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141.
以发射光谱法为基础,检测了常压状态线-板式脉冲电晕放电过程OH自由基在反应器内的空间分布;研究了线电极直径,线线间距以及线板间距对生成OH自由基的影响;从而明确脉冲电晕放电反应器的性能。结果显示:OH自由基浓度沿线电极X轴方向逐渐降低,活化区域半径20mm左右,沿Y轴方向先升高后降低,活化区域半径大于30mm;线电极的直径小于2mm时,OH自由基的光谱强度基本不变,线电极直径继续增大,发射光谱强度随之迅速下降。线线间距逐渐增大,OH自由基的发射光谱强度随之增强。OH自由基的发射光谱强度随着线板间距的增大而降低。 相似文献
142.
借助于基片下方放置的磁铁,在溅射的放电空间中引入了纵向的梯度磁场,辉光放电时,其外貌发生了显著的收缩,由此沉积的薄膜在平面内存在明显的厚度梯度,用磁场中带电粒子的运动理论解释了此种薄膜的形成机制。 相似文献
143.
144.
145.
辉光放电中处理聚四氟乙烯表面:Ⅱ,ESR研究PTFE膜自由基 总被引:1,自引:1,他引:0
在外部电极电容耦合式反应装置中,对聚四氟乙烯(PTFE)膜进行了辉光放电处理。通过电子自旋共振(ESR)谱研究了PTFE在处理过程中所产生的自由基,着重讨论了温度对ESR谱的影响。最后,以DPPH为内标,测定了处理后PTFE膜的自由基浓度,并考察了自由基在空气中的衰减情况。 相似文献
146.
147.
预试环中H_2及掺杂甲烷的辉光放电清洗 总被引:1,自引:1,他引:0
曾建尔 《核聚变与等离子体物理》1986,(2)
本文给出了在预试环中产生和维持辉光放电的基本参数、氢气(H_2)及氢气掺杂甲烷(H_2/CH_4)辉光放电清洗过程中的质谱分析结果以及氢气辉光放电清洗处理后的样品表面SIMS(二次离子质谱)结果,并进行了讨论。 相似文献
148.
等离子体放电中的滞后,分岔和多次上跳现象 总被引:3,自引:2,他引:1
滞后现象很早就在放电管的伏安曲线上被发现。近年来的研究发现,这种非线性现象存在于多种等离子体放电过程中并伴随着一些不稳定性出现,Knorr利用简单的突变模型对这种现象作了定性的描述。王海达等改进了Knorr的简单模型,以便对他们观察到的三稳现象作唯象的解释。我们在实验中仔细观察了放电伏安特性随气压的变化,发现随着气压的升高,伏安特性逐渐由单稳过渡到简单的滞后,随机分岔、然后再演变成二次上跳、三次三跳。 相似文献
149.
坡印亭矢量不仅适合迅变电磁场,而且也适合稳恒场,本文利用坡印亭矢量讨论了平行板电容器充放电过程中板间静电场能的变化规律。 相似文献
150.
Tuning Effect on the Electron Energy Distribution Function of an Inert Gas Mixture in nitrogen Inductively Coupled Plasma Discharges
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By using a Langmuir probe, the electron energy distribution function (EEDF) is measured in inductively coupled plasma discharges in N2/Ar mixtures at 200W rf powers. In pure N2 discharges a Maxwellian EEDF is observed.When the mixing ratio of Ar increases, the distribution of high-energy electrons evolves with a different trend from that of low-energy electrons, resulting in an apparent “two temperature structure” of the EEDF. We discuss this non-Maxwellian EEDF and its effect on the measurement and the interpretation of “electron temperature”by both the probe and line ratio technique. 相似文献