装置的低q放电实验 总被引:3,自引:3,他引:0
装置获得的最低qL值是衡最托卡马克磁流体不稳定性的控制水平的重要品质参数.通过精细调节补充送气和电流上升率的方法控制电流密度分布,使用钛吸气方法控制边缘等离子体参数,HL-1装置获得了最低qL值为1.8的稳定等离子体。实验结果表明,若电流上升率与密度上升率之比为(23—40)×10~(-19)kA·m~3的范围内,最利于获得低MHD增长率的稳定放电。预计这与中心q(0)<1峰化的电流密度分布有关。 相似文献
185.
利用沿面放电发生器装置,在流动氩气中实现了大气压辉光放电。放电电流波形表现为外加电压每半周期只有一个电流脉冲。驱动电压频率是60kHz时,放电电流脉冲持续时间大于1微秒。氩气中的辉光放电,功率消耗随着外加电压增加或者是气压减小而增大,这种关系可以用汤生击穿理论定性解释。与此对比,大气压空气中的放电电流波形为外加电压每半周期放电为许多脉冲,每个电流脉冲为高频阻尼振荡,这就是赝辉光放电。大气压空气中的赝辉光放电可能是由于气体的流光击穿造成的。 相似文献
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187.
188.
采用流体模型对等离子体电极普克尔盒(PEPC)电光开关单脉冲过程进行了数值模拟分析.模型包括带电粒子连续性方程、动量守恒方程、电子平均能量方程及空间电位泊松方程.分别采用隐式指数差分格式,超松弛迭代法(SOR)和经典四阶龙格-库塔法(R-K)对带电粒子连续性方程,泊松方程和电子平均能量方程进行数值求解.模拟分析了PEPC单脉冲过程中的带电粒子浓度、电子温度、空间电场、PEPC的放电电流、晶体两侧电压和开关效率的时间演化特性.模型得出了PEPC中气体放电等离子体的微观物理过程与PEPC宏观参量的关系,对设计
关键词:
等离子体电极普克尔盒
电光开关
数值模拟
气体放电 相似文献
189.
Surface Acoustic Wave Characterization of Equivalent Young's Moduli for Patterned Films北大核心CSCD
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Based on the equivalent elasticity theory for layered materials, the micro-mechanics equivalent models for single and dual damascene structures were established. The equivalent elastic constant of the patterned structure was introduced, to establish the propagation model for the surface acoustic waves propagating in the layered structure of the patterned film/ substrate, and the theoretical dispersion curves of the surface acoustic waves were calculated with Green’s function and the matrix method. The finite element method was used to calculate 24 numerical examples of damascene structures with different volume ratios, and the results were compared with those of the strain energy method. The results show that, the average relative errors of the equivalent Young’s moduli of the 300 nm-thick dual damascene film and the 100 nm-thick single damascene film are 2.06% and 2.27%, respectively. The research verifies the correctness of the equivalent patterned structure model and the feasibility of the surface acoustic wave method to characterize the mechanical properties of patterned films, and provides a reference for the development of suitable chemico-mechanical polishing technologies for patterned films under low pressure. © 2023 Editorial Office of Applied Mathematics and Mechanics. All rights reserved. 相似文献
190.