运用分子模拟计算和NMR研究确定化合物3-(3,5-二甲基-2-吡咯亚甲基)-5-溴-吲哚酮的绝对构型

用MM2和半经验AM1方法对化合物进行计算,获得化合物两种构型的原子间距离参数,依据¹H NMR产生NOE效应所需条件预报分子中可能存在的NOE.通过与实验测得的核磁共振NOE效应结果对比,确定化合物构型.     

基于极化拍频激光绝对频率与原子能级差的测量方法研究

研究级联三能级系统中的极化拍频技术哪现其对能级差的测量精度决定于学跃迁的均匀增宽,在符合拍频条件下,两独立光源拍频的频差可以超出激光线宽,激光绝对频率的测量精度可达到与激光线宽同一量级。     

自发参量下转换双光子场绝对校准光电探测器的方法研究

讨论了一种基于自发参量下转换双光子场绝对校准光电探测器灵敏度的新方法,着重推导了对自发参量下转换过程中产生的单光子的探测概率和双光子的符合速率,从而阐明了绝对测量光电探测器量子效率的原理.基于这一方法对光子计数型光电倍增管的响应灵敏度进行了测量,并将实验结果与常规方法测得的结果进行了比较. 关键词：     

外开槽同轴波导大轨道回旋自谐振脉塞放大器

 运用大轨道电子束,对外开槽同轴波导回旋自谐振放大器进行了线性动力学理论分析和非线性自洽模型模拟。由线性动力学理论分析和非线性模拟得到的结果在线性增长部分吻合得很好。为了有效抑制绝对不稳定性,对电子束流的选择进行了讨论。计算结果表明：对于电压为700 kV, 电流为100 A, 电子束纵横向速度比为0.8的大轨道电子束, TE₅₁外开槽同轴波导回旋自谐振脉塞放大器的峰值功率和峰值效率分别可以达到6.27 MW和8.96%。     

EAST快速极紫外光谱仪绝对强度的原位标定

磁约束等离子体中杂质(特别是高Z杂质)的存在将大大增强等离子体辐射功率损失,破坏等离子体的约束性能。杂质行为的定量研究首先要求对杂质测量的光谱诊断系统进行绝对强度标定,获得灵敏度响应曲线。介绍了EAST托卡马克上的快速极紫外光谱仪系统绝对强度的原位标定方法。在波长范围20～150Å内,通过对比极紫外(EUV)波段连续轫致辐射强度的计算值和测量值得到光谱仪的绝对强度标定。在此过程中,首先由(523±1) nm范围内可见连续轫致辐射强度的绝对测量值计算出有效电荷数Z_eff,进而结合电子温度和密度分布计算EUV波段连续轫致辐射强度;EUV波段连续轫致辐射强度的测量值即为不同波长处探测器的连续本底计数扣除背景噪声计数值。对于较长波段范围130～280Å,通过对比等离子体中类锂杂质离子(Fe23+,Cr21+,Ar15+)和类钠杂质离子(Mo31+,Fe15+)发出的共振谱线对(跃迁分别为1s22s 2S_1/2-1s22p 2P_{1/2, 3/2}及2p63s 2S_1/2-2p63p 2P_{1/2, 3/2})强度比的理论和实验值进行相对强度标定。其中共振谱线对强度比的理论值由辐射碰撞模型计算得到,模型中处在各个能级的离子数主要由电子碰撞激发,去激发以及辐射衰变三个过程决定。两种方法相结合,实现了光谱仪20～280Å范围的绝对强度标定。考虑轫致辐射、电子温度及电子密度的测量误差,绝对标定误差约为30%。在绝对标定的基础上,我们对杂质特征谱线强度进行绝对测量,并将测量结果与杂质输运程序结合ADAS(Atomic Data and Analysis Structure)原子数据库计算得到的模拟值进行比较,进而估算等离子体中的杂质浓度。     

关于变时滞Lur’e间接控制系统的绝对稳定性

本文研究了变时滞Lur’e间接控制系统的绝对稳定性.利用M-矩阵性质及不等式技巧,通过引进可调参数,得到了变时滞Lur’e间接控制系统与时滞相关绝对稳定性新的充分条件.文中的结论推广和改进了已有文献中相应结果.     

K(a)hler流形上的Lagrange力学

讨论了K(a)hler流形上的Lagrange力学,并给出Lagrange算子、Lagrange方程、作用泛函、Hamilton原理和Hamilton方程等复的数学形式.     

α—取代桂皮酰胺类化合物~1H NMR、UV及顺反构型的研究

本文报道了24个α被13种基团取代的桂皮酰胺类化合物的_1H NMR和UV数据。用经验公式计算了β-H的化学位移。结果表明,其测定值与计算值的比较可用于推断这类化合物的顺反构型。它们苯基上质子的化学位移也可为判断构型提供依据。对于成对的化合物,酰胺氮上质子的化学位移及紫外光谱亦有助于判断构型。     

太阳米粒结构相关哈特曼-夏克波前传感模拟研究

基于互相关因子和绝对差分算法以及相关哈特曼－夏克波前传感器的基本原理，根据室内模拟太阳米料结构研究了低对比度扩展目标情况下应用相关哈特曼－夏克波前传感器探测波前误差的可行性，结果表明，相关哈特曼－夏克波前传感器能够有效探测光学波前误差。     

光学材料光学不均匀性绝对测量误差分析

绝对测量技术去除了干涉仪参考面面形误差,可实现光学材料光学不均匀性的高精度测量。对现有主要光学材料光学不均匀性绝对检测技术进行了总结比较,针对像素错位、干涉图分辨率、干涉仪测量重复性、样品厚度以及折射率测量等因素对光学不均匀性绝对检测的影响进行了实验分析。实验结果表明:干涉仪重复性是光学不均匀性测量的主要误差。样品翻转测量法、样品直接透射测量法、平行平板样品测量法3种测量方法均可实现光学不均匀性（RMS）10-8检测精度。